20±3 mm
LK-H050
50±10 mm
LK-H080
80±18 mm
LK-H150
150±40 mm
再现性 0.005 μm 0.02 μm 0.025 μm 0.1 μm 0.25 μm
颜色、材料、表面状况… LK-G5000系列有多种感测头可供选择， 在任何目标上都能稳定的测量
激光位移传感器必须同时具备速度、 精度和卓越性能，以便胜任所有应用。 LK-G5000 采用了国际顶尖技术， 力争在各个方面都做到世界最佳。
测量触摸屏表面高度和气隙。
应用 图案晶片的 Z 轴定位
测量 HDD 读取器和媒介间的段差
表面高度 [μm]
气隙 [μm]
50
48
46
44
42
40
38
36
34
32 — 输出 1 气隙
30
10
8
6
4
2
0
-2
-4
-6
-8 — 输出 2 表面高度
-10
0
2
4
测量触摸屏表面高度和气隙
测量触摸屏表面高度
6
8
10
147.5 -39.5 mm /+24.4 mm 0.25 μm
超高的再现性
0.005 µm
提高产品质量促使高性能的需求变得更加迫切。 LK-G5000 系列产品提供了业界最高的再现性，在任何应用中都 表现出色。
超高的精度
± 0.02 %
高线性增强了 LK-G5000 的测量能力。它利用高新技术，以高性 能和高精度满足了日益增长的要求。
位置 [mm]
测量玻璃板的厚度、翘曲度和平行度
8 LK-G5000 系列
控制器
简单连接外部设备和配置显示控制类型部件
3可 选 类 型遥控Fra bibliotek控制器可以放在离操作/ 显示 器模块达10 m 之远的位置。
直接控制
小型控制器带有内置显示器， 能够在显示屏上直接操作。
感测头/ 网络可连接数多达 12 个
通过将主控制器与附加感测头模块连接，可以使用多达 12 个 的感测头同时测量。 此外，它与 CC-Link/DeviceNet 兼容，可 以与其它制造商的模块放在同一个网络中。
目标物 其测量原理就是使用三角形测量法检测 RS-CMOS 反射光的位置。 通过检测该变化就能测量目标物的位置。
4 LK-G5000 系列
ྐ!DELTA CUT
RS-CMOS
भ٧ൾ৚
ෳᅋ!DELTA CUT
RS-CMOS
भ٧അྫྷ
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常规型
RS-CMOS
两倍像素宽度
测量范围
LK-H085 常规型
两倍像素数
设计目的是使像素上的光点达到 最佳形状。
测量原理
HDE 物镜和 Delta Cut技术
全新开发的 HDE 物镜将接收光元件上的光点变形所造成 的影响降至最小。此外，由于 Delta Cut 技术能够保持光 点的对称性，因此实现了 0.02% 的 F.S. 线性。
0.1
测
量 值
0
-0.1
单位: mm
-0.2 -2.5 -2 -1.5 -1 -0.5 0 0.5
位置
1 1.5
2 2.5
应用 测量太阳能板的活动层
变焦物镜的组装精确度
测量连接器高度
LK-G5000 系列 7
透明 / 镜面物体
镜面反射型
透明/镜面表面测量结果展示
LK-G5000 系列包含一组感测头，专为玻璃或其他镜面等高反射物体而设计。感测 头包含宽光点和聚焦光点两种等类型，最适合在这些表面上进行高精度测量。
ས‫!و֎ڶ‬RS-CMOS
‫!و֎ڶ‬RS-CMOS
可胜任任何情况的高级测量功能
ABLE II
ACTIVE BALANCED LASER CONTROL ENGINE ( 动态平衡激光控制引擎)
宽于常规型号
3x
动态范围
高于常规型号
4x
激光发射时间 重复精度
优于常规型号
8x
高速追踪功能
如今，构建良好的 ABLE 控制更加强劲。ABLE II 通过 平衡激光发射时间、激光功率和增益这三种要素，能够 智能优化 RS-CMOS 功能。此外，ABLE II 具备高速的 追踪能力，比常规型号要快八倍。
圆柱形物镜 该物镜形成十分规则的椭圆形光点， 对精确测量粗糙物体具有至关重要 的作用。此外，在整个测量范围内，光 点宽度始终保持不变。
