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武汉理工大学《833材料科学基础》历年考研真题(含部分答案)专业课考试试题

3.结构中 电价是否饱和,为什么? 4.画出Na2O晶胞在(110)面上的投影图; 5.解离性如何
二、1.在一个晶胞中画出 面与【 】的向量;
2.写出以下硅酸盐晶体的结构类型(书P58表2.13的例子,全部是表中 的,一共8个)
三、1. , 程式;
, ,分别可能是何种缺陷,并写出缺陷反应方
2.请叙述微裂纹原理。间隙固溶体与置换固溶体相比,哪种强化效果 更好,为什么?(考的是缺陷扎理论,书P150最下面一段)
5.计算说明
晶体中 的电价是否饱和。
6.解释说明有无自发极化现象。
图1 CaTiO3晶胞结构
二、高岭石(
)结构示意图,试回答:
1.高岭石属于哪种硅酸盐结构类型;分析层的构成和层的堆积方向; 分析结构中的作用力。
2.用Pauling的连接规则说明氧电价是否平衡? 3.解释说明该结构的解理性如何。 4.高岭石是否容易形成玻璃,为什么?
2006年武汉理工大学440材料科学基础考研真题(含部分答案)
2007年武汉理工大学440材料科学基础考研真题(含参考答案)
2008年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(含参考答案)
2009年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(含参考答案)
五、还有就是ZnO的固相反应,也是书本上的。
六、烧结过程,前中后期特点以及晶粒大小,怎样控制晶粒大小?
七、考察了相变理论,以及将反应分类
八、最后就是答题三元相图,记得考的好像是不一致熔融三元化合物的 三元相图,三元相图,和七套试题里的题几乎一样。
2014年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(回忆版)
2009年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(含参考答案)
2010年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(含参考答案)
2011年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(含参考答案)
2012年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(回忆版)
2013年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(回忆版)
2013年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(回忆版)
一、钙钛矿( 答下列问题:
)是 结构的典型,根据其晶胞图(见下图)回
1.画出
晶胞在
晶向。
面上的投影图;在晶胞图上画出
晶面和
2.何种离子添何种空隙,空隙利用率是多少?
3.晶胞分子数是多少?结构中各离子的配位数为多少,写出其配位多 面体;
4.结构中是否存在 离子,为什么?
图2.60 高岭石的结构
要求解释鲍林规则,高岭石结构,解理性,玻璃形成难易程度、晶体与 表面的不同(这些内容比较杂,但都是书本上的,如果单纯计算会比较 简单,但要求用文字解释的话就要求你把书本吃透了)
三、MO(1+x)与M(1-x)O非化学计量
四、去年考的比较偏的就是考了扩散系数,以及高斯函数,这些考题都 是源于书本,你看了就会做,你不看,计算起来无从下手。
3. 的氧空位与氧氛围浓度的关系(考的是成负六分之一的关系,
导电性)
四、微晶表面分类有哪些?密度随着结晶度变化的变化。 表面?
是哪类
五、书P175图4.10,请问 (一价碱金属)如图,你得出什么样的结 论,为什么?
六、相图(是7套内部试题里的原版,外加了几问,都很容易。) 七、如下表(书P408)所示,请问你从中看出了什么规律? 表7.6 若干金属在铅中的扩散系数
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2015年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(回忆版)
2016年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(回忆版) 说明:以下回忆版试题来自于网络,考生朋友可借鉴参考! 一、晶体结构 1.简述石墨,滑石,高岭石的结构特点及性质。 2.在面心立方晶胞中画出(0,-1,2)(上划线不好打出来,只能不 规范的写了)的晶面,计算面心立方(110)晶面密度。 3.画出钙钛矿的晶胞结构图,解释自发极化和温度的关系。
目 录
2004年武汉理工大学440材料科学基础 考研真题
2005年武汉理工大学440材料科学基础 考研真题(含参考答案)
2006年武汉理工大学440材料科学基础 考研真题(含部分答案)
2007年武汉理工大学440材料科学基础 考研真题(含参考答案)
2008年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(含参考答案)
三、玻璃这章
请问用什么方法鉴别透明陶瓷和玻璃?简述陶瓷和玻璃的结构特点。
八、粒径为1 球状 由过量的 微粒包围,观察尖晶石的形成, 在恒定温度下,第1h有20%的 起了反应,计算完全反应的时间。
(1)用杨德方程计算;
(2)用金斯特林格方程计算。
九、相变的一章,又是原题,推导公式。唯一的改变就是增加了推导正 方体的模型。
十、烧结氧化铝的时候,为什么在氢气氛中比在氮、氖、空气气氛中更 容易烧结?(书P533烧结气氛影响的部分)
4.
是反尖晶石结构,说明什么阳离子填充什么位置,计算氧离
子电价是否饱和。
二、缺陷
1.写出MgO生成肖特基缺陷的缺陷反应方程式。计算273K和2273K下 的肖特基缺陷浓度,题目给出了每mol的缺陷形成能,好像是 230KJ/mol。记不清了。
2.1% (质量分数)掺入到MgO中,问杂质缺陷浓度是多少? 3.比较在273K和2273K时,纯净的MgO和掺杂的MgO哪个的电导率 高,并解释原因。
2014年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(回忆版)
2015年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(回忆版)
2016年武汉理工大学833材料科学基础 考研真题(回忆版)
2004年武汉理工大学440材料科学基础考研真题
2005年武汉理工大学440材料科学基础考研真题(含参考答案)
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2011年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(含参考答案)
2012年武汉理工大学833材料科学基础考研真题(回忆版) 一、图是Na2O的理想晶胞结构示意图,试回答: 1.结构中何种离子做何种密堆积;何种离子填充何种空隙,所占比例 是多少? 2.结构中各离子的配位数为多少?写出其配位多面体;
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