RENA技术说明中文版（InOxSide）综述：●用于156×156+/-0.5mm,和125×125+/-0.5mm的正方硅晶片●在正常速度每分钟0.8m下,运输速率在每分钟0.5到1.5m之间●156 mm的晶片有5条传输线,正常速度为每分钟0.8m, 传输中,在两个底面有个15mm的缺口,在以上条件下,可以实现大约每小时1400个电池片的生产量.●在操作工角度,其工作方向是从左到右●各种介质供应和排气连接都位于顶部-------HF,HNO3,KOH,H2SO4:双管●以重力排水●所有管道都在基本主体中●与CE标准相符1基本主体●材料为白色PP●基本主体的长度大约为6720mm,总长度(包括输入和输出站) 大约为7968 mm,深度大约为2440 mm,高度大约为2150 mm,包括在机器顶部的排气管在内的总高度大约为3065 mm.●不锈钢断面加固●由两部分组成●设备底部为安全面板----倾斜至设备底部-----带泄露传感器●调节尺材料为不锈钢●前端可移动配电盘,材料为白色PP●后端可移动配电盘,材料为透明PVC●排气管,驱动和传动装置在加工区的后面●进气口在带预滤波器的设备上部●最终所需的HF传感器用于设备控制中的综合集成,按顾客需要确定规格和供应●阀门,和线路系统等都集中在设备的后端●透明窗位于前端---带安全连锁装置---在设备加工区域有两个DI水枪,维护区域也有两个DI水枪,(后方位置)---操作员配电器有彩色图表显示1.2 排气●所有连接都在设备顶部●排气:有6处与人工节流阀连接,一个排气检测器(可调节警报水平,无模拟显示)●从酸罐中排风:与设备有4个连接●从碱罐中排风: 与设备有1个连接●排气碱池:与人工节流阀有2个连接●排气HF池:与人工节流阀有6个连接●箱排气边缘绝缘区域3个连接,一个排气检测器, (可调节警报水平,无模拟显示)●箱排气刻蚀区域:2个连接●与电子间联系关于排气检测信号(1=好,0=不好)2传输系统●底面在传输带上传输----- 滚子材料部分为塑料,由一纤维碳芯加固-----水的传输是通过EPDM或滚子周围的氟橡胶圈●两卷之间的距离为48 mm●底部固定卷在刻蚀盘和干燥区域中阻止晶片的上浮和冲走●传动装置由标准的齿轮构成●3个驱动器----输入站----边缘绝缘池, 冲洗Ⅰ以及碱洗-----冲洗Ⅱ,HF池, 冲洗Ⅲ,干燥器和输出站●作用电动机驱动器,控制周转率的准确率●传输速率在0.5-1.5m/min,正常速度为1m/min●滚子在每个组件的后端都有推力轴承●滚子交换简便,快捷●不同传输装置的位置与设置螺丝是可以调节的●运输高度:1000+/-15mm3输入装置●输入装置●长度大约为624mm●构架材料:铝●盘由白色PP构成●传带由灰色PVC构成●用于人工或自动的晶片输入(无盖)●一排光传感器----用于晶片计数,以及二次补充控制4边缘绝缘池4.1 传输●运输传带材料为PVDF,O型圈材料为氟橡胶,无侧面托座●无下部托架卷带4.2 凹盆●焊盆材料:PVDF----内部池容量大约为220L----深度大约为80 mm●总的运输长度大约为2208 mm,溢堰之间的加工长度大约为1812 mm●泄露被收集并重新归入循环系统●带PT100成分的温度控制----其一在池,控制,视觉化,以及起警报作用----其一在溢出线,仅起警报作用（新的设备取消了该传感器）----其一在供应线,亦仅起警报作用●水平传感器----空气泡:满池----旁道电容性传感器:溢出●在池底,通过分配管道供应----分配管道的设计要确保液体表面的静态●有备用入口,用于带冲气阀循环罐的首次填充●2个可调节的溢出边缘●传带的设置仅可弄湿晶片的底部●对在进口边的硅裂片进行筛分,从罐的顶部可以移动●透明PVC盖,排气连接,和流动帘避免凝固●带人工阀的样品点4.3 循环罐●焊罐材料:PVDF●容量大约为400L●电容传感器在PFA旁道,空,半空,满,溢●带PT100成分的温度控制,仅用于警报4.4 