国家科技重大专项极紫外光刻胶项目通过验收

5 月 24 日，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工

艺”专项(以下简称 02 重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验

收专家组对 02 重大专项“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目进行了

任务验收和财务验收。与会专家听取了项目负责人和课题负责人对项目和课题

完成情况的汇报、测试组的现场测试报告、财务执行情况报告等，审阅了验收

资料。经过认真讨论，与会专家一致同意该项目通过验收。

《国家中长期科学技术发展规划纲要(2006-2020 年)》在重点领域中确定

一批优先主题的同时，围绕国家目标，进一步突出重点，筛选出若干重大战略

产品、关键共性技术或重大工程作为重大专项，力争取得突破，努力实现以科

技发展的局部跃升带动生产力的跨越发展。

“极大规模集成电路制造装备与成套工艺”专项(02 专项)项目“极紫外光刻

胶材料与实验室检测技术研究”由中国科学院化学研究所、中国科学院理化技

术研究所、北京科华微电子材料有限公司联合承担。经过项目组全体成员的努

力攻关，完成了 EUV 光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组

成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发，达到了任务书中

规定的材料和装备的考核指标。项目共申请发明专利 15 项(包括国际专利 5 项)，

截止到目前，共获得授权专利 10 项(包括国际专利授权 3 项);培养了博士研究

生 9 名，硕士研究生 1 名。

与会专家对项目取得的研发成果给予了充分肯定，指出开展极紫外光刻

胶的研发具有战略眼光，经过项目组成员几年的努力，圆满地完成了研发任务，

达到了项目任务书中规定的指标;建立了一支在高档光刻胶领域的研发队伍，为

我国的半导体集成电路产业的稳定发展提供了人才支持。