RS-CMOS 像素宽度和数量均已翻倍。这个 度身定做的 CMOS 专为最大限 度地发挥位移传感器的性能而 设计。
Delta cut 技术 通过对称放置 CMOS 元件、接收 光物镜和接收光滤光片，光学畸 变所带来的影响被降至最低。
超快的速度
392 kHz
世界最快的取样率，不仅能够捕获移动或转动目标物的位移，而 且保证了测量的稳定可靠。
LK-G5000 系列 3
ABLE II 光量调整引擎。发光时间的分辨 率经过进一步改进，使得光量调 整比之前更敏感。
实现无与伦比的精确度的技术
线性准直物镜 该物镜的设计目的是聚焦 光点，同时消除不规则的 光束。这对于测量小物体 具有至关重要的作用，因 为光点大小始终不变。
计算各个测量点与 标准点之差。
B
A
C
最大值/ 最小值测量
计算最大值和/ 或最小值。
B
A
C
平整度测量
计算各个测量点之间的最 大值和最小值之差。
B
A
C
测量值1=B-A 测量值2=B-C 测量值3 = A- C…
变形测量
计算变形程度。
A
C B
测量值1= B - (A+ C) / 2…
测量值1= 最大值 (A ,B,C...) 测量值2= 最小值 (A ,B,C...)
LK-H080 ø70 μm
LK-H150 ø120 μm
测量 IC 阵脚高度
得益于 delta cut 技术，滤光片导致的畸变被降至 最低。这些对光学系统的改 进意味着光点不仅在 RS-CMOS 上聚焦，在目标区域中同样精确聚焦。这 样就能实现之前无法完成的高精度轮廓测量。
测量IC阵脚高度
0.2 —LK-H020 —常规型
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ABLE II
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半透明物体 (RPD* 算法)
新型 超高速 / 高精度 CMOS 激光位移传感器 LK-G5000 系列
粗
透
糙
明
物
／
体
镜
面
物
体
精 细 物 体
可应对任何情况的功能，源自高性能的可靠性
超高的再现性
0.005µm
超高的精度
±0.02%
超快的速度
392kHz
2 LK-G5000 系列
粗糙物体
宽光点型
宽光点型
参考距离和测量范围
LK-H008W 8±0.5 mm
圆柱形物镜
RS-CMOS
常规型
半导体激光 圆柱形物镜
LK-H085
半导体激光
2x 均化结果
2x
圆柱形物镜
宽度是常规 型的两倍
光点直径 LK-H008W 20×550 μm
LK-H025 25×1400 μm
LK-H055 50×2000 μm
LK-H085 70×2500 μm
LK-H155 120×4200 μm
LK-H008
LK-H022K
ø20 μm
ø25 μm
LK-H052K ø50 μm
LK-H080+LK-F3 LK-H150+LK-F2
ø70 μm
ø120μm
测量触摸屏的缝隙
这些专用感测头中的光学系统已经过优化，可在高反 射率的镜面物体上获得最大分辨率。通过进一步改 进接收光元件的功能性，现在可稳定测量 20 μm 的 缝隙。
RS-CMOS
HDE 物镜
宽光点/聚焦 光点同时提供
两种类型
常规型
LK-H052K
线性（%F.S.） 线性（%F.S.）
0.10 0.05 0.02 0.00 -0.02 -0.05 -0.10
0
行程距离 [mm]
5
0.10
0.05
0.02
0.00
-0.02
-0.05
-0.10
0
行程距离 [mm]
5
得益于 LK-G5000 系列中使用的高级圆柱形物镜，整个测量范围内的光点宽度始终 保持一致。这样即使目标距离感测头过近或过远，平分面积始终不变。
金属表面的测量
最大限度地减少粗糙表面的不平整所造成的影响， 例如拉丝金属表面和橡胶表面等。以往前所未有的 测量精确度现在已成为现实。
应用 测量电极厚度
测量拉丝金属表面 测量圆盘马达的振动
透明 / 镜面物体
镜面反射型
镜面反射型 LK-H0 08 ( W )
参考距离和测量范围 8±0.5 mm
再现性 0.005 μm
LK-H027K
16.1±2.8 mm