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武汉关于成立半导体集成电路生产制造公司可行性分析报告

武汉关于成立半导体集成电路生产制造公司可行性分析报告规划设计/投资分析/实施方案报告摘要说明半导体材料升级换代。

作为集成电路发展基础,半导体材料逐步更新换代,第一代半导体材料以硅(Si)为主导,目前,95%的半导体器件和99%以上的集成电路都是硅材料制作。

20世纪90年代以来,光纤通讯和互联网的高速发展,促进了以砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)为代表的第二代半导体材料的需求,其是制造高性能微波、毫米波器件及发光器件的优良材料,广泛应用于通讯、光通信、GPS导航等领域。

第三代半导体材料主要包括碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、金刚石等,因其禁带宽度(Eg)大于或等于2.3电子伏特(eV),又被称为宽禁带半导体材料。

xxx投资公司由xxx投资公司(以下简称“A公司”)与xxx集团(以下简称“B公司”)共同出资成立,其中:A公司出资1490.0万元,占公司股份74%;B公司出资520.0万元,占公司股份26%。

xxx投资公司以半导体集成电路产业为核心,依托A公司的渠道资源和B公司的行业经验,xxx投资公司将快速形成行业竞争力,通过3-5年的发展,成为区域内行业龙头,带动并促进全行业的发展。

xxx投资公司计划总投资15286.02万元,其中:固定资产投资12759.45万元,占总投资的83.47%;流动资金2526.57万元,占总投资的16.53%。

根据规划,xxx投资公司正常经营年份可实现营业收入20030.00万元,总成本费用15526.22万元,税金及附加274.81万元,利润总额4503.78万元,利税总额5399.80万元,税后净利润3377.84万元,纳税总额2021.96万元,投资利润率29.46%,投资利税率35.33%,投资回报率22.10%,全部投资回收期6.03年,提供就业职位395个。

据了解,2019年由于受世界经济发展的增速减缓、整机厂商的去库存化等综合因素的干扰,全球半导体产业普遍处于下滑态势。

作为半导体产业里的关键产品之一,集成电路领域的发展趋势备受关注。

第一章总论一、拟筹建公司基本信息(一)公司名称xxx投资公司(待定,以工商登记信息为准)(二)注册资金公司注册资金:2010.0万元人民币。

(三)股权结构xxx投资公司由xxx投资公司(以下简称“A公司”)与xxx集团(以下简称“B公司”)共同出资成立,其中:A公司出资1490.0万元,占公司股份74%;B公司出资520.0万元,占公司股份26%。

(四)法人代表闫xx(五)注册地址某新兴产业示范区(以工商登记信息为准)武汉,简称汉,别称江城,是湖北省省会,中部六省唯一的副省级市,特大城市,国务院批复确定的中国中部地区的中心城市,全国重要的工业基地、科教基地和综合交通枢纽。

截至2019年末,全市下辖13个区,总面积8569.15平方千米,建成区面积812.39平方千米,常住人口1121.2万人,地区生产总值1.62万亿元。

武汉地处江汉平原东部、长江中游,长江及其最大支流汉江在城中交汇,形成武汉三镇隔江鼎立的格局,市内江河纵横、湖港交织,水域面积占全市总面积四分之一。

作为中国经济地理中心,武汉素有九省通衢之称,是中国内陆最大的水陆空交通枢纽和长江中游航运中心,其高铁网辐射大半个中国,是华中地区唯一可直航全球五大洲的城市。

武汉是联勤保障部队机关驻地、长江经济带核心城市、中部崛起战略支点、全面创新改革试验区,也是全国三大智力密集区之一,中国光谷致力打造有全球影响力的创新创业中心。

根据国家发改委要求,武汉正加快建成以全国经济中心、高水平科技创新中心、商贸物流中心和国际交往中心四大功能为支撑的国家中心城市。

武汉是国家历史文化名城、楚文化的重要发祥地,境内盘龙城遗址有3500年历史。

春秋战国以来,武汉一直是中国南方的军事和商业重镇,明清时期成为楚中第一繁盛处、天下四聚之一。

清末汉口开埠和洋务运动开启武汉现代化进程,使其成为近代中国重要的经济中心,被誉为东方芝加哥。

武汉是辛亥革命首义之地,近代史上数度成为全国政治、军事、文化中心。

(六)主要经营范围以半导体集成电路行业为核心,及其配套产业。

(七)公司简介xxx投资公司由A公司与B公司共同投资组建。

公司坚持以科技创新为动力,建立了基础设施较为先进的技术中心,建成了较为完善的科技创新体系。

通过自主研发、技术合作和引进消化吸收等多种途径,不断推动产品技术升级。

公司主导产品质量和生产工艺居国内领先水平,具有显著的竞争优势。

展望未来,公司将围绕企业发展目标的实现,在“梦想、责任、忠诚、一流”核心价值观的指引下,围绕业务体系、管控体系和人才队伍体系重塑,推动体制机制改革和管理及业务模式的创新,加强团队能力建设,提升核心竞争力,努力把公司打造成为国内一流的供应链管理平台。

公司在发展中始终坚持以创新为源动力,不断投入巨资引入先进研发设备,更新思想观念,依托优秀的人才、完善的信息、现代科技技术等优势,不断加大新产品的研发力度,以实现公司的永续经营和品牌发展。

依托A公司的渠道资源和B公司的行业经验,xxx投资公司将快速形成行业竞争力,通过3-5年的发展,成为区域内行业龙头,带动并促进全行业的发展。

二、公司主营业务说明根据规划,依托某新兴产业示范区良好的产业基础和创新氛围,充分发挥区位优势,全力打造以半导体集成电路为核心的产业示范项目。

当前,大数据、云计算、物联网、人工智能等信息产业技术快速发展,持续为半导体产业提供强劲市场需求,全球集成电路产业将迎来新一轮的发展机遇。

1956年国务院制定的《1956-1967科学技术发展远景规划》中,已将半导体技术列为四大科研重点之一,明确提出“在12年内可以制备和改进各种半导体器材、器件”的目标。

