能量 E
g
导带
E
c
E /2
g
E
f
Eg
Eg/2
Ev
价带
Ec
Ec
E
f
E
g
E
f
E
v
Ev
(a)
(b)
(c)
图 3.2 (a) 本征半导体； (b) N型半导体； (c) P型半导体
半导体内产生自发辐射的三个步骤：
（1）在P型和N型半导体组成的PN结界面上， P型的空穴向N 型扩散， N型的电子向P型扩散，因而产生扩散运动，形成内 部电场， 见图3.3(a)。
用分布反馈激光器就可达到目
0
的。
(b) 300 Mb/s数字调制
2. 激光束的空间分布用近场和远场来描述。 近场是指激光器输出反射镜面上的光强分布； 远场是指离反射镜面一定距离处的光强分布。 图3.8是GaAlAs DH激光器的近场图和远场图， 近场和远
场是由谐振腔(有源区)的横向尺寸，即平行于PN结平面的宽度 w和垂直于结平面的厚度t所决定，并称为激光器的横模。
I=75mA P0=2.3mW
(a) 直流驱动
图3.7(b)是300 Mb/s数字调制
Im/mA
的光谱特性，由图可见，随着
40
调制电流增大，纵模模数增多，
35
谱线宽度变宽。用FP谐振腔可
以得到的是直流驱动的静态单
30
纵模激光器，要得到高速数字
调制的动态单纵模激光器，必
25
须改变激光器的结构，例如采
半导体激光器的结 构多种多样，基本结构是图 3.5示出的双异质结(DH)平 面条形结构。这种结构由三 层不同类型半导体材料构成， 不同材料发射不同的光波长。 图中标出所用材料和近似尺 寸。结构中间有一层厚 0.1~0.3 μm的窄带隙P型半 导体，称为有源层；两侧分 别为宽带隙的P型和N型半导 体， 称为限制层。三层半 导体置于基片(衬底)上，前 后两个晶体解理面作为反射 镜构成法布里 - 珀罗(FP) 谐振腔。
内部电场
能量
p
Ec
P区
漂移
p
Ev
扩散
n
Ec
势垒 Ef N区
n
Ev
(b)
半导体内产生自发辐射的三个步骤：
（3）在PN结上施加正向电压，产生与内部电场相反方向的外 加电场，使得能带倾斜减小，扩散增强。最后在PN结形成一 个特殊的增益区。增益区的导带主要是电子，价带主要是空 穴，结果获得粒子数反转分布，见图3.3(c)。
2L R1R2
式中，γth为阈值增益系数，α为谐振腔内激活物质的损 耗系数，L为谐振腔的长度，R1，R2<1为两个反射镜的反射率 激光振荡的相位条件为
L=q l 或l 2nL
2n
q
反射镜 光的振幅
反射镜
式中，λ为激光波长，n为激活物质 的折射率，q=1, 2, 3 …称为纵模模
数。
l 2n
L
4.
图3.7是GaAlAs DH激光器的光谱特性。在直流驱动下， 发射光波长有一定分布，谱线具有明显的模式结构。这种结 构的产生是因为导带和价带都是由许多连续能级组成的有一 定宽度的能带，两个能带中不同能级之间电子的跃迁会产生 连续波长的辐射光。其中只有符合激光振荡的相位条件式 (3.5)的波长存在。 这些波长取决于激光器纵向长度L，并称 为激光器的纵模。
次反馈，不断得到放大，方向性得到不断改善，结果增益大幅
度得到提高。
全反射镜 M1
部分反射镜 M2
激光输出
谐振腔选频
激光物质
另一方面，由于谐振腔内激活物质存在吸收， 反射镜存在透
射和散射，因此光受到一定损耗。当增益和损耗相当时， 在
谐振腔内开始建立稳定的激光振荡， 其阈值条件为
γth=α+
11 ln
图3.6示出DH激光器工作原理。 由于限制层的带隙比有源层宽， 施加正向偏压后，P层的空穴和N 层的电子注入有源层。P层带隙 宽，导带的能态比有源层高，对 注入电子形成了势垒， 注入到 有源层的电子不可能扩散到P层。 同理，注入到有源层的空穴也不 可能扩散到N层。另一方面，有 源层的折射率比限制层高，产生 的激光被限制在有源区内。
图3.2示出不同半导体的能带和电子分布图。根据量子统 计理论，在热平衡状态下，能量为E的能级被电子占据的概率 为费米分布
p(E)
1
1 E exp(
Ef
)
kT
式中，k为波兹曼常数，T为热力学温度。当T→0时， P(E)→0， 这时导带上几乎没有电子，价带上填满电子。E
f称为费米能级，用来描述半导体中各能级被电子占据的 状态。 在费米能级，被电子占据和空穴占据的概率相同。
激光产生示意图
基本的光学谐振腔由两个反射率分别为R1和R2的平行反
射镜构成，并被称为法布里 - 珀罗(Fabry Perot, FP)谐振
腔。由于谐振腔内的激活物质具有粒子数反转分布，可以用它
产生的自发辐射光作为入射光。入射光经反射镜反射，沿轴线
