《离子束增强沉积》
离子束增强沉积是利用电子加速器产生的高能量离子束轰击固体表面,使材料中原有的化学键发生断裂或者改变其结构而形成薄膜。

通常用于制备纳米晶、非晶和准晶薄膜。

在一定条件下可以控制形成薄膜的厚度、成分、形貌等特性,获得所需要的各种功能薄膜。

离子束增强沉积是利用电子加速器产生的高能量离子束轰击固体表面,使材料中原有的化学键发生断裂或者改变其结构而形成薄膜。

通常用于制备纳米晶、非晶和准晶薄膜。

在一定条件下可以控制形成薄膜的厚度、成分、形貌等特性,获得所需要的各种功能薄膜。

由于这类技术具有较大优势:①制备过程简单,对环境无污染;②易于实现多层次薄膜的制备;③可以同时获得纳米级厚度和形貌;④工艺温度低,能耗少;⑤不受溶剂的影响,易于进行精密操作;⑥沉积速率快且均匀,沉积速率比化学气相沉积法高10～100倍;⑦设备费用低廉,因此在微电子、光电子、信息显示、真空镀膜等领域有着广泛应用前景。