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薄膜表征_薄膜材料与薄膜技术


6.2 薄膜形貌和结构的表征方法
依据尺度范围考虑,薄膜结构的研究分三个层次:
• 薄膜的宏观形貌:包括尺寸、形状、厚度、均匀性; • 薄膜的微观形貌:如晶粒及物相的尺寸大小和分布、
空洞和裂纹、界面扩散层及薄膜织构; • 薄膜的显微组织:包括晶粒的缺陷、晶界及外延界面
的完整性、位错组态等。
可采用的表征方法:
透明膜,数学分析复杂
需制备台阶
精度取决于薄膜密度 厚度较大时具有非线性
效应
(1)椭偏仪法
利用椭圆偏振光在薄膜表面反射时会改变偏振状态的现
象,来测量薄膜厚度和光学常数。当偏振光入射在具有
一定厚度h的薄膜上,处于入射面的偏振光分量p和垂直
Байду номын сангаас
入射面的偏振光分量s的反射系数R、透射系数T如下:
p
s
空气
0
薄膜 h
6.1薄膜厚度测量
方法
等厚干涉 法
等色干涉 法
椭偏仪法
表面粗糙 度仪 称重法
石英晶体 振荡器法
测量范围 精度 3-2000nm 1-3 nm
1-2000nm 0.2 nm
零点几纳米 0.1 nm 到数微米 大于2 nm 零点几 纳米 无限制 至数微米 0.1 nm
说明 需制备台阶和反射层
需制备台阶、反射层和 光谱仪
电磁透镜:使原来直径约为 50mm的束斑缩小成一个只有 数nm的细小束斑。
扫描线圈:提供入射电子束在 样品表面上和荧光屏上的同 步扫描信号。
样品室:样品台能进行三维空 间的移动、倾斜和转动。
(b)信号检测放大系统 检测样品在入射电子作用 下产生的物理信号,然后 经视频放大作为显像系统 的调制信号。
(3)吸收电子(absorption electrons, AE)
入射电子经多次非弹性散射后能量损失殆尽,不再产生 其他效应,一般称为被试样吸收,这种电子称为吸收电 子。试样厚度越大,密度越大,吸收电子就越多,吸收 电流就越大。它被广泛用于电子探针中。
(4)俄歇电子(Auger electrons, AuE)
•磁场扫描线圈对这束电子施加偏转 力,从而使它按一定的规律在被观 察样品表面的特定区域上扫描。
•高能电子束与样品物质相互作用产 生SE、BE、X射线等信号。这些信号 分别被不同的接收器接收而成像。
(2)主要结构:
(a)电子光学系统
电子枪:利用阴极与阳极灯丝 间的高压产生高能量的电子 束。热阴极电子枪和场发射 电子枪。
(2)二次电子(secondary electrons, SE)
入射电子在试样内产生二次电子,所产生的二次电子还 有足够的能量继续产生二次电子,如此继续下去,直 到最后二次电子能量很低,不足以维持此过程为止。
特点:
•能量低,为2-3ev。 •仅在试样表面10nm层内产生。 •对试样表面状态敏感,显示表面微区的形貌有效。 •分辨率很高,是扫描电镜的主要成像手段。 •与形貌密切相关,图象的景深大、立体感强,常用于 观察形貌。
2009jc备课_6薄膜表征_薄膜材料与 薄膜技术-4ath(XXXX)
第六章 薄膜的表征
❖薄膜厚度测量:椭偏仪法、表面粗糙度仪 ❖薄膜形貌和结构表征:SEM、TEM、XRD、SPM ❖薄膜成分分析:AES、XPS、SIMS、RBS ❖薄膜原子化学键合表征:Raman、FTIR、EELS ❖薄膜硬度和应力测量:纳米压痕仪
Tp
e j tp
Ts
t01st12 se j 1 t01st12 se j2
Tp
e j sp
2
(
h
)(n
2
sin
2
0
)
1 2
Rp tan e j
Rs
tan
Rp Rs
, rp rs
测量出薄膜对不同偏振光分量的反射系数之比,就可以 利用上面几式求出薄膜的厚度h以及薄膜的折射率n。
(2)表面粗糙度仪法
• 表面粗糙度仪法又叫触针法,利用直径很小的触 针滑过被测薄膜表面,同时记录下触针在垂直方向 的移动情况,并画出薄膜表面轮廓。 •这种方法还可以用来测量特意制备的薄膜台阶高度, 以得到薄膜厚度信息。
特点:
•直观、精度高; •容易划伤软质薄膜并引起测量误差; •对于表面粗糙的薄膜,其测量误差大; •需要事先制备带有台阶的薄膜样品。
(6)阴极荧光
阴极荧光是指半导体、磷光体和一些绝缘体在高能电 子束照射下发射出的可见光(或红外、紫外光)。
6.2.2扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy)
(1)基本原理:
•灯丝阴极发射电子在阳极电压的加 速下获得一定的能量。
•加速的电子聚焦成直径只有5nm左 右的电子束。
TEM
弹性散射电子 透射电子非弹性散射电子
(1)背散射电子(back scattering electrons, BE)
电子射入试样后,受到原子的弹性和非弹性散射,有 一部分电子的总散射角大于90°,重新从式样表面逸 出,称为背散射电子。
• 能量高,大于50eV; 特点: •分辨率较低;
•产额与原子序数Z、形貌有关。
1
衬底
2
薄膜上下界面的光折射
R
p
r0 1 p r1 2 p e j 2 1 r0 1 p r1 2 p e j 2
R e j rp p
Rs
r0 1 s r1 2 s e j 2 1 r0 1 s r1 2 s e j 2
R e j rs s
Tp
t01 p t12 p e j 1 t01 p t12 p e j2
如果原子内层电子能级跃迁过程中释放出来的能量不是 以X射线的形式释放,而是用该能量将核外另一电子打 出,脱离原子变为二次电子,这种被电子激发的二次电 子叫做俄歇电子。
俄歇电子仅在表面1nm层内产生,适用于表面分析。
(5)X射线
X射线(包括特征X射线、连续辐射和X光荧光)信号产 生的深度和广度范围较大。 荧光X射线是特征X射线及连续辐射激发的次级特征辐 射。X射线在固体中具有强的穿透能力,无论是特征X 射线还是连续辐射都能在式样内达到较大的范围。
光学金相显微镜、扫描电子显微镜、透射电子 显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪
6.2.1电子与固体物质的相互作用
高能量(~30keV)的电子束入射到样品表面之后,与样 品表面层的原子发生各种相互作用。
入射电子
二次电子 Auger电子
背散射电子 阴极荧光
SEM
特征和白色X辐射;
吸收电子
荧光X射线;EMPA
(c)真空系统和电源系统 为保证电子光学系统正常工作,防止样品污染提供高 的真空度。电源系统由稳压、稳流及相应的安全保护 电路所组成,其作用是提供扫描电镜各部分所需稳定 电源。
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