CF制程简介 ppt课件
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Glass Output
MVA製程 (多象限垂直配向)
Multi-domain Vertical Alignment
藉由此突出物的幫忙,可以讓液晶產生一預傾(pre-tilt angle),以便當電壓施 加於液晶時,可以讓液晶倒向不同的方向,人眼對液晶長軸與短軸的屈光特性並 不一致, 以致當人眼的夾角變化時,感受到的光強度便不一致,就會有不同灰 階的感覺。MVA的原理就是想利用不同角度的液晶,藉由互相的補強,來擴大視 角的範圍 。VA机种液晶排列是垂直于面板,属于normal black类型。
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CF俯視圖
彩色濾光片結構
CF剖面圖
RBM 1.2μm
0.3~0.7T
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BM製程
BM RGB
OC
ITO
MVA
PS
1. 功用:遮光效用,防止TFT產生光電效應進而產生誤動作;
防止兩色相混,使兩顏料不會混合在一起;
增進色彩對比性;
2. Cr BM製程
樹脂BM製程
基板
光阻塗佈
Cr成膜 光阻
光阻塗佈
CF制程简介
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中小二期工程部 雷清芳
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簡報大綱
液晶顯示器的基本構成元件 彩色濾光片的結構 CF製程介紹 CF不良简介
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何謂Color Filter
Color Filter – 彩色的LCD需要用到彩色濾光片(Color Filter),經由控制IC的 訊號處理,使得從背光源發射的強光,可利用彩色濾光片的處理, 表現出彩色的畫面。 – 彩色濾光片之製作是於玻璃基板上,將紅、綠、藍三原色之有機 材料,製作在每一個畫素之內。
PS Bottom Area
7.75um
Opening of lower pixel
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X軸面
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Y軸面
CF不良簡介
• 白缺陷: 漏光(RBM欠陷、RGB色剝、針孔、圖形刮傷等)
• 黑缺陷: 異物(RBM殘留、Particle、RGB光阻異物等)
• Mura缺陷: Mura(直/橫 Mura、黑Gap Mura、ITO色不均等)
CF
CF
TFT
Spacer-Ball
TFT Column PS光罩
UV 燈
PS光阻塗佈及旋轉
顯影
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曝光
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烘烤
Photo Spacer
同性
電互
Cell-Ball spacer
斥
CF- PS
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MACRO外觀檢查光Fra bibliotek透過檢查強光燈檢查
鈉燈反射檢查
主要針對外觀不良(異物、漏 光、Mura、色不均等)進行 篩檢過濾檢查。
自由電子 Ar+
基板 通 入 Ar 氣 體
二次電子
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抽 真 空
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BM RGB
RGB製程
OC
ITO
MVA
PS
UV燈
光罩
BM - 基板
紅色光阻塗佈
曝光
曝光部分因聚合 而失去溶解性。
顯影
洗去未曝光部分, 形成所需圖案樣式。
烘烤
加熱以硬化殘 留之負型光阻。
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綠色&藍色
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正/負型光阻
正型光阻 :開口曝光~光阻不保留
PS
• 所謂ITO是指Indium(銦)及Tin(錫)的氧化合物,因為透明 又具導電性,所以又稱透明導電膜。
ITO靶
RGB基板
濺鍍
鍍好ITO膜之基板
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BM RGB
MVA 製程
OC
ITO
MVA
PS
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Glass Input 水洗段Clean MVA光阻塗佈
曝光製程 顯影
AOI檢查
Oven
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特性量測
BM
位置精度 線幅精度 Total Pitch 光學濃度(OD)
RBG 色度(分光值)
膜厚
ITO 透過率
阻抗值
PS柱高
PS 位置精度
上底PP尺T课寸件
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BM特性量測
黑色陣列圖案(BM)總長 ─ Total Pitch
正常
Total Pitch變寬
部份偏移
關鍵性的尺寸: BM的線寬、開口率、位置精度
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液晶顯示器的基本構成元件
TAB IC
R
驅動IC板
Glass 液晶
G Glass
TFT-LCD面板剖面圖
偏光片
CF
TFT
B
偏光片 背光燈管
1.TFT LCD是由兩片玻璃所組成,上端是CF ,下端是TFT,中 間夾著一層液晶,再搭配偏光板、背光板及驅動電路等元件, 形成為一顯示器模組。
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PPT课件
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白缺陷類-BM欠陷
透射光
反射光
BM欠陷特徵:
從反射光中較易看出,如果從透射光去看可以
看見不規則遮光層消失,形成漏光現象。
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白缺陷類- RBM額緣針孔
透射光
反射光
RBM額緣針孔:
從反射光中較易看出,如果從透射光去看可以看見遮
光層消失,形成漏光現象PP。T课件
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PPT课件
負型光阻 :開口曝光~光阻保留
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BM RGB
OC製造流程
OC
ITO
MVA
PS
CF廠一般機種製造流程
導入OC材機種製造流程
BM+RGB
OC層的作用說明: 使色層平坦化與保護層的作用,提升後段製程良率。
OC
ITO
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鍍ITO製程(Sputtr ITO)
BM RGB
OC
ITO
MVA
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RGB-穿透率
理想下:穿透PP率T课件越高越好
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Photo Spacer 規格量測
特性量測:位置精度、膜厚、上/下底線幅
Photo spacer 13㎛
Opening of upper pixel
4㎛
PS Top Area
2.75um
BM center Y BM center X
加入凸起物(Protrusion)
使液晶本身產生一個預傾角
(Pre-tilt Angle)
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Photo Spacer
BM RGB
OC
ITO
MVA
PS
• 目的:在使TFT及CF面板中間有間距,使液晶能做旋轉的動作.
Conventional Structure
Novel Structure
基板 黑色光阻
曝光
UV光源 光罩
曝光
UV光源 光罩
顯影 蝕刻 光阻剝離BM形成
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顯影
硬烤BM形成 6
鍍鉻製程(Sputtr Cr)
原理:利用高壓電場將通入的氣體分子Ar游離成Ar+離子和電子, 再以電場加速Ar+離子撞擊Target,Target原子就會被撞擊出來, 沉積在基板上。
靶材Cr
開口幅-Y
OD值、膜厚 開口幅-X
線PPT寬课件變寬 = 開口率變小
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RGB色度量測
色度
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RGB特性量測 II
起始部
幅手 全距
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終了部
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RGB 特性量測 I
色度 線寬 透過率 線寬
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ITO規格量測
•穿透率(88以上)
ITO膜 •阻抗值(30以下)
理想下阻抗值越低越好