特点：以硅或锗材料的硬质模版和热塑性材料为基础，可以实现大面 积高精度的模版结构复制，然而由于热塑性材料所需的加热和冷却过 程，产能和对准能力受到限制，无法满足大规模生产的要求，而且压 印过程中所需的高压力很容易造成模版损伤。
几种常见纳米压印技术工艺比较
紫外压印技术 先制备对紫外光透明的高精度的掩模版，在基板上旋涂一层液态光刻胶，利用 较低的压力将模版压在光刻胶上，液态光刻胶填满模版空隙，从模版背面用紫外 光照射，紫外光使光刻胶固化。脱膜后去处残留光刻间，将图案从模版转移到基 板上。
特点：使用软质聚合物模版（如PDMS），可以在很大面积上配合基底的 不平整表面实现均匀接触，从而在很低的压力下使得大面积一次压印成为 可能，并且由于软质模版通常都是从硬质模版复制得来，大大降低了生产 成本。
软膜压印技术介绍
软膜压印技术由于工艺简单，成本相对较低，能在翘曲度比较高的基板上获得均匀图形， 因而在LED光子晶体技术，纳米级衬底技术（NPSS）方面有着很广泛的应用前景 软膜压印技术流程
电子束光刻 纳米压印 纳米压印 纳米压印
石英板
母板
硬质模板Leabharlann 软质模板蓝宝石 基板
ICP刻蚀
NPSS
应用状况 纳米压印分为三个关键步骤：母板制作，压印过程，图形转移；其中母板制作技术 基本由国外把持，因而成本较为昂贵；压印过程良率比较难控制，这是制约纳米压 印技术发展的两大重要原因。 经与母板供应商沟通获悉，当前国内LED厂家对纳米压印都比较感兴趣，但是立项 的只有上海一家（蓝光？蓝宝？），国外的LED厂家（如三星(Samsung)做一个9nm线宽 20nm间距的重点项目 ）大多通过合作研发的方式在探索。 国内的研究所也在积极探索软膜压印技术，如半导体所季安老师，苏州纳米所崔铮老师。
纳米压印技术介绍
纳米压印技术简介
纳米压印技术概况 纳米压印技术由1995年华裔科学家周郁提出，此项技术不使用光线或辐照使光刻 胶成型，而是直接在基板上利用物理学机理构造纳米尺度图形。不受光源波长限制， 可以简单制作出解析度小于100nm的图形，具有工艺简单，成本低，解析度高， 产能高等优点。
图1 孔径95nm，周期150nm的孔型阵列图
电子束光刻
纳米压印
纳米压印
纳米压印
石英板
母板
硬质模板
软质模板
基板
价格？看数量 约1万欧元(NL公司)
压印设备供应商 • 母板制作 AMO公司（德国） NL公司（丹麦） eulitha公司 （瑞士） • 纳米压印机台 NL公司（丹麦） SUSS公司（法国）
国内LED行业纳米压印技术应用状况
利用纳米压印技术制作NPSS的工艺流程
特点：使用透明的石英模版可以通过紫外曝光固化的液态压印材料以 及很低的压力，可以在室温下压印分辨率低于10nm的结构，无需加 热，对准精度和产能相对于热压印都有大幅改善，然而由于使用很低 的压力，很难在大面积基底上实现均匀接触。
几种常见纳米压印技术工艺比较
软膜压印技术 当前研究热点，其工艺过程与热压印过程类似，唯一不同的是使用软质模版。
几种常见纳米压印技术比较
热压印技术工艺 首先在衬底上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。升温并达到此热塑性材料 的玻璃化温度Tg（glass transistion temperature）之上。然后加压于模版并保持压 力和温度一段时间，热塑性材料填充掩模版图形空隙；降低温度至Tg以下后脱膜。