管道●循环泵----型号:浸入泵,施密特T170----PVDF液体末端----最大流量:135L/min----驱动器带变频器●人工球阀在压力面●充气阀用于排水到排酸●闸板钢传感器用于循环流●在循环罐处DI水入口带充气阀和闸板钢流量表●热交换器材料:PVDF----加工制冷功率:2KW●从池后部到循环罐有2条溢出线●HF的供应----来源于中央供应系统----到达缓冲罐----带充气阀----焊罐材料:PVDF----罐容量:大约25L----杠杆传感器:空,满,溢----维护连接,用于漂洗----带充气阀的循环罐的配量----准确率2%HF的供应----来源于中央供液系统--- 在循环罐的进口--- 带气动阀和搅拌叶轮流量计--- 精确度5%●HNO3供应----来源于中央供应系统---到达缓冲罐----带充气阀----焊罐材料:PVDF----罐容量:大约25L----杠杆传感器:空,满,溢----维护连接,用于漂洗----带充气阀的循环罐的配量----准确率2%HNO3的供应----来源于中央供应系统----在循环罐的进口----带气动阀和闸板钢流量表----准确率5%H2SO2的供应----来源于中央供应系统----在循环罐的进口----带充气阀●从凹盆排水,带充气阀,到酸排●从循环罐排水,带两个充气球阀,到酸排4.5 第二制冷环路●制冷器,生产商Huber----型号:UC150Tw-4-H●足印×高度:900 mm×760 mm×1590 mm●传导测量●2个气动阀,用于排气到排漂洗水5水洗15.1 盆●焊盆材料:自然PP----容量大约为75L●运输长度大约为432 mm●对硅裂片进行筛分●电容性传感器在旁道●2个喷射管(上下各一个)用于循环水进口----首先上下(池入口)有额外功能可避免高介质被拖出去●一个空气管道(仅在晶片的上部)分别分布在进出口以避免高介质被拖出去●透明PVC盖5.2 管道●从喷射漂洗的串联DI进口●循环泵----离心泵,型号:施密特,MPN150----PP 液体末端----磁联接----最大流量:65L/min●过滤系统●浮子流量计，带“min”传感器●4个手动膜板阀，用于循环流程调节●溢出进入排漂洗水●一个气动阀排水进入排漂洗水●注意：在上升区域，一些水即使在排水系统后，依然存在与此系统中6碱洗6．1 盆●焊盆材料：天然PP----容量大约为64L●KOH的浓缩为20-40%●传输长度大约为528 mm●对硅裂片进行筛分●电容性传感器在旁道“泵护，满，溢”●2个喷射管(上下各一个)，用于KOH循环流的进口----第一个在顶部（池入口）有额外功能可避免高介质被拖出去●一个空气管道(仅在晶片的上部)在池的出口以避免高介质被拖出去●透明PVC盖，连接排气系统●热交换器----制冷环路●PT100----用于温度指示（无控制系统）●样品点，带人工阀6．2管道●循环泵----离心泵,型号:施密特,MPN150----PP 液体末端----磁联接----最大流量:65L/min●过滤系统●浮动流量表，带“min”传感器●4个手动膜片阀，用于循环流程调节●DI入口位于带充气阀的加工灌●KOH供应----来源于中央供应系统----到达缓冲罐----带充气阀----焊罐材料为PP----罐容量大约为8L----杠杆传感器：空，满，溢----带气动阀循环罐的配量----准确率2%●制冷----充气阀用于流量设置----从现存制冷水线上供应，●溢出进入排漂碱水●带3个气动阀行的排水，进入排漂洗水7漂洗喷射Ⅱ7．1 盆●焊盆材料：天然PP----容量大约为95L●传输长度大约为624 mm●对硅裂片进行筛分●电容性传感器在旁道“池满”●2个喷射管(上下各一个)，用于循环水流的进口----第一个在顶部（池入口）有额外功能可避免高介质被拖出去●一个空气管道(仅在晶片的上部)在池的出口以避免高介质被拖出去●透明PVC盖，7．2 管道●在池中从喷射漂洗Ⅲ的串联DI进口●循环泵----离心泵,型号:施密特,MPN150----PP 液体末端----磁联接----最大流量:65L/min●过滤系统●浮子流量计，带“min”传感器●4个手动膜板阀，用于循环流程调节●溢出进入排漂洗水●利用1个充气阀进行排水，进入排漂洗水●一些水即使在排水系统后，依然存在与此系统中8酸洗8．