集成电路封装工艺
根据材料性能,膜材料分四类 根据材料性能,膜材料分四类:
1.导体膜:主要用于形成电路图形,为电阻电容, 半导体元件和半导体芯片等部件提供电极电学连接 2.电阻膜:形成电路中的电阻, 电阻率:100-2000µΩ.cm 方块阻值:10-1000Ω/□ 3.介质膜:形成电容膜和实现绝缘和表面钝化 4.功能膜:特殊功能膜
打线键合技术
超声波键合: - 振幅20- 超声波键合:20-60kHz,振幅 -200µm超声波 振幅 超声波
铝线和金线是常见材料 优点:温度低,键合尺寸小, 优点:温度低,键合尺寸小,适合键合点间 距小,密度高的芯片连接 距小, 缺点: 缺点:必须沿金属线回绕方向排列
热压键合:预热300- 度 电子点火, 热压键合:预热 -400度,电子点火,
去飞边毛刺
塑料封装中,塑料树脂溢出、贴带毛边,引 线毛刺等统称为飞边毛刺 毛刺的厚度薄于10µm,对后面工序有影响
去飞边毛刺的工艺:介质去飞边毛刺
溶剂去飞边毛刺 水去飞边毛刺
上锡焊
该工序是在框架外引脚上做保护性镀层,以 加可焊性
方法:电镀
浸锡 电镀:清洗-电镀槽电镀-冲洗-吹干-烘干 浸锡:清洗-浸助焊剂-热浸焊-清洗-烘干
丝网印刷 基板清洗 丝网印刷:丝网孔板制备 干燥 烧成
刮板
浆料
玻璃胶贴装法:玻璃胶是低成本芯片粘贴材料 玻璃胶贴装法:
冷却降温注意速度 优点:无空隙,热稳定好, 优点:无空隙,热稳定好,低结合应力 缺点: 缺点:胶中有机成分和溶剂要去除 多用于陶瓷封装, 多用于陶瓷封装,玻璃胶在特殊处理的铜合金 引脚架上才能键合
芯片互连
芯片互连:将芯片焊区与电子封装外壳的 芯片互连:将芯片焊区与电子封装外壳的I/O 引线或基板上的金属布线区相连 常见的方法:打线键合WB(Wire Bonding) 常见的方法:打线键合 载带自动键合TAB(Tape Automated Bonding) 载带自动键合 倒装芯片键合FCB(Flip Chip Bonding) C4 倒装芯片键合 WB:4<n<257 n为I/O数 TAB:10<n<600 FCB:5<n<16000
载带自动键合关键材料
基带材料 TAB金属材料 金属材料 芯片突点金属材料
载带自动键合关键技术
载带制作技术: 载带制作技术: 芯片突点制作技术 载带引线和芯片突点内引线焊接 外引线焊接技术
载带制作技术
载带分三类: 载带分三类:
Cu箔单层带 箔单层带 Cu---PI(巨酰亚胺 双层带 巨酰亚胺)双层带 巨酰亚胺 Cu---粘贴剂-- 三层 粘贴剂-- 粘贴剂--PI三层 带
打码
打码:在封装模块的顶面印上标识,如制造 打码 商信息,国家,器件代码等 打码方法:油墨印码 激光印码 打码方法
元器件装配
方式:波峰焊 方式 回流焊 波峰焊适合:插孔式封装PTH 波峰焊适合 回流焊适合:表面贴装式,混合型元器件装配 回流焊适合
第三章 膜材料与工艺
厚膜材料:几微米至几百微米的膜 薄膜材料:几微米以下的膜 厚膜工艺和薄膜工艺 微系统封装和集成电路中应用越来越多 作用:电气连接 元件搭配 特殊功能 表面改性
环氧树脂 作用:耐机械震动和冲击 作用 减少芯片和基板热膨胀实配 使应力再分配 填充方法:芯片基板加热70-75度 填充方法 注射 可靠性提高5-10倍
成型技术
将芯片与引线框架“包装”起来 金属封装 塑料封装 陶瓷封装 以塑料封装的转移成型技术为例 后固化:提高塑料聚合度必须的 后固化 条件:170-175℃,2-4h 条件
集成电路芯片封装工艺流程
芯片封装技术工艺流程
硅片切割 硅片减薄
芯片贴 装
焊 打码
去飞边毛刺
芯片切割
为何减薄? 为何减薄? 尺寸变大 变厚 切割划片困难 以TSOP为例:总厚900µm 有效厚300µ m 为例:总厚 有效厚 为例 背面减薄技术: 背面减薄技术: 研磨,化学机械抛光CMP,干式抛光, 研磨,化学机械抛光 ,干式抛光, 电化学腐蚀(Electrochemical Etching) 电化学腐蚀 湿法腐蚀, 湿法腐蚀,等离子腐蚀 有损坏,工艺改进: 有损坏,工艺改进:DBG(Dicing Before Grinding)先划片后减薄 DBT(Dincing By Thinning)减薄划片 优点:避免硅片翘曲, 优点:避免硅片翘曲,划片引起的边缘损害