方向传播的光被放大，沿非轴线方向的光被减弱。反射光经多
1.0 T＝ 30 0 K
0.8
0.6
⊥
∥
0.4
0.2
0 80 60 40 20 0 20 40 60 80
辐 射 角(度 )
(a)
⊥
∥ (b)
3.-9典型半导体激光器的远场辐射特性和远场图样 (a) 光强的角分布； (b) 辐射光束
3. 转换效率和输出光功率特性
激光器的电/光转换效率用外微分量子效率ηd表示，其定 义是在阈值电流以上，每对复合载流子产生的光子数
第 3 章 通信用光器件
3.1 光源 3.2 3.3 光无源器件
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分类：
第 3 章 通耦合器、波分复用器、调制器、光开关 和隔离器等。
本章介绍通信用光器件的工作原理和主要特性， 为系统的设 计提供选择依据。
3.1光源
光源是光发射机的关键器件，其 功能： 对于内调制：把电信号转换为光信号（调制）。 对于外调制：提供光信号。 分类： 半导体激光二极管 或称激光器(LD) 发光二极管或称发光管(LED) 固体激光器（很少用）
hf=Eg
Ec
式中，f=c/λ，f(Hz)和λ(μm)分别为发 射光的频率和波长， c=3×108 m/s为光 速，h=6.628×10-34J·S为普朗克常数，1
eV=1.6×10-19 J，代入上式得到
Eg=hf
E
v
l hc 1.24
Eg Eg
不同半导体材料有不同的禁带宽度Eg，因而有不同的发 射波长λ。镓铝砷 -镓砷(GaAlAs-GaAs)材料适用于0.85 μm 波段，铟镓砷磷 - 铟磷(InGaAsP-InP)材料适用于1.3~1.55 μm波段。参看图3.5(b)。
设在单位物质中，处于低能级E1和处于高能级E2(E2>E1)的原子 数分别为N1和N2。当系统处于热平衡状态时，存在下面的分布：
N 2 exp( E2 E1 )
N1
kT
式中， k=1.381×10-23J/K，为波尔兹曼常数，T为热力学温
度。由于(E2-E1)>0，T>0，所以在这种状态下，总是N1>N2。
调 制 频 率 f / G Hz
图 3.11 半导体激光器的直接调制频率特性
5.
对于线性良好的激光器，输出光功率特性如式(3.7b)和
（2）有源层的折射率比限制层高，产生的激光被限制在有源区 内，因而电/光转换效率很高，输出激光的阈值电流很低，很小 的散热体就可以在室温连续工作。
3.1.2半导体激光器的主要特性
1.
半导体激光器的发射波长取决于导带的电子跃迁到价带 时所释放的能量，这个能量近似等于禁带宽度Eg(eV)，由式 (3.1)得到
0 20 40 60 80 工 作 电I /流mA
(a)
(b)
图 3.10 (a) 短波长AlGaAs/GaAs;
(b) 长波长InGaAsP/InP
4.
在直接光强调制下， 激光器输出光功率P和调制频率f的关 系为
p(0)
P(f)=
[1 ( f / ft )2 ]2 4ξ 2 ( f / ft )2
内部电场
PN 结空 P区 间电 荷区
扩散
(a)
N区
半导体内产生自发辐射的三个步骤：
（2）内部电场产生与扩散相反方向的漂移运动，直到P区和N
区的Ef相同，两种运动处于平衡状态为止。并且由于存在内建 电场的电位差，使得 P区的电子要比N区电子的电位势能要高，
P和N之间形成势垒结果能带发生倾斜。见图3.3(b)。
3.1.1半导体激光器工作原理和基本结构
激光，其英文LASER就是Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation(受激辐射的光放大)的 缩写。半导体激光产生过程：
（激励源）
正向偏压
半导体PN结 粒子数反转 产生受激辐射
（激光物质）
（谐振腔）
3.7(a)可见，随着驱动电流 的增加，纵模模数逐渐减少， 谱 线宽度变窄。这种变化是由于谐振 腔对光波频率和方向的选择，使边 模消失、主模增益增加而产生的。 当驱动电流足够大时，多纵模变为 单纵模，这种激光器称为静态单纵 模激光器。
I=100mA P0=10mW
I=85mA P0=6mW
I=80mA P0=4mW
W＝ 10m 20 m 20 m 30 m
30 m
50 m
10 m 近 场 图样
0.1 rad 远 场 图样
图 3.8 GaAlAs DH条形激光器的近场图
图3.9为典型半导 体激光器的远场辐 射特性，图中θ‖ 和θ⊥分别为平行 于结平面和垂直于 结平面的辐射角， 整个光束的横截面 呈椭圆形。