扫CV,和标准峰对比,位置还有是不是有杂峰...
一般扫铁氰化钾,看它的氧化还原峰位置是不是正常：铁氰化钾-亚铁氰化钾电对被广泛用于评价电极表面电子活性能力（by 伏安法，阻抗法等），主要是这个Fe3+ 和 Fe2+之间的单电子反应动力学是人们研究得最成熟的，使用起来也最简便的缘故。

其可逆性非常好，
如果是理想状态下，理论峰电位差值应该是56mV。

且随着扫描速度增加峰电位不移动。

但实际上由于电极反应速度、溶液扩散速度、电极表面吸附杂质等因素，峰电位差值通常大于56mV 扫描速度增大峰电位差值也会逐渐增大一般来说金电极玻碳电极等电位差应该小于80mV 碳电极等至少应该小于100mV 才能说明电极上阻碍电子传递阻碍电极反应的影响较小。

可以使用
电极在鉄氰化钾溶液中CV EIS：CV峰电流越大，对应的EIS电阻越小，也就是半圆的直径越小
当电极表面被致密的膜覆盖时，电子探针（Fe3+/Fe2+）不容易穿过这层膜接触到电极表面发生氧化还原反应，即使活性探针穿过了这层膜，如果金属表面的大部分被占据（比如，硫醇自组装膜在Au表面），探针与金属接触的机会（面积）也大大降低，从而导致电子交换反应动力学变慢（阻力变大），这表现在CV图上就是峰值电位差变大，以及电流峰值变小。

这种现象在电化学阻抗谱上表
现得更明显。