TFT製造流程
TFT-LCD的生產過程分為Array、Cell及模組製程(詳
見圖二，圖三)。Array製程類似半導體的鍍膜、曝光、 顯影、蝕刻等過程，這方面國內技術成熟，良率一般都 有90%以上。Cell製程是將基板與彩色濾光片配向處理 ，切割面板、注入液晶，及貼上偏光板等，是目前良率
較低的部分。LCD基板依其尺寸大小有其最適切割尺寸
目前全球玻璃母板的領導廠商是美國康寧，採浮法製程為主。由於TFT-LCD廠 商多數長期與康寧合作，其生產線上參數最適化設定均與康寧玻璃母板特性配 合，使廠商無法輕易的更換玻璃供應廠商，長久以來成功的阻礙競爭者撼動其 地位。玻璃廠由興建至可投產約須耗時1.5~2年的時間，產品的生命週期可享受 長達4~5年，目前也是台灣在TFT-LCD產業中缺乏的主要技術。
TFT-LCD的長期發展
從長遠來看，成本的降低將是廠商努力的課題。TFTLCD在產製過程中基板尺寸大小一旦固定，可切割之 最佳經濟面板數目亦隨之決定, 因此決定各家廠商生產 成本的關鍵因素，將在於產品良率及控制材料成本的 能力。若將TFT-LCD的成本區分為固定與變動兩部分 ，受限於玻璃基板尺寸及可切割的面板數目是固定的 ，因此單位固定成本的降低須仰賴生產良率的提升， 在單位變動成本方面，以一條產能利用率達85%的3.5 代TFT-LCD生產線而言，材料成本佔整體製造成本的 70%，也就是說隨著生產線良率改善後，以零組件及材 料為主的變動費用將主導著廠商成本的降低趨勢。
保護層 ITO導電膜
配向膜
液晶
薄膜電晶體 玻璃基板 偏光膜
TFT LCD製造分工
GLASS SUBSTRATE
CF PROCESS LCD PROCESS
GLASS SUBSTRATE
LCM PROCESS
TFT PROCESS
無塵室潔淨程度
CLEAN ROOM CLASS LEVEL •Number of Particle (<0.3u) exit in a cubic foot. •Example: [Class 100] →less 100 particles (<0.3u) exit in a cubic foot.
產品介紹
大型TFT-LCD彩色濾光片
•基板尺寸: 第3.5代 620mmx750mm
•製程方法: 顏料分散法
•標準產能: 4萬片基板/月
•技術來源: 日本STI Technology, Inc.
•應用產品: 12吋以上筆記型電腦或 監視器用TFT-LCD
黑色矩陣
偏光膜
玻璃基板
彩色濾光片
保護層 ITO導電膜
及數量。在Module製程方面，是將面板與驅動IC、背光 板、電路板組裝，難度不高，良率接近100%。
彩色濾光片製造流程
進料檢驗
玻璃 進料
光阻 進料
玻璃 光罩 進料
ITO 光罩 進料
化學 進料
彩色濾光片製造流程
PW
玻璃清洗
初始清洗就是將玻璃基板放入清洗槽中，利用 化學或物理的方法將在玻璃基板表面的塵粒， 或雜質去除，防止這些雜質塵粒，對後續的製 程造成影響。
顯影
O/C
G光阻塗佈
ITO
曝光
PW
顯影
B光阻塗佈
曝光
顯影
O/C
ITO
CF成品
彩色濾光片製造流程
關鍵技術： •乾式製程：
Cr & ITO 鍍膜技術—鍍膜一致性及膜面均勻性
•濕式製程： 曝光/顯影/(蝕刻)技術—膜面一致性及均勻性 •無塵室保持整潔 避免Particle污染
黑色矩陣
偏光膜
玻璃基板
彩色濾光片
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
顯影
蝕刻
去光阻
R光阻塗佈
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
顯影
蝕刻
去光阻
R光阻塗佈
曝光
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈

曝光
顯影
蝕刻
去光阻
R光阻塗佈
曝光
顯影
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
彩色濾光片製造流程
PW Cr
玻璃清洗
Cr濺鍍
高能量粒子(大都是以電場加速的正離子)衝撞固體 表面的話，該固體表面的原子、分子與這些高能量 粒子交換動量，從表面彈出，此稱濺鍍 SPUTTERING現象
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
Cr濺鍍
光阻塗佈
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
1 foot
<0.3u
玻璃清洗
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
顯影
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
顯影
蝕刻
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
顯影
蝕刻
去光阻
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
G光阻塗佈
曝光
顯影
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
BPR
R光阻塗佈
曝光
顯影
G光阻塗佈
曝光
顯影
B光阻塗佈
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
BPR
R光阻塗佈
曝光
顯影
G光阻塗佈
曝光
顯影
B光阻塗佈
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
R光阻塗佈
曝光
顯影
G光阻塗佈
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
R光阻塗佈
曝光
顯影
G光阻塗佈
曝光
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
R光阻塗佈
曝光
顯影
曝光
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
BPR
R光阻塗佈
曝光
顯影
G光阻塗佈
曝光
顯影
B光阻塗佈
曝光
顯影
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
BPR
R光阻塗佈
曝光
顯影
O/C
G光阻塗佈
曝光
顯影
B光阻塗佈
彩色濾光片介紹
TFT-LCD的運作原理
涵蓋液晶材料的光學特性、電流電場效應、 RGB三原色的全彩效果等。簡單的說，其 運用電路產生電場驅動液晶分子，藉由液晶 物理特質產生不同的光學效應，再搭配對應
彩色濾光片上RGB三原色的變化，達到全
彩顯示影像的效果。
LCD簡單應用原理
1.光在液晶中方向性將成90度扭轉。 2.各面向的光源通過偏光板轉成單一方向 光源。 垂直：若上下兩片偏光板方向呈90度角 ，恰巧 為中間夾的液晶分子扭轉的 90度角，故光可以通過，呈面白底（ normal white）的畫面。 平行：若上下兩片偏光板方向平行，由 於中間夾的液晶分子扭轉的90度角， 故光不可以通過，呈面黑底（normal black）的畫面。
光線開閉的功能。
7、背光源模組(Backlight module)：
由於TFT-LCD的光源來自外部，必須藉由背光
源才能達到顯示效果。目前TFT-LCD多採用冷陰極
螢光管作為發光源，並由導光板、反射板、擴散片
、分光片等材料及零組件所組成。
8、LCD驅動IC：
驅動IC的功能主要在控制玻璃基板上每個畫素 電極導通狀況，使影像及訊號可正確的呈現於面板 上。面板上的驅動IC又分為Column Drive IC及Row Drive IC兩種。
曝光
顯影
O/C
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
BPR
R光阻塗佈
曝光
顯影
O/C
G光阻塗佈
ITO
曝光
顯影
B光阻塗佈
曝光
顯影
O/C
ITO
彩色濾光片製造流程
PW Cr +PR
玻璃清洗
RPR
Cr濺鍍
光阻塗佈
曝光
GPR
顯影
蝕刻
去光阻
BPR
R光阻塗佈
曝光
配向膜