1 盆●焊盆材料：PP----容量大约为380L----深度大约为200 mm●HF 1-10%●一个刻蚀单位：即一分钟的正常速度为1m●总的运输长度大约为1680 mm,溢堰之间的加工长度大约为1194 mm●泄露流被收集并重新归入循环系统●液面传感器:----气泡:池满----电容性传感器在旁道:溢,低,满----电容性传感器在旁道:开始填充化学物●8个喷射管(上下各一个)，用于循环水流的进口●备用进口用于首次填充●一个空气管道(仅在顶部)在池的出口以避免高介质被拖出去●两个可调节溢出边缘●卷的设置可以使大约6 mm深的基底浸入至盆●对在进口边的硅裂片进行筛分●收集在出口边上硅裂片的通道●透明PVC盖,连接排气系统,流量帘避免凝结●样品点,带人工阀8.2 管道●循环泵----离心泵,型号:施密特,MPN150----PVDF 液体末端----磁联接----最大流量:每分钟65L●过滤系统●浮动流量表，带“min”传感器●2个手动阀，用于循环流程控制●HF供应----来源于中央供应系统----到达缓冲罐----带充气阀----焊罐材料为PVDF----罐容量大约为25L----杠杆传感器：空，满，溢----维护连接用于漂洗----带充气阀的循环罐的配量----准确率2%●带1个充气阀溢流口，进入排漂洗水●带3个充气阀行的排水，进入排漂洗水9喷射漂洗Ⅲ9.1 盆●焊盆材料：天然PP----容量大约为60L●传输长度大约为624 mm●对硅裂片进行筛分●电容性传感器在旁道“池满”●2个喷射管(上下各一个)，用于循环水流的进口----第一个在顶部（池入口）有额外功能可避免高介质被拖出去●新鲜DI水供应是通过晶片上下边的一排喷嘴●一个空气管道(仅在晶片的上部)在池的出口以避免高介质被拖出去●透明PVC盖，●无气管9.2 管道●DI水供应----充气阀----2个人工阀,用于流量调节----2个浮动流量表,带“min”传感器●循环泵----离心泵,型号:施密特,MPN150----PP 液体末端----磁联接----最大流量:65L/min●过滤系统●浮动流量表，带“min”传感器●4个手动阀，用于循环流程调节●溢出进入排漂洗水●一个充气阀排水进入排漂洗水●注意：在上升区域，一些水即使在排水系统后，依然存在与此系统中10空气干燥器10.1 盆●焊盆材料:天然PP●长度:624 mm●四把风刀分别迎面作用于片子的上下两面材料为：EP●四台鼓风机管子上有一个流量传感器一个温度传感器●排水到排漂洗水11输出单位●与输入单位一致12电力控制●电力间材料:钢●尺寸以毫米计算:约为1800×600×2200(足印×高度)●电力控制单位●PLC西门子SPS S7●FESTO充气阀单位,控制充气●PC放置在电控柜,操作系统Windows XP●平屏幕上视觉化●信号灯带听觉信号●设备设计,用于功率为380V/60HZ的供应●电缆槽在提供的设备和电控柜之间13软件●视觉化软件基础:WinCC●几个功能模式(自动,人工和服务模式)●几个进入级别(密码)●过程状态和测量价值的视觉化●测量价值的图解14技术资料●DI水消耗:大约每小时3000L,,最高为每小时3600L●干气消耗的清洗用于空气刀和空气管,平均120Nm3/h,最高为160Nm3/h,大约@6bar●空气消耗充气控制:大约1 Nm3/h, 大约@6bar●排气要求----边缘绝缘区域:总体大约为3000Nm3/h,超过1040 Nm3/h,@500Pa----氧化刻蚀区域:总体大约为3000 Nm3/h,超过600Nm3/h, @500Pa----综合:总体大约为6000 Nm3/h,超过1640 Nm3/h, @500Pa●机械领域----碎片率≤0.2%----检查有微裂缝的多晶片----厚度为180μm±20μm15文件●一个英文版的CD,RENA标准●文件包括操作说明书,介质流量图表,电力流程以及机械装配图表(纸张形式),零部件清单,等等。