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华中科技大学《模拟电子技术》课程PPT——Ch 5

¾ 与BJT对比,如何体现控制关系?
VDD
iD vGS vDS
iD
iC iB vCE vGS 对iD的控制
s
VGG
g
d
N

N
P B 衬底引线 VDD

耗尽层
预夹断点
vGS1=VGS>VT
s
VGG
g
d
vGS2=VGS>VT O 截止区 vGS3<VT vDS
Lec 05
N

N
P B 衬底引线

耗尽层
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华中科技大学电信系
张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
其它类型的MOSFET —— N沟道耗尽型MOSFET
二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子,已存在导电沟道 可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流
s g 掺杂后具有正 离子的绝缘层 d 二氧化硅
d 衬底 g B s
+++++++ +++ + + N N 耗尽层 N 型沟道 P
s
VDD
VGG
g
d
N

N
P B 衬底引线

VDS↑ →ID↑ →沟道电位梯度↑
→靠近漏极d处的电位升高 →电场强度减小 →沟道变薄
iD
耗尽层
VDD s VGG g
d
N

N
P B 衬底引线

耗尽层
O
8 Lec 05
vDS
华中科技大学电信系 张林
整个沟道呈楔形分布
MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 如何让该MOSFET导电?
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张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
原理小结
沟道中只有一种类型的载流子参与导电,所以场效应管也称 为单极型三极管。 MOSFET的栅极是绝缘的,所以iG≈0,输入电阻很高。 MOSFET是电压控制电流器件(VCCS),iD受vGS控制。 只有当vGS>VT时,增强型MOSFET的d、s间才能导通。 预夹断前iD与vDS呈近似线性关系;预夹断后,iD趋于饱和。
预夹断临界点轨迹 vDS=vGS-VT(或 vGD=vGS-vDS=VT) 3V 饱和区 1.5 2.5V 1 2V 0.5 0 vGS=1.5V 2.5 5 7.5 10 截止区 vDS/V
i D = f (v DS ) vGS = const.
iD/mA
② 可变电阻区 vGS >VT ,vDS <(vGS-VT)

VDS一定,VGS变化时
给定一个vGS ,就有一 条不同的 iD – vDS 曲线。
iD
耗尽层
VDD s VGG g
d
预夹断点
vGS1=VGS>VT
N

N
P B 衬底引线

vGS2=VGS>VT O 截止区 vGS3<VT vDS
Lec 05
耗尽层
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张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
(2)VDS对沟道的控制作用 当VGS一定(VGS >VT )时,
s
VDD VGG g
d
N

N
P B 衬底引线

VDS↑ →ID↑ →沟道电位梯度↑ 当VDS增加到使VGD=VT 时,
在紧靠漏极处出现预夹断。
iD
耗尽层
VDD s VGG g
d
A
预夹断点
N

N
P B 衬底引线

耗尽层
O
9 Lec 05
13
Lec 05
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张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 可以构成双口吗?
d T s B T s 共源 g 共栅 B d g B T d 共漏 s
g
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Lec 05
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张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 控制关系是线性的吗?
输出特性曲线及大信号特性方程
预夹断临界点轨迹 vDS=vGS-VT(或 vGD=vGS-vDS=VT) 3V 饱和区 1.5 2.5V 1 2V 0.5 0 vGS=1.5V 2.5 5 7.5 10 截止区 vDS/V
2 0 3 6 9
截止区
12
15
vDS/V
-6
-4
-2
0
2
4
vGS/V
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Lec 05
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张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
其它类型的MOSFET —— P沟道MOSFET
d d
g
B
g
B
s
s
¾ 衬底是什么类型的半导体材料? ¾ 哪个符号是增强型的? ¾ 在增强型的P沟道MOSFET 中, vGS 应加什么极性的电压 才能工作在饱和区(线性放大区)?
开启电压
必须依靠栅极外加电压才能产生反 型层的MOSFET称为增强型器件
7 Lec 05
s
VGG
g
d
N

N
N 型感生沟道(反型层)

耗尽层
P B 衬底引线
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张林
MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 如何让该MOSFET导电?
(2)VDS对沟道的控制作用 当VGS一定(VGS >VT )时,
rdso是一个受vGS控
制的可变电阻
MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 控制关系是线性的吗?
输出特性曲线及大信号特性方程 ② 可变电阻区
iD ≈ 2 K n ( vGS − VT ) vDS 1 rdso = 2 K n (VGS − VT )
iD/mA 可变电阻区 2 (非饱和区) 饱和区 1.5 2.5V 1 预夹断临界点轨迹 vDS=vGS-VT(或 vGD=vGS-vDS=VT) 3V
可变 电阻区 vDS <VGS-VT
饱和区 vDS≥VGS-VT
B
s
VGG
g
d
A
预夹断点
N

N
P B 衬底引线

耗尽层
O
vDS
10
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MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 如何让该MOSFET导电?
(3)VDS和VGS同时作用时
s
VDD VGG g
d
N

N
P B 衬底引线
i D = f (v DS ) vGS = const.
① 截止区 当 vGS < VT 时,导电沟道 尚未形成, iD = 0 ,为截 止工作状态。
iD/mA
可变电阻区 2 (非饱和区)
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MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 控制关系是线性的吗?
输出特性曲线及大信号特性方程
2 iD = K n [2( vGS − VT ) vDS − vDS ]
可变电阻区 2 (非饱和区)
由于vDS较小,可近似为
iD ≈ 2 K n ( vGS − VT ) vDS
rdso
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dvDS = di D
Lec 05
vGS
1 = 2 K n (VGS − VT ) =常数
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Lec 05
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MOSFET是如何实现信号放大的?
与BJT类似,FET也有器件参数,选用时必须以此为依据 一、直流参数
1. 开启电压VT (增强型参数) 2. 夹断电压VP (耗尽型参数) 3. 饱和漏电流IDSS (耗尽型参数) 4. 直流输入电阻RGS (109Ω~1015Ω )
N

W
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MOSFET是如何实现信号放大的?
N沟道增强型结构
源极 s 铝 栅极 g 铝 漏极 d 铝 SiO2 绝缘层
d 衬底 g B s
N

N
P 型硅衬底

耗尽层
B 衬底引线
剖面图
符号
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MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 如何让该MOSFET导电?
(1)VGS对沟道的控制作用 当VGS≤0时 无导电沟道, d、s间加 电压时,也无电流产生。 当0 <VGS <VT 时 产生电场,但未形成导电 沟道(反型层),d、s间加电 压后,没有电流产生。
s VGG s VGG g d
N

N
P B 衬底引线

耗尽层
g
d
N

N
P B 衬底引线

耗尽层
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Lec 05
张林
华中科技大学电信系
MOSFET是如何实现信号放大的?
¾ 控制关系是线性的吗?
输出特性曲线及大信号特性方程 ③ 饱和区 (恒流区又称放大区) vGS >VT ,且vDS≥(vGS-VT)
iD/mA 可变电阻区 2 (非饱和区) 饱和区 1.5 2.5V 1 2V 0.5 vGS=1.5V 2.5 5 7.5 10 截止区 vDS/V 预夹断临界点轨迹 vDS=vGS-VT(或 vGD=vGS-vDS=VT) 3V
I-V 特性:
iD = K n ( vGS − VT ) 2
必 须 让 FET 工 作 在 饱 和 区 (Lec 05
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MOSFET是如何实现信号放大的?
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