一. 葡萄糖插层材料
参考文献：雷志轶. 新型高比表面固体碱催化剂制备、结构及其性能研究[D]. 北京化工大学, 2009.
部分工作：以成核晶化隔离法合成MgAl-LDHs，然后将MgAl-LDHs前驱体加入到一定浓度的葡萄糖溶液中进行交换，制备出了葡萄糖插层的具有高比表面的MgAl-LDHs材料。
考察了含碳量，镁铝比，焙烧温度对MgAl-LDHs焙烧产物的结构及其性能的影响。
采用苯酚吸附法表征焙烧产物的总碱量，并测试了其催化苯甲醛和氰基乙酸乙酯的Knoevenagel反应的催化性能。
机理：“在LDHs晶化过程中引入糖类分子作为碳源，使LDHs的晶化与糖分子碳化同时发生组装形成整体均一，组成和结构可调变的LDHs/C型杂化复合前体。
”
碳化——生物质在缺氧或贫氧条件下，以制备相应的炭材为目的的一种热解技
术．其过程与生物质，木纤维，木质素的分解同步。
脱水碳化指的是将有机物去
掉其他元素留下碳（维基百科）。
葡萄糖的熔点：
α-D-glucose: 146℃
β-D-glucose: 150℃
附表：
表1 镁铝比为3，不同含碳量的插层水滑石焙烧产物的比表面和孔径分布参数
表2 500℃焙烧产物碱性参数
表2总结：可以看到随着葡萄糖的插入量增加，碱性位数量和比表面积不断增加，由于比表面增加的幅度大于碱量增加的幅度，碱性位密度则逐渐降低。
到n C/n金属离子＝2.5时，碱量、比表面积分别由不掺葡萄糖时的230 umol phenol/g和61.24 m2/g增加到450 umol phenlo/g 和282.44 m2/g，碱性位密度由原来的3.76 umol phenol/m2降至1.59 umol phenol/m2。
表3不同焙烧温度下得到样品的比表面积和孔径分布参数
二.十二烷基硫酸钠插层材料
例1
参考文献：陶奇，何宏平等. 一种层间距可控型有机硅烷嫁接水滑石的原位共沉淀合成方法[P]. CN，102616750(2012).
主要工作：利用表面活性剂的插层作用对水滑石层间高度进行调节，在水滑石晶体形成时利用有机硅烷水解产生的Si—OH与黏土矿物表面羟基原位缩合改善矿物表面的亲和性。
采用原位共沉淀法合成了有机硅烷嫁接的Mg-Al，Zn-Al，Cu-Al，Ca-Fe，Ni-Cr，Ca-Al水滑石。
实验主要材料：硝酸镁，硝酸铝，十二烷基硫酸钠，γ-氨丙基三乙氧基硅烷，乙醇
合成方法：
例：19.2 g硝酸镁和9.4 g硝酸铝溶于90ml去离子水（溶液A）；
8 gNaOH和1.4 g十二烷基硫酸钠溶于50ml 去离子水（溶液B）；
7.0 mlγ-氨丙基三乙氧基硅烷溶于50 ml 乙醇（溶液C）；
溶液A和B逐滴加入100ml 去离子水中，开始出现沉淀时立即滴加C；控制PH值为10。
加完后搅拌6 h，用去离子水和乙醇各洗3次。
80℃干燥12h。
参考方法：合成中引入十二烷基硫酸钠
实施步聚：
（1）配制硝酸镁和硝酸铝混和溶液A;
（2）配制NaOH和十二烷基硫酸钠混和溶液B;
（3）A和B逐滴加入一定量的去离子水中，控制溶液的PH值为10；搅拌一定时间，洗样干燥。
例2
参考文献：CLEARFIELD A，KIEKE M，KWAN J et al. Intercalation of dodecyl sulfate into layered double hydroxides[J]. journal of Inclusion Phenomena And Molecular Recognition in Chemistry. 1991, 11: 361-378.
