1. 真空腔体 2. 抽气以及排气系统 3. 真空测量仪器 4. 全自动蒸发控制系统 5. 真空室加热、基板系统 6. 基板高速旋转机构 7. 电子束蒸发系统 8. RF射频离子源 9. 高精度光学监控系统 10. 石英晶振以及速率监控系统 11. 真空压力自动控制系统 12. 冷却水压缩空气系统 13. 冷凝器
电子枪是加速电子轰击靶 并发光的一种装置，它发 射出具有一定能量、一定 束流以及速度和角度的电 子束，电子受栅极电位的 影响，在阳极加速电压下 形成汇聚的电子束，在磁 场作用下电子束得到进一 步聚焦并偏转180°或 270°射入装有镀膜料的坩 埚中，其动能变成热能使 蒸镀材料蒸发沉积于基片 上形成薄膜
监控片玻璃
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10. 加 热 丝
温度对膜层原子或分子提供额外能量补充，在膜层折射率、 应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较 大差异
侧壁加热
升温优点：
1. 排除基片表面的剩余气体分子，增加基 片与沉积分子之间的结合力
2. 促使膜层物理吸附向化学吸附转化，增 加分子之间相互作用，使膜层紧密，附 着力增加，提高机械强度
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一、 真 空 腔 体
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1. 观 察 基 板 窗 口
观察基板窗口 观察蒸发源
成膜时通过观察窗可了解真空室内的情况
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2. 遥 控 盒 功 能
MASK
NO下降、EX抬起
SHUTTER
IB:离子源挡板开关
EB1:电子枪1挡板开关
EB2:电子枪2挡板开关
HEARTH
HEARTH1:左坩埚台旋转
HEARTH2:右坩埚台旋转
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9. 光 学 监 控 系 统
光控电源及数据处理器
光量曲线
分光器及投光器
监控片罩壳
实时监测光反射率（或透射率）的变化， 并将实时反射率（或透射率）数据提供给主 机，从而实现薄膜的光学厚度控制 。
电脑(相当于人体大脑)根据光学膜厚计提 供的反射率实时变化曲线，在反射率变化到 事先设定的停止位置的一瞬间停止材料蒸镀， 从而得到所需要的膜厚。
电子束蒸发示意图
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电子枪总装图
真空室
电子枪 1
电子枪 2
低压导 入端子
扫描控制器
电子枪电控柜
控 制 系 统
高压导
入端子
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电子枪种类
c型枪蚊香形灯丝
C 型枪
e型枪U字形灯丝
电子束蒸发源种类:
•电子束偏转角度180°，运行轨迹为“C”的C型枪
•电子束偏转角度270°，运行轨迹为“e”的e型枪
e 型枪
3. 减少蒸汽分子再结晶温度与基片温度之 监控片及工件盘加热 间的差异，提高膜层致密度，增加硬度， 消除内应力
真空室门加热 温度过高弊端：使膜层结构变化或膜料分解
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11. 真 空 室 内 部 相 关 部 件
百叶窗
冷凝管 主阀盖
防止膜料污染到 真空室
工件盘 （DOME）
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二、 OTFC 电 控 柜 总 图
[HOM2-F] Fiber
将Fiber 接受到的光分光后、卤素灯投光器。
将投光器投出的光送Lens
转变成电信号。
投光的同時输出参考信号。 Unlt。接受到的光送到分
光器。
[HOM2-N1]
[HOM2-L2]
[HOM2-F9C]
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ห้องสมุดไป่ตู้
光学监控系统2
[HOM-P]投光器用电源 [HOM2-D]数据处理器
DOME ROTATION
工件盘
顺时针方向旋转
工件盘
逆时针方向旋转
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3. 真 空 室 内 部
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4. 坩 埚 种 类
环形坩埚
点坩埚
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确认坩埚位置
松开联轴器螺丝，调整编码器位置， 直到补偿数字为0，然后锁紧螺丝
标准
确认坩埚台中心、坩埚、电子束蒸发源是否在一条直线上
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5. 电 子 枪 原 理 及 作 用
[HOM2-U]Lens Unlt
投光器用的电源。
在前面表示Lamp 电压、电 流、使用时间。
从分光器发出的光量电信 号、从投光器发出的参考 信号的光量値（电圧）输 送到PC。
把光投到监控玻璃、接 受反射光。
[HOM2-P]
[HOM2-D1]
[HOM2-U14]
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6. 离 子 源 的 作 用
1.清洁基片表面 2.夯实膜层，使其致密 3.提高膜牢固度
离子源辅助电子束示意图
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离子源种类
中和器
RF 离子源
GL 离子源
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镀膜前离子源注意事项
用角度仪确认离子源的
水平及内外角度
接地线
确认坩埚挡板高度
离子源挡板打开角度
离子源挡板架子需要包 铝箔
确认地线是否连接（共 三根）
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7. 辅正板（MASK）的作用
调节MASK升 降速度的快慢
mask
通过辅正板遮挡部分蒸发材料，调整整片伞架 的均匀性，使所有基板物理厚度一致。
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镀膜前MASK注意事项
MASK设定角度18°。 当角度不是18°时调节 此螺丝 确认MASK支杆是否卡 在MASK槽上
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8. 石 英 晶 振 以 及 速 率 监控系统
水晶holder
水晶旋转机构
石英晶体的频率飘移 与附加上的质量的关 系： 附加上的质量 增加，振荡频率降低
质量 = 密度 X 面积 X 厚度
水晶探头
XTC/3膜厚控制仪
石英晶体振荡法监 控膜厚，主要是利用石 英晶体的两个效应，压 电效应和质量负荷效应， 通过测定固有谐振频率 或与固有谐振频率有关 的参数变化来监控沉积 薄膜的厚度。
光控投光器电源 光控数据处理器
触摸屏
电子枪控制器
真空显示器 膜厚控制仪
电脑显示器及主机
RF离子源控制器 24
Gener 电 控 柜 总 图
充氧压力控制器
监控片和工件盘 的加热丝电流
紧急停止按钮
其它部分与OTFC 电控柜相同
GL离子源控制器 25
光学监控系统1
[HOM2-N]分光器
[HOM2-L]投光器
介绍Optorun光学镀膜设备
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设备型号讲解
设备型号举例：OTFC 1300 DBI
设备种类 大小 配置
•设备种类分为 OTFC和 Gener •真空室大小分为600、900、1300、1550、1800、2350 •配置说明：
C: 冷凝泵 D: 扩散泵 B: 电子枪 I: 离子源
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设备机构总成
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镀膜前确认上、下犄角是否平行，水平
松开此螺丝调节犄角平行度
标准
松开螺丝后犄角下方垫铜片， 确保犄角的水平
标准
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镀膜前电子枪注意事项
确认坩埚挡板高度是 否80mm
坩埚挡板打开角度90
80mm
左右
坩埚挡板架子需要包 铝箔
镀膜之前用吸尘器吸
铝箔包住
取灰尘，确保真空室
内部清洁
挡板角度打开90左右