化学指标单位：卩
序号
水质项目
一级高纯水指标
二级高纯水指标
1
电阻率（25°C）Mcm
>15
>10
2
电导率，卩s/cm
0.05
0.1
3
PH值
6.8〜7.2
6.6〜7.4
4
细菌总数，个/mL
V3
V9
5
微粒（直径〉0.5卩m，粒/mL）
V150
V300
6
二氧化硅
V10
V20
7
有机物（以COD计）
V0.3
V0.5
锌Zn2+
0.03
0.1
0.5
*
阴离子，卩g/L
0.1
0.1
0.3
*
溴Br-
0Cl-
0.05
0.2
0.8
*
亚硝酸根NO2-
0.05
0.1
0.3
*
硝酸根NO3-
0.1
0.1
0.5
*
磷酸根PO43-
0.2
0.2
0.3
*
硫酸根SO42-
0.05
0.3
1.0
*
*
我国电子工业部高纯水水质试行标准
8
钠Na
V0.5
V2
9
铁Fe
V1
V2
10
铜Cu
V0.5
V1
11
钙Ca
V1
V3
12
镁Mg
V0.2
V1
13
锌Zn
V0.5
V1
14
锰Mn
V0.2
V0.5
说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品
②二级高纯水适用于一般电路，分立器件以及有相同要求的半导体器件产品
③本表按
电子工业超纯水水质标准
美国半导体工业用纯水指标
化学指标单位：卩
项目
I级
H级
山级
W级
残渣，mg/L
0.1
0.3
0.3
0.5
TOC,mg/L
0.02
0.05
0.10
0.40
颗粒，粒/L
500
1000
2500
5000
细菌数，个100mL
0
6
10
50
活性硅SiO2，卩g/L
3
5
10
40
电阻率Mcm
18.3
17.9
17.5
17.0
阳离子，卩g/L
0.2
2.0
5.0
*
铝AI3+
0.2
2.0
5.0
*
铵NH4+
0.3
0.3
0.5
*
铬Cr6+
0.02
0.1
0.5
*
铁Fe3+
0.02
0.1
0.2
*
铜Cu2+
0.02
0.1
0.5
*
锰Mn2+
0.05
0.5
1.0
*
钾K+
0.1
0.3
1.0
4.0
钠Na+
0.05
0.2
1.0
5.0