缺点:电镀:周围厚,中间薄
浸锡:中间厚,周围薄
焊锡成分:一般63Sn/37Pb,低共熔合金 焊锡成分 熔点:183-184℃ 85Sn/15Pb 90Sn/10Pb 95Sn/5Pb 减少铅的用量 镀钯工艺:富镍阻挡层粘性好,再镀钯 镀钯工艺
切筋成型
切筋:指切除框架外引脚之间以及框架带上 切筋 连在一起的地方 成型:将引脚弯成一定的形状,以适合装配 成型 引脚非共面性:工艺过程 引脚非共面性 热收缩应力
金线多用, 金线多用,铝线不易成球
热超声波键合:基板维持100- 度 热超声波键合:基板维持 -150度,结合工具不加热
优点;抑制接触处金属化合物反应,变形 优点;抑制接触处金属化合物反应,
热压键合
热超声波键合
载带自动键合TAB(Tape Automated Bonding)
1968年由美国通用电气公司研究 年由美国通用电气公司研究 定义:芯片焊区与电子封装外壳的I/O或基板上的金 定义:芯片焊区与电子封装外壳的 或基板上的金 属布线区用具有引线图形的金属箔丝连接
气相淀积为主
厚膜材料和工艺
厚膜材料是有机介质掺入微细金属粉,玻璃 粉或陶瓷粉末的混合物,通过丝网印制工 ,印刷到绝缘基板上
厚膜导体材料: 非半导体元器件之间的电气连接,往往 采用厚膜导体材料 浆料形式:电导率:Ag>Cu >Au 厚膜电阻材料: 厚膜介质材料:
厚膜工艺
1.按导体,绝缘体和介质材料选好材料制成 粉料主剂 2.加入玻璃粘结剂,金属氧化物等混合成厚 浆料 3.按电路图形涂于基板上,进行导体,电阻 和介电体制成膜 4.烧制成引线端子,布线,电感,电阻,电 容,绝缘层和保护膜等
芯片贴装
共晶贴装法: 共晶, 共晶贴装法:金69%-硅31%共晶,363度反应 硅 共晶 度反应
多用于陶瓷封装, 多用于陶瓷封装,在氮气中进行 预型片:1/3芯片面积 预型片: 芯片面积 缺点:高温, 缺点:高温,芯片框架热碰撞系数失配
焊接贴装法:芯片-金 焊盘淀积Au-Pd-Ag,焊料 焊料Pb-Sn 焊接贴装法:芯片 金,焊盘淀积 焊料
优点:热传导性好, 优点:热传导性好,适合高功率器件封装 焊料:硬质焊料:金硅, 焊料:硬质焊料:金硅,金锡 软质焊料: 软质焊料:铅锡 共同点: 共同点:都是利用合金反应
导电胶贴装法:导电胶含银的高分子聚合物, 导电胶贴装法 导电胶含银的高分子聚合物,有良好的
导热导电性能的环氧树脂, 导热导电性能的环氧树脂, 75%- %银,目的是散热 %-80% %- 多用于塑料封装工艺 固化: 小时; 固化:150度,1小时;186度,半小时 度 小时 度
凸点芯片制作工艺: 凸点芯片制作工艺:蒸发溅射凸点 电镀突点 置球及模板印刷制作 突点芯片倒装焊: 突点芯片倒装焊 基板材料: 基板材料:Si,陶瓷,PCB 基板金属焊制造:蒸发-光刻-电镀 基板金属焊制造 工艺:热压焊FCB 工艺 再流焊FCB 环氧树脂光固化 各项异性导电胶
倒装焊接后芯片下面的填充:
薄膜材料和工艺
薄膜材料
导体薄膜材料:Au薄膜 Al薄膜
电阻薄膜材料
金属类 合金类 陶瓷类 金属类:Ta W Cr 合金类:Ta-Cu,Pd-Ag
介质薄膜材料:
Si3N4 研发高介电常数薄膜:Ta2O5
电容器薄膜:SiO2
SrTiO3
薄膜制备方法 气相淀积:物理气相淀积 化学气相淀积 液相淀积:电镀,阳极氧化,丝网印刷 物理气相淀积: 蒸发 溅射 离子镀
芯片突点制作技术
突块式载带, 突块式载带,突块式芯片 突点形状: 突点形状:蘑菇状突点 直状突点
载带引线和芯片突点内引线焊接 载带引线和芯片外引线焊接技术
倒装芯片键合技术
缺点: 缺点:不能直观检查,突点制作复杂,材料 间的匹配性 优点: 优点:安装和互连同时,省时快,适合大批 生产,小电阻,电容,适合高功率器件 突点芯片焊区: 突点芯片焊区:Al,粘附层,扩散阻挡层,金属 突块