主要工作：通过两种方法合成出十二烷基硫酸根插层的镁铝水滑石，一是先合成水滑石，再采用离子交换合成；二是在合成过程中引入十二烷基硫酸根，直接合成出插层材料。
对合成的样品作了一系列表征，包括XRD粉末衍射，TG，元素分析，IR。
另外对有机插层的方式进行了计算机模拟。
实验材料：MgCl
，AlCl3，十二烷基硫酸钠等。
2
合成步骤：
（1）交换法：
按比例配制1mol/L的混和金属盐溶液A；70 ℃，快速搅拌下将溶液A和2 mol/L 的NaOH溶液同时滴加到含有100 mL去离子水的烧杯中；控制溶液的PH值为10。
滴加完毕后继续搅拌4~24 h，此过程中保持水量不变。
沉淀用去离子水洗至无Cl-，70 ℃干燥过夜。
将所得水滑石按1g：20 mL去离子水的比例配成溶液，将0.7 M的十二烷基硫酸钠溶液加入到上述溶液中（硫酸盐与LDH的摩尔比为0.1~2），控制PH=10，搅拌4~24 h 后先用去离子水洗三次（每次200 mL），再用甲醇洗两次（每次100 mL）,干燥。
（2）直接法：
按比例配制1mol/L的混和金属盐溶液A；硫酸盐与LDH按摩尔比为2~3溶解在
NaOH溶液中，配成溶液B；70 ℃，快速搅拌下将溶液A滴加到溶液B中，控制溶液的PH值为10。
滴加完毕后继续搅拌4~24 h，此过程中保持水量不变。
沉淀先用去离子水洗三次（每次200 mL），再用甲醇洗两次（每次100 mL）,干燥。
（洗涤方法文献中标注为“同上”）
注：所有操作均在N2氛围下进行，去离子水均去除了CO2。
对碱性的影响：
附图——计算机模拟有机离子的层间排列方式
（1）（2）（3）
三.醋酸根插层的水滑石
参考文献：Prevot V，Forano C，Besse J P. Intercalation of anionic oxalato complexes into layered double hydroxides[J]. Journal of solid State Chemistry.2000, 153: 301-309.
制备方法：离子交换法——首先制备层间阴离子为Cl-的水滑石（文中合成了ZnAl-Cl，ZnGa-Cl，ZnCr-Cl水滑石），然后与含阴离子插层材料的钾盐交换（如[K3Al(C2O4)3]3·H2O，[K3Fe(C2O4)3]3·H2O等），交换时有机阴离子应该较LDH过量（摩尔比）。
ZnAl-Cl水滑石经醋酸根插层后其层间距由原来的0.786 nm变到0.991 nm(以[K3Al(C2O4)3]3·H2O为插层材料)
四. 酒石酸插层材料
参考文献：吴正，卫敏等. 酒石酸插层水滑石层间距的可控性研究[J]. 北京化工大学学报，2004，31（4），74~77.
主要工作：采用反混共沉淀法制备出酒石酸插层的镁铝水滑石，实验结果发现插层后的水滑石层间距由0.79 nm增至1.21 nm。
同时研究了合成中PH值对插层材料层间距的影响，结果发现当PH值为10时，插层材料层间距有最大值为1.21 nm。
对于PH值为10时层间距最大这一结果，作者也给出了解释，认为当PH约为10时，酒石酸在水滑石层间呈垂直层板方向排布，结果导致垂直排布的材料其层间距比其它排布方式的大，其中根据分子力学计算，垂直排布时理论层间距为1.22 nm，水平排布时层间距为0.97 nm。
合成方法：
先采用成核－晶化隔离法制备碳酸根离子MgAl-LDHs，再采用返混沉淀法制备酒石酸插层的LDHs。
3.0 g前体LDHs加入60 mL去离子水，再加入酒石酸固体6.8 g，搅拌20 min，测PH 值约为3。
然后配制NaOH溶液，将NaOH溶液加入到上述溶液中，通过改变加入量调节PH 值。
回流3 h，过滤，洗涤至PH小于8，70 ℃下干燥18 h 。
附图——酒石酸在水滑石层间排布的两种模型。