表一：高压反应釜A
项目
使用范围
控制精度
元件精度
温度
50-300℃
±1℃
0.25%F.S
压力
0-3.0MPa
0.01MPa
0.25%F.S
气体流量
20-2000SCCM
2.0SCCM
准确度：±1%F.S
线性：±0.5～2%F.S
重复精度：±0.2%F.S
液体流量
0.01-9.99ml/min
0.04-39.9 ml/min
釜体积
20升
釜液位
0-20CM
±1CM
准确度：±0.3%F.S
无级变速
10-1200转/分
表三：常压搪瓷反应釜
项目
使用范围
控制精度
元件精度
温度
50-250℃
±1℃
0.25%F.S
压力
0-0.01MPa
釜体积
20升
釜液位
0-20CM
±Hale Waihona Puke CM准确度：±0.3%F.S
无级变速
65转/分
表四：常压搪瓷反应釜
0.01ml/min
准确度：±2%F.S
重复精度：±0.2%F.S
釜体积
20升
釜液位
0-20CM
±1CM
准确度：±0.3%F.S
无级变速
10-1200转/分
0.5%FS
表二：高压反应釜B
项目
使用范围
控制精度
元件精度
温度
50-300℃
±1℃
0.25%F.S
压力
0-3.0MPa
0.01MPa
0.25%F.S
项目
使用范围
控制精度
元件精度
温度
50-250℃
±1℃
0.25%F.S
压力
0-0.01MPa
釜体积
100升
釜液位
0-40CM
±1CM
准确度：±0.3%F.S
无级变速
65转/分