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微电子工艺实验标准实验报告1

电子科技大学微电子与固体电子学院
标准实验报告(实验)课程名称:微电子工艺实验
电子科技大学教务处制表
电子科技大学
实验报告
学生姓名:学号:班级
指导教师:王姝娅、钟志亲、戴丽萍、王刚
实验地点:微固搂2搂IC实验室、IC测量室、3搂机房实验时间:
一、实验室名称功率半导体器件实验室、集成电路测量分析实验室、微固体学院机房
二、实验项目名称:
三、实验学时:32
四、实验原理:
五、实验目的:
1 熟悉半导体工艺的一般步骤。

2 掌握半导体工艺各个步骤的要求。

会计算方块电阻。

3 牢记温度控制、溶液配比要求。

六、实验内容:
1熟悉实验步骤和参数要求。

2 跟据实验原理和实验步骤进行实验操作。

七、实验器材(设备、元器件):
八、实验步骤:
九、总结及心得体会:
十、实验建议
十一、思考题:
1 怎样计算结深?
2 一扩散炉斜坡式升温(从600℃开始)15分钟,在1100℃下保温30分钟,然后在15分钟内斜坡式降温到600℃。

计算有效扩散时间。

假定是硅中的磷。

3 试说明提高光刻精度的方法?
4(100)硅片上有若干掺磷的小岛,其表面掺磷浓度为6×cm3
22
10 。

硅片在900℃下在湿氧中氧化60分钟,分别计算在掺杂区和未掺杂区的氧化层厚度。

5 试说明方块电阻与掺杂剂量或注入剂量之间的关系,并由此进一步说明方块电阻的定义。

报告评分:
指导教师签字:。

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