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电子在正交电磁场中的运动
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磁控溅射靶材结构图
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磁控溅射仪器结构图
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磁控溅射仪器外观
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大型多弧离子/磁控溅射镀膜机。可在较 大体积的工件表面镀制厚度均匀的金属 、合金、氧化物、氮化物、碳化物、硼 化物等防腐、耐磨、导电透明等多种功 能薄膜。
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透明导电薄膜种类
• 氧化铟锡（ITO） • 掺铝氧化锌（ZAO） • 多层结构：
ITO/Ag/ITO、TiO2/Ag/TiO2、ITO/ZnO、 SiO2/ITO
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ITO薄膜电学性能
• 电阻率 7×10-5~10-4Ω•cm 与金属铅导电能力接近。
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ITO薄膜光学性能
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其他性能
• 反射红外线（热镜） • 反射电磁波（>80%） • 吸收紫外线
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透明导电薄膜的应用
• 液晶显示器（LCD）
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• 触摸屏
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• 太阳能电池
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• 除霜防雾
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ห้องสมุดไป่ตู้ 保温、隔热
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磁控溅射技术的优点
• 薄膜与基底的结合力强。 • 镀膜均匀，可镀大面积薄膜。 • 镀膜种类丰富：各种金属(合金)薄膜
各种金属氧化物、碳化物、氮化物、硼 化物等薄膜 其它(如类金刚石薄膜等) 基底种类丰富：金属、玻璃、陶瓷、 有机玻璃(薄膜)等
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透明导电薄膜
• 厚度：几十～几百纳米 • 透明性：与玻璃接近 • 导电性：与金属接近
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• 薄膜的种类及应用 • 磁控溅射技术原理及应用 • 透明导电薄膜性能及应用
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• 薄膜： 在固体表面上镀上一层于基体材料不同
的薄层材料。 • 厚度通常在几微米以下。
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电学薄膜
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光学薄膜
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机械薄膜
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装饰薄膜
• 电磁屏蔽
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• 军事领域： 雷达隐身
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透明导电薄膜发展前景
• 材料的选择：开发新材料 • 应用：拓展新领域
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谢谢！
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薄膜的制备手段
• 气相法： 化学气相沉积（CVD） 物理气相沉积（PVD）——热蒸发 溅射 离子镀 分子束外延
• 液相法：化学镀、电镀、浸渍镀等。 • 其他方法：喷涂、涂敷等。
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溅射原理
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溅射示意图
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成膜示意图
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薄膜的生长