北京金属靶材新建项目可行性研究报告规划设计/投资分析/实施方案报告摘要说明靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。

是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。

在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。

溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。

被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。

该金属靶材项目计划总投资9909.60万元，其中：固定资产投资6611.73万元，占项目总投资的66.72%；流动资金3297.87万元，占项目总投资的33.28%。

本期项目达产年营业收入22853.00万元，总成本费用17463.23万元，税金及附加190.38万元，利润总额5389.77万元，利税总额6323.57万元，税后净利润4042.33万元，达产年纳税总额2281.24万元；达产年投资利润率54.39%，投资利税率63.81%，投资回报率40.79%，全部投资回收期3.95年，提供就业职位436个。

高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。

其主要技术门槛表现在以下几个方面。

纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。

靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。

若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。

靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。

对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。

晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。

溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。

例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。

怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。

靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。

需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。

北京金属靶材新建项目可行性研究报告目录第一章项目总论第二章项目市场前景分析第三章主要建设内容与建设方案第五章土建工程第六章公用工程第七章原辅材料供应第八章工艺技术方案第九章项目平面布置第十章环境保护第十一章项目生产安全第十二章项目风险第十三章节能方案第十四章计划安排第十五章项目投资计划方案第十六章经营效益分析第十七章项目招投标方案附表1：主要经济指标一览表附表2：土建工程投资一览表附表3：节能分析一览表附表4：项目建设进度一览表附表5：人力资源配置一览表附表6：固定资产投资估算表附表7：流动资金投资估算表附表8：总投资构成估算表附表9：营业收入税金及附加和增值税估算表附表10：折旧及摊销一览表附表11：总成本费用估算一览表附表12：利润及利润分配表附表13：盈利能力分析一览表第一章项目总论一、项目建设背景溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。

在靶材制造的过程中，需要经历粉末冶炼、粉末屁合、压制成型、气氛烧结、塑性加工、热处理、超声探伤、机械加工、水切割、机械加工、金属化、绑定、超声测试、超声清冼、栓验出货，共计15道工序。

粉末冶金铸造法是溅射靶材的另一种重要制造工艺。

对于钨钛靶这类由两种熔点差别较大的金属组成的合金靶材则会选择粉末烧结工艺。

粉末冶金工艺一般选用高纯、超细粉末作为原料，并使用热等静压方法成型，而热等静压工艺具有容易获得均匀细晶组织的优点。

而热等静压工艺具有容易获得均匀细晶组织的优点。

溅射靶材行业的核心价值在于通过熔炼、提纯、加工和热处理等工艺对靶材的成分、微观组织结构、致密度和杂质等系列指标进行严格的控制，以满足溅射镀膜过程要求。

靶材的质量水平会直接影响到沉积所得薄膜的均匀性和一致性，因此溅射靶材对纯度、致密度和组织均匀性等特性均有严格要求。

靶材纯度方面，不同的下游应用要求会有所不同，超大规模集成电路芯片对溅射靶材的金属纯度的要求最高，通常要达到99.9995%（5N5）以上，平板显示器和太阳能电池等领域对金属纯度的要求略低，要求分别为99.999%（5N）和99.995%（4N5）。

杂质会对沉积薄膜的构成污染，因此靶材的杂质含量也会有严格的标准要求。

靶材的致密度与气孔的数量成反比，而气孔中的杂质气体在溅射过程中是污染源，因此靶材的致密度会对溅射的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象，以及薄膜的电学和光学性能有显著影响。

靶材的成分，组织和晶粒度大小主要影响沉积薄膜的均匀性和质量的稳定性，成分和组织均匀性以及晶粒度大小等指标对于靶材的质量控制也是重中之重。

独立而成熟的生产制造技术和研发能力是高纯溅射靶材企业的立身之本。

高纯溅射靶材行业以冶金提纯、塑形加工、热处理和机械加工等制造工艺过程为基础，信息技术等领域需求为导向，属于典型的技术密集型产业。

半导体芯片，平板显示和信息储存等下游信息产业的产品更新快，技术日新月异，靶材制造企业作为上游关键材料的供应商也必须要求有充分的研发能力来同步更新其产品和技术。

在平板显示领域与靶材需求对应的下游产品以液晶显示面板为主。

根据技术特点不同，平板显示器可分为液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、有机发光二极管显示（OLED）、场致发光显示器（EL）和场发射显示器（FED）等。

