当前位置:文档之家› 镭雕工艺简介

镭雕工艺简介


全文完
太小:振镜往前走得太少激光才打开,笔画开始点会出 现重点; 默认值:2 step 使用范围:1-15 step 备注:调整该参数可以减小首发重点问题。 激光关延时 太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后激光才关闭, 笔画末尾 点会形成重点,增加打标时间。 太小:振镜还示充分转到,激光就关闭,笔画的末尾不 够 默认值:1000us 使用范围:200-1000us 备注:高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。 拐弯延时: 太大:振镜已充分转到,并停留一段时间后PC才处理
五、效果调试方法
1. 2. 3. 1. 2. 3. 4. 1. 2. 3.
Ȓ取自图层0的打标参数 打标次数 有效矢量步长(mm) 有效矢量步间延时(us) 空矢量步长(us) 空矢量步间延时(us) 激光开延时(step) 激光关延时(us) 跳转延时(us) 拐弯延时(us) cw方式或硬件内调制方式 Q SWTICH频率(KHZ) Q释放时间(us) 另存为 删除 1 0.012 12 0.04 8 2 300 500 5 FLAS 5.000 5.000

提高精度 有效矢量步长减小 有效矢量步间延时增加 Q频率增加 增加深度 有效矢量步长减小 有效矢量步间延时增加 Q频率减小 电流增加 提高雕刻速度 有效矢量步长增加 有效矢量步间延时减小 跳转延时减小
设为默认值
4. 激光关延时减小
5. 空矢量步长增加
6. 空矢量步间延时减小
注:一个参数调整有可能影响多种效果,所以为 了得到较好的效果,一般要调整多个参数。





电流强度对雕刻非金属材料有很大影响,电流太大 会破坏产品表层如:烧焦、雕刻面起泡等;太小图 案会不清晰、无深度。 焦距对雕刻效果的影响 焦距的定义:激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直 距离,一般为17.8-18cm之间。 被雕刻面离焦点近,激光能量大、雕刻深度深、字 体线条细; 被雕刻面离焦点远,激光能量小、雕刻深度浅,字 体线条粗; 雕刻金属材料时,一般离焦点要近 雕刻非金属材料时,一般可偏离焦点,尢其是雕刻 透光按键时,一定要偏离焦点3-5mm 。
Z ▾
另存为
删除
设为默认值
有效矢量步间延时
太大:雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢; 太小:雕刻出的笔画不够精细、稀疏、 无深度、雕刻速度快; 默认值:20us 建议值:8-40us跳转延时 跳转延时 太大:振镜已充分转到,并停滞一段时间后才处理下一 个笔画,增加雕刻时间; 太小:振镜还未充分转到,PC就开始处理下一个笔画, 笔画开始的地方会出现散点; 默认值:2000us 使用范围:300-2000us 激光开延时 太大:振镜往前走得太多激光才打开,笔画的开始会不 够长;
Z ▾
太大:空笔画处理时间长,雕刻时间增加; 太小:空笔画处理时间短,雕刻时间减少,但会出现笔 画相连的情况; 默认值:20us 使用范围:6-20us Q频率: 太大:聚能时间短,能量弱,雕刻出的点致密; 太小:聚能时间长,能量强,雕刻出的点稀疏; 默认值:3KHZ 使用范围:2-20KHZ 备注:调整该参数可以明显改变精度和深度 Q释放时间 默认值:8us 使用范围:3-30us(一般效果的数值调整与Q频率的乘积 为24左右)
三、软件介绍

镭射激光雕刻机软件包括计算机操作系统 (Windows98和其它版本)和雕刻软件Han′s laser2000。该雕刻软件可支持的文件格式有dwg、 cdr等。
四、镭射激光雕刻机的调试

1.
2. 3.

1. 2. 3. 4.
镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行 调试: 电流强度 焦距 参数 电流强度对雕刻效果的影响 电流强度大,雕刻深度深、字体线条粗; 电流强度小,雕刻深度浅、字体线条细; 雕刻金属材料时,电流强度大,一般在10以上; 雕刻非金属材料时,电流强度小,一般在9.5-10左 右,尢其是雕刻透光按键时电流强度一般都在9.8 左右。
画的下一线段,拐弯点会形成重点, Ȓ取自图层0的打标参数 1 打标次数 增加打标时间; 0.012 有效矢量步长(mm) 太小:振镜还未充分椟到,PC就开 有效矢量步间延时(us) 12 0.04 始处理笔画的下一线段,拐弯的地 空矢量步长(us) 8 空矢量步间延时(us) 方会出现圆弧; 2 激光开延时(step) 300 激光关延时(us) 默认值:5us 使用范围:3-6us 500 跳转延时(us) 备注:该参数一般不作调整。 5 拐弯延时(us) FLAS cw方式或硬件内调制方式 空矢量步长: 5.000 Q SWTICH频率(KH ) 太大:空笔画处理时间短,雕刻时 Q释放时间(us) 5.000 间减少,但会出现笔画相连的情况; 另存为 删除 设为默认值 太小:空笔画处理时间长,雕刻时 间增加; 默认值:0.03mm 使用范围:0.03-0.08mm 空矢量步间延时:

最大输出功率为50KW,最大雕刻范围为100*100mm, 最大雕刻深度为0.3mm,重复精度为0.001mm,雕刻速 度3600mm2.
镭射激光雕刻机硬件包括计算机硬件和激光发光器 硬件 计算机硬件包含电源、显示器、主板、机箱、硬盘、 CPU、内存条、软驱等。 激光发光器硬件包含主控箱、冷却水系统、Q驱动器、 振镜驱动器、电流控制器、激光聚光腔、镜头、作 业平台、脚踏开关等。
参数的调整对雕刻效果的影响 下图为激光雕刻软件中参数调整对话框,以下将重点
描述参数的意义、作用及调整其相应的参数对雕刻效 果的影响。 Ȓ取自图层0的打标参数 1 打标次数 有效矢量步长 0.012 有效矢量步长(mm) 太大:雕刻出的笔画不够精细、 有效矢量步间延时(us) 12 0.04 稀疏、无深度、雕刻速度度快; 空矢量步长(us) 8 空矢量步间延时(us) 太小:雕刻出的笔画精细、致密、 激光开延时(step) 2 300 激光关延时(us) 有深度、雕刻速度慢; 500 跳转延时(us) 默认值:0.01mm 5 拐弯延时(us) FLAS cw方式或硬件内调制方式 使用范围:0.001-0.018mm 5.000 Q SWTICH频率(KH ) 备注:调整该参数可以明显改变 Q释放时间(us) 5.000 雕刻的速度、精度和深度。
EVER
KEB
BRIGHT
昆山金利商标有限公司
镭射激光雕刻工艺简介
一、镭射激光雕刻机的种类及适用领域

镭射激光雕刻机按其发光的原理可分为CO2激光雕刻机 和半导体激光雕刻机。 CO2激光雕刻机广泛适用于木器、五金、塑胶、通讯等 行业;半导体激光雕刻机广泛适用于电子、电脑、五金、 通讯等行业。 我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机,其性能指 数 如下:
相关主题