半导体物理50本书1、半导体激光器基础633/Q003 (日)栖原敏明著科学出版社;共立出版2002.72、半导体异质结物理211/Y78虞丽生编著科学出版社1990.53、超高速光器件9/Z043 (日)斋藤富士郎著科学出版社;共立出版2002.74、半导体超晶格物理214/X26夏建白，朱邦芬著上海科学技术出版社19955、半导体器件:物理与工艺6/S52 (美)施敏(S.M.Sze)著科学出版社1992.56、材料科学与技术丛书.第16卷,半导体工艺5/K035(美)R.W.卡恩等主编科学出版社19997、光波导理论与技术95/L325李玉权,崔敏编著人民邮电出版社2002.128、半导体光学性质240.3/S44沈学础著科学出版社1992.69、半导体硅基材料及其光波导571.2/Z43赵策洲电子工业出版社199710半导体器件的材料物理学基础612/C49陈治明，王建农著科学出版社1999.511、半导体导波光学器件理论及技术666/Z43赵策洲著国防工业出版社1998.612、半导体光电子学631/H74黄德修编著电子科技大学出版社1989.913、分子束外延和异质结构523.4/Z33 <美>张立刚，<联邦德国>克劳斯·普洛格著复旦大学出版社1988.614、半导体超晶格材料及其应用211.1/K24康昌鹤，杨树人编著国防工业出版社1995.1215、现代半导体器件物理612/S498 (美)施敏主编科学出版社2001.616、外延生长技术523.4/Y28杨树人国防工业出版社1992.717、半导体激光器633/J364江剑平编著电子工业出版社2000.218、半导体光谱和光学性质240.3/S44(2)沈学础著科学出版社200219、超高速化合物半导体器件572/X54谢永桂主编宇航出版社1998.720、半导体器件物理612/Y75余秉才，姚杰编著中山大学出版社1989.621、半导体激光器原理633/D807杜宝勋著兵器工业出版社2001.622、电子薄膜科学524/D77 <美>杜经宁等著科学出版社1997.223、半导体超晶格─材料与应用211.1/H75黄和鸾，郭丽伟编著辽宁大学出版社1992.624、半导体激光器及其应用633/H827黄德修，刘雪峰编著国防工业出版社1999.525、现代半导体物理O47/X172夏建白编著北京大学出版社200026、半导体的电子结构与性能22/Y628 <英>W.施罗特尔主编科学出版社200127、半导体光电子技术9/Y770余金中编著化学工业出版社2003.428、半导体器件研究与进展.三6/W36/3王守武主编科学出版社1995.1029、国家自然科学基金重大项目“半导体光子集成基础研究”学术论文集:项目编号：69896260(2001.7-2002.5)638/G936/2001-022002.630、半导体激光器件物理学665/T23 <英>G.H.V.汤普森著电子工业出版社198931、半导体的检测与分析34/Z66中国科学院半导体研究所理化分析中心研究室编著科学出版社198632、材料分析测试技术:材料X射线衍射与电子显微分析55/Z78周玉,武高耀编著哈尔滨工业大学出版社1998.833、光纤通信用光电子器件和组件TN929.11/H800.2黄章勇编著北京邮电大学出版社200134、硅微机械加工技术571.2/H76黄庆安科学出版社1996.35、X射线结构分析与材料性能表征O72/T49滕凤恩科学出版社1997.1236、非线性光学频率变换及激光调谐技术O436.8/Y35姚建铨科学出版社;1995.337、半导体光检测器631.5/Z22 (美)W.T.Tsang主编电子工业出版社1992.338、介观物理O462/Y17阎守胜,甘子钊主编北京大学出版社1995.439、人工物性剪裁:半导体超晶格物理、材料及新器件结构的探索211.1/Z57郑厚植编著湖南科学技术出版社1997.40、光学薄膜原理O437.14/L63林永昌,卢维强编著国防工业出版社199041、半导体物理学2/L71B刘恩科，朱秉升等编国防工业出版社1979.1242、半导体物理学2/L33李名复著科学出版社1991.243、半导体物理与器件2/X58忻贤坤编著上海科学技术文献出版社1996.244、砷化镓微波功率声效应晶体管及其集成电路624.26/L35李效白编著科学出版社1998.245、半导体测试技术55/S98孙以材编著冶金工业出版社1984.1046、X射线衍射与电子显微分析基础O439.634/M18马咸尧主编华中理工大学出版社1993.847、砷化镓的性质572.162/Y14亚当斯.A.R.