OLED由于供货不足和价格高企等原因，目前主要应用于部分小尺寸显示领域；PDP主要应用于部分电视和大屏幕显示器领域；相比之下，LCD由于在性价比、分辨率、耗电量、屏幕尺寸多样化等关键指标上占据显著优势，是当前平板显示领域主导技术和产品，占据了平板显示90%以上的市场份额。

因此，主要通过对全球和中国液晶显示面板出货量和出货面积进行分析以预测平板显示用靶材市场容量的增长趋势。

国外企业经过几十年的发展和技术积累，在品牌、技术、产品质量、规模和客户资源等各方面均有深厚的基础。

在上游，国外这些跨国公司有与之配套的高纯金属原料供应优势，在下游应用领域有集中的客户资源优势，在靶材制造环节有技术先发优势和规模优势，因此在未来一定时间内美国和日本这些公司在溅射靶材领域的垄断地位仍是国内溅射靶材企业必须应对的常态在平板显示大尺寸靶材生产领域，国外有成熟的技术能成产出宽1200毫米，长3000毫米的单块靶材。

隆化节能的产品距离国外还有不小的差距。

同时，在产能上，日本的装备月产量可达30吨至50吨，我国国产装备年产量只有30吨。

进口一台设备价格要花一千万元，且核心技术完全把控在国外设备厂，这是我国国产靶材目前还很难突破的领域。

二、报告编制依据1、《产业结构调整指导目录》。

2、《建设项目经济评价方法与参数》（第三版）。

3、《建设项目经济评价细则》（2010年本）。

4、国家现行和有关政策、法规和标准等。

5、项目承办单位现场勘察及市场调查收集的有关资料。

6、其他有关资料。

三、项目名称北京金属靶材新建项目四、项目承办单位xxx科技公司五、项目选址及用地综述（一）项目选址方案项目选址位于某产业园区,地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，建设条件良好。

北京，简称京，古称燕京、北平，是中华人民共和国首都、省级行政区、直辖市、国家中心城市、超大城市，国务院批复确定的中国政治中心、文化中心、国际交往中心、科技创新中心。

截至2018年，全市下辖16个区，总面积16410.54平方千米，建成区面积1485平方千米，2019年末，常住人口2153.6万人，城镇人口1865万人，城镇化率86.6%。

北京地处中国北部、华北平原北部，东与天津毗连，其余均与河北相邻，中心位置东经116°20′、北纬39°56′，是世界著名古都和现代化国际城市，也是中国共产党中央委员会、中华人民共和国中央人民政府和全国人民代表大会常务委员会的办公所在地。

北京地势西北高、东南低。

西部、北部和东北部三面环山，东南部是一片缓缓向渤海倾斜的平原。

境内流经的主要河流有：永定河、潮白河、北运河、拒马河等，多由西北部山地发源，穿过崇山峻岭，向东南蜿蜒流经平原地区，最后分别汇入渤海。

北京的气候为典型的暖温带半湿润大陆性季风气候，夏季高温多雨，冬季寒冷干燥，春、秋短促。

北京被世界权威机构GaWC评为世界一线城市。

联合国报告指出北京人类发展指数居中国城市第二位。

2019年，北京市实现地区生产总值35371.3亿元，按可比价格计算，比上年增长6.1%。

（二）项目用地规模项目总用地面积25292.64平方米（折合约37.92亩），土地综合利用率100.00%；项目建设遵循“合理和集约用地”的原则，按照金属靶材行业生产规范和要求进行科学设计、合理布局，符合规划建设要求。

六、土建工程建设指标项目净用地面积25292.64平方米，建筑物基底占地面积18453.51平方米，总建筑面积42238.71平方米，其中：规划建设主体工程25476.57平方米，项目规划绿化面积2475.68平方米。

七、产品规划方案根据项目建设规划，达产年产品规划设计方案为：金属靶材xxx单位/年。

综合考xxx科技公司企业发展战略、产品市场定位、资金筹措能力、产能发展需要、技术条件、销售渠道和策略、管理经验以及相应配套设备、人员素质以及项目所在地建设条件与运输条件、xxx科技公司的投资能力和原辅材料的供应保障能力等诸多因素，项目按照规模化、流水线生产方式布局，本着“循序渐进、量入而出”原则提出产能发展目标。

八、投资估算及经济效益分析（一）项目总投资及资金构成项目预计总投资9909.60万元，其中：固定资产投资6611.73万元，占项目总投资的66.72%；流动资金3297.87万元，占项目总投资的33.28%。