第二章公司组建背景分析一、半导体集成电路项目背景分析半导体材料升级换代。

作为集成电路发展基础,半导体材料逐步更新换代,第一代半导体材料以硅(Si)为主导,目前,95%的半导体器件和99%以上的集成电路都是硅材料制作。

20世纪90年代以来,光纤通讯和互联网的高速发展,促进了以砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)为代表的第二代半导体材料的需求,其是制造高性能微波、毫米波器件及发光器件的优良材料,广泛应用于通讯、光通信、GPS导航等领域。

第三代半导体材料主要包括碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、金刚石等,因其禁带宽度(Eg)大于或等于2.3电子伏特(eV),又被称为宽禁带半导体材料。

国内半导体材料市场高速增长。

半导体材料市场会根据半导体行业的变化而变化。

目前,2015年全球半导体材料市场产值已达到434亿美元,约占据整体产业的13%,其规模巨大。

国内半导体材料市场近年来受产业链增长拉动,半导体材料销售额保持较高增速,2006-2015年保持平均14%的增长率。

2015年已经达到61.2亿美元的规模,且占有率有持续增长的趋势。

预计随着全球半导体产业向大陆转移,日本、台湾等占有率将有所下降,而大陆半导体材料市场将会进一步扩大。

新一代半导体应用领域广泛,潜在市场空间大。

第二、三代半导体材料正在引起清洁能源和新一代电子信息技术的革命,无论是通信、照明、消费电子设备、新能源汽车、智能电网、还是军工用品,都对这种高性能的半导体材料有着极大的需求。

未来第三代半导体技术的应用将催生我国多个领域的潜在市场,届时将产生巨大的市场应用空间。

通信技术更新换代,传输速度呈数量级增长。

从上世纪80年代至今,每一代移动通信标准都有着其标志性的能力指标和核心关键技术。

1G只能提供模拟语音业务;2G的GSM网络可提供数字语音和低速数据业务;3G以CDMA为技术特征,用户峰值速率达到2Mbps至数十Mbps,可以支持多媒体数据业务;4GLTE网络用户峰值速率可达100Mbps以上,能够支持各种移动宽带数据业务。

5G技术将引领新革命。

相比前四代通讯技术,5G网络的变革将更加全面,在进一步提高通讯传输速度的同时,更加强调连续广域覆盖、热点高容量、低时延高可靠和低功耗大连接等场景下的技术需求,为进一步升级的移动互联网市场,和新兴的物联网、智能汽车、智能制造、虚拟现实等市场提供多元化的技术方案。

目前国际主流的行业组织、运营商、设备厂商和芯片厂商都在积极投入5G标准的制定,预计到2020年前后,5G网络将实现商用。

未来,5G网络的商用必然将催生移动通信芯片升级换代的海量市场,同时也将带来通讯芯片市场版图的巨大变化。

5G技术高速率和低延迟的要求,对化合物半导体提出了新的需求。

比如功率、线性度、工作频率、效率、可靠性等都需要达到极高的标准。

由于5G通信全频带通信的特性,5G手机中射频前端芯片数量将进一步增加,带动以GaAs为代表的第二/三代化合物半导体产业链发展。

具体到实践当中,可以从设备端和基站端两分析。

基站端需求。

5G实际应用中,带相控阵天线的手机将发射信号给基站和微蜂窝基站,基站和微蜂窝基站将与相控阵天线对接以实现信号连接。

基站使用的射频功率管一般采用LDMOS工艺,但现在LDMOS工艺正在被氮化镓(GaN)工艺取代。

GaN是宽禁带材料,意味着GaN能够耐受更高的电压,有更高的功率密度和可工作温度更高,能够满足5G通信基站的要求。

同时,5G采用高频频谱虽然能提供更高的数据传输速率,但这一频段的电磁波传输距离很短,且容易被障碍物阻挡。

因而移动运营商可能需要建设数百万个小型基站,将其部署至每根电线杆、每栋大楼,每户房屋,甚至每个房间,这也就意味着基于GaN的PA芯片需求将出现飞跃增长。

根据市场调查机构Yole的估计,GaN功率器件需求有望在今后5年内爆发,复合增长率可达90%以上。

手机端需求。

4G手机中数字电路部分包括应用处理器和调制解调器,射频前端则包括功率放大器(PA)、射频信号源和模拟开关。

功率放大器通常采用砷化镓(GaAs)材料的异质结型晶体管(HBT)技术制造。

未来的5G手机也要有应用处理器和调制解调器。

不过与4G系统不同,5G手机还需要相控阵天线,每根天线都有独立的PA和移相器,并与一个覆盖整个工作频率的信号收发器相连,相应的半导体器件需求将会更大。

2015年全球智能手机销量达14.3亿部,中国智能手机出货量达5.39亿部。

根据估算,2016年度全球智能手机出货量预计达到15部,手机砷化镓功率元件需求量超过160亿只,国内手机市场砷化镓元件需求量接近60亿只。

未来随着4G手机渗透率的不断提升和5G技术的商用化,手机用砷化镓元件还将不断增长。

二、半导体集成电路项目建设必要性分析1956年国务院制定的《1956-1967科学技术发展远景规划》中,已将半导体技术列为四大科研重点之一,明确提出“在12年内可以制备和改进各种半导体器材、器件”的目标。

半导体产业链复杂、技术难度高、需要资金巨大,且当时国内外特定的社会环境,中国在资金、人才及体制等各方面困难较多,导致中国半导体的发展举步维艰。

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