等著科学出版社199048、高等激光物理学O45/L31李福利编著中国科技大学出版社1992.849、半导体器件工艺616/D52电子工业半导体专业工人技术教材编写组上海科学技术文献出版社1984.150、凝聚态物理学新论O462.031/F61N冯端,金国钧著上海科学技术出版社1992.12“压力传感器的设计制造与应用”目录压力传感器的设计制造与应用作者：孙以材出版：北京冶金工业出版社2000 年出版尺寸：20cmISBN：7-5024-2400-8形态：615 页- 107 章节定价：CNY40.00附注：河北省教育委员会学术著作出版基金资助浏览：在线阅读全文下载摘要本书主要介绍压阻型压力传感器的原理、弹性力学应力机械加工到芯片封接与引线;介绍压力传感器的技术特性、选用及各种热漂移补偿技术等。

目录目录第一章晶体及其能带结构第一节空间点阵和晶体结构附录第二节晶体的能带结构第三节晶体的物理常数及其坐标变换参考文献第二章压力传感器的基本原理第一节单晶硅的压阻效应第二节扩散硅的压阻效应第三节多晶硅的压阻效应附录任意晶向压阻系数的计算参考文献第三章压力传感器中承压弹性膜的应力计算第一节弹性力学基础第二节承压弹性薄膜的应力分析第三节压力传感器弹性膜二维有限元法的应力计算第四节压力传感器三维有限元法应力计算简介参考文献第四章压力传感器芯片版图设计第一节合理利用压阻系数第二节力敏电阻条的设计第三节二极管与三极管的设计第四节失效与可靠性问题参考文献第五章压力传感器的衬底制备第一节硅单晶片抛光的基本原理第二节衬底片的清洗第三节外延工艺原理第四节硅——硅键合工艺原理参考文献第六章压力传感器的管芯制备第一节氧化膜的制备第二节扩散工艺原理第三节光刻工艺原理参考文献第七章硅压力传感器的微机械加工第一节概况第二节湿化学腐蚀第三节各向异性腐蚀过程计算机模拟第四节压力传感器的压力腔腐蚀工艺第五节表面微机械加工——牺牲层技术第六节玻璃穿孔技术参考文献第八章压力传感器的封装第一节压力传感器的封装意义及要求第二节压力传感器芯片的封接方法第三节硅片与硅片低温直接键合第四节封接材料的性质参考文献第九章压力传感器的引线第一节压力传感器的引线键合第二节载带自动键合（TAB）技术第三节引线的可键合性与可靠性第四节引线间接触电阻的测量参考文献第十章压力传感器的技术性能与选用第一节压力传感器的技术性能第二节压力传感器的选用参考文献第十一章压力传感器的热漂移及其补偿技术第一节热零点漂移及其补偿技术第二节热灵敏度漂移及其补偿技术第三节用自平衡电桥简单电路消除热零点和灵敏度漂移参考文献第十二章压力传感器的信号调理第一节集成运算放大器简介第二节仪表放大器简介第三节压力传感器激励参考文献第十三章压力传感器的智能化技术第一节MCS-51单片机系统概述第二节MCS-51单片机的指令系统第三节MCS-51单片机内部存储器第四节MCS-51单片机内部的定时器/计数器第五节MCS-51单片机内部的并行输入/输出（I/O）口第六节MCS-51单片机内部的串行口第七节MCS-51单片机的中断控制系统第八节智能化压力传感器的硬件设计第九节智能化压力传感器的软件设计参考文献第十四章其他种类压力传感器第一节膜片式电容型压力传感器第二节压电型压力传感器第三节金属电阻应变式压力传感器第四节干涉光非接触式读出压力传感器第五节光纤压力传感器参考文献第十五章压力传感器的应用第一节压力传感器的应用分类第二节LED显示排压力计第三节电池供电精密气压计第四节压力控制器第五节自动洗衣机中应用的压力传感器第六节自动补偿静压的压力传感器第七节压力传感器在液位测量中的应用参考文献一、主要物理常数二、单位换算表1．长度单位换算2．质量单位换算3．力单位换算4．功及能量单位换算5．功率单位换算6．压力单位换算7．电磁单位换算参考资料：四探针和EIT测试微区薄层电阻的研究与进展R&D on the Technique for Determining theResistivity of Micro Areas Sheet Based onFour-Point Probe and EIT<<半导体技术>>2007年第32卷第05期作者: 谢辉, 刘新福, 贾科进, 闫德立, 田建来,期刊-核心期刊ISSN : 1003-353X(2007)05-369-05论述了一种测试大型硅片电阻率均匀性的新方法--电阻抗成像技术(EIT).给出了四探针的基本原理,指出EIT的基本思想来源于四探针技术.对EIT的基本原理和重建算法在理论上进行了描述,提出可将其应用于微区薄层电阻测试,并对EIT在大型硅片微区薄层电阻率均匀性测试技术上的系统应用做了进一步探索.