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化学镍金工艺介绍

化学镍金工艺特征
1.无须通电,通过化学反应在线路板上选择性沉积一层平坦的镍金,焊盘表面平整,
增加SMD元件组装和贴装的可靠性和安全性。

2.单一表面处理即可满足插装、表面安装、芯片直接安装等多种组装要求,具有可焊
接性、可接触导通、可做Bonding。

3.在沉镍金的焊盘和线路位置,其侧面也同样被镍金所覆盖,可满足特殊环境下对线
路板的苛刻要求。

4.加工过程中不使用助焊剂,因而化学镍金板表面污染程度相当低。

5.相对低的加工湿度减少了对板材及金属化孔的热冲击,板材不易出现纤维分层,板
的尺寸稳定性高,金属化孔不易出现内层断裂等缺陷。

化学镍金板的主要应用
1.移动电话机
2.笔记本电脑
3.传呼机
4.计算器
5.电子词典
6.电子笔记本
7.记忆卡
8.掌上型电脑
9.掌上型游戏机
10.IC卡
11.汽车用板
12.其他在苛刻环境下使用的线路板
化学镍-磷镀层物理特性
1.密度:7.9g/cm2
2.磷含量:8-10%(重量比)
3.硬度:48 Rockwell(500vhn)(于沉积后)
4.导电性:75 micro ohm-cm
5.热膨胀系数:13.8微米/米/℃
6.镀层完全符合下列规范的要求:Mil-C-26074B(军用规范:化学镀镍层技术要
求);AMS 2404A(航空材料规范、化学镀镍);ISO 4527(国际标准:自催化镍磷镀层-规范和实验方法)
化学镍金各层的功能
高度活性引发镍沉积(单分子层)
的镍
-磷合金,可焊接,可
Bonding 用 镍层的保护层。

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