关键词: 四探针法, 电阻抗成像, 微区薄层电阻, | 全部关键词中图分类:TN306 > 工业技术> 无线电电子学、电信技术> 半导体技术> 一般性问题> 可靠性及例行试验万方期刊分类:TN > 工业技术> 无线电电子学与电信技术- 四探针和EIT测试微区薄层电阻的研究与进展R&D on the Technique for Determining the Resistivity of Micro Areas Sheet Based on Four-Point Probe and EIT 作者:谢辉,刘新福,贾科进,闫德立,田建来,期刊-核心期刊半导体技术SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY 2007年第05期- 四探针技术测量薄层电阻的原理及应用The principle and application of testing sheet resistance with four-pointprobe techniques 作者:刘新福,孙以材,刘东升,期刊-核心期刊半导体技术SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY 2004年第07期- 微区薄层电阻四探针测试仪及其应用Four-probe Instrument for Measuring Sheet Resistance of Microareas and Its Application 作者:孙以材,刘新福,高振斌,孟庆浩,孙冰,期刊-核心期刊固体电子学研究与进展RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS 2002年第01期- 微区电阻测试方法及新测试仪研制The Study on Means of Measuring Sheet Resistance of Microareas 作者:刘新福,孙以材,王静,张艳辉,期刊-核心期刊微电子学与计算机MICROELECTRONICS & COMPUTER 2003年第09期- 用改进的Rymaszewski公式及方形四探针法测定微区的方块电阻The measurement of square resistance for microarea by square four-probe techniques and using a modified Rymaszewski's formula 作者:刘新福,孙以材,张艳辉,陈志永,期刊-核心期刊物理学报ACTA PHYSICA SINICA 2004年第08期- 基于EIT技术的微区薄层电阻测试系统研究Research on the Micro-Area Sheet Resistance Test System Based on EIT Technology 作者:任献普,刘新福,黄宇辉,柳春茹,赵晓然,赵丽敏,期刊-核心期刊半导体技术SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY 2009年第10期- 两种薄层电阻测试系统探针游移误差的对比分析TheContrasting and Analyzing of Probe Movement Error about Two Kinds of Measurement System of Sheet Resistance 作者:刘新福,孙以材,刘东升,期刊-核心期刊电子器件CHINESE JOURNAL OF ELECTRON DEVICES 2004年第01期- 电阻率测量技术研究The Study of Techniques of Measuring Resistivity 作者:谢莉莉,汪鹏,期刊高等职业教育－天津职业大学学报HIGHER VOCATIONAL EDUCATION-JOURNAL OF TIANJIN PROFESSIONAL COLLEGE 2007年第05期- Ti中间层对超薄Ni膜硅化反应特性的影响作者:蒋玉龙, 茹国平, 屈新萍, 李炳宗,会议第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议论文集2004年- Ti中间层对超薄Ni膜硅化反应特性的影响Influence of Ti Interlayer on Untrathin Ni Film Silicidation 作者:蒋玉龙,茹国平,屈新萍,李炳宗,期刊-核心期刊半导体学报CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS 2005年第z1期。