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SiC材料的特性及应用


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SiC’s superior Performance
SiC is especially useful for: ➢ High Temperature Environment ➢ High Radiation conditions ➢ High Voltage switching applications ➢ High power Microwave applications
但是,Si技术的成功以及迅猛发展,使得人们对 SiC的研究兴趣下降,这一时期的研究工作,即60年代 中期到70年代中期,主要在前苏联进行,在西方一些 国家,SiC的研究工作仅处于维持状态。
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SiC材料的发展史话
1824年,瑞典科学家Berzelius(1779-1848)在人工合成金 刚石的过程中就观察到了SiC;
semiconductor for most applications ➢ Si devices fail to operate at high temperatures
of around 300ºC ➢ Since Si is a small band gap material,
sufficiently high breakdown voltages cannot be applied
1987年,Cree Research成立,成为了第一个销售SiC单
晶衬底的美国公司。
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SiC材料的特性及应用
Ⅰ.SiC for High Power,High Temperature Electronics
SiC与Si和GaAs的有关参数的对比
晶格常数(Å) 熔点(K) 热稳定性 带宽(eV) 最高工作温度(K) 电子迁移率(cm2\V·S) 空穴迁移率(cm2\V·S) 饱和电子速率(107cm\s) 临界电场(106V\cm) 介电常数 热导率(W\cm·K)
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SiC is superior compared to Si because: ➢ It has exceptionally high Breakdown electric
field ➢ Wide Band gap Energy ➢ High Thermal conductivity ➢ High carrier saturated velocity
6H-SiC 3.081 15.092 >2100 Excellent 3.02 1580 400 50 2.0 3.2 10 4.9
4H-SiC 3.081 10.061 >2100 Excellent 3.26 1580 1140 50 2.0 3.0 9.6 4.9
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SiC的这些性能使其成为高频、大功率、耐高 温、抗辐照的半导体器件的优选材料,用于地面核 反应堆系统的监控、原油勘探、环境检测及航空、 航天、雷达、通讯系统及汽车马达等领域的极端环 境中。
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起初Acheson错误地认为这种材料是C和Al的化 合物,他的目的是想寻找一种材料能够代替金刚石 和其他研磨材料,用于材料的切割和抛光,他发现 这种单晶材料具有硬度大、熔点高等特性,于1893 年申请了专利,将这种产品称为“Carborundum”。
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开辟了SiC材料和器件研究的新纪元,此后,有关 SiC的研究工作全面展开,并且于1958年在Boston召开 了第一届SiC会议。
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SiC材料的发展史话
1955年,Lely发明了一种采用升华法生长出高质量单晶 体的新方法;(转折点)
1978年,俄罗斯科学家Tairov和Tsvetkov发明了改良的 Lely法以获得较大晶体的SiC生长技术;(里程碑)
1979年,成功制造出了SiC蓝色发光二极管;
1981年,Matsunami发明了Si衬底上生长单晶SiC的工 艺技术,并在SiC领域引发了技术的高速发展;
1885年Acheson(1856-1931)首次生长出了SiC晶体 (Carborundum);
1905年,法国科学家Moissan(1852-1907)在美国 Arizona的Dablo大峡谷陨石里发现了天然的SiC单晶 (Moissanite);
1907年,英国电子工程师Round(1881-1966)制造出了 第一只SiC的电致发光二极管;
Si 5.43 1420 Good 1.11 600 1500 600 1.0 0.3 11.8 1.5
GaAs
3C-SiC
5.65
4.3596
1235
>2100
Fair
Excellen
1.43
t2.23
760
1250
8500
1000
400
50
1.0
2.2
0.6
2.0
12.5
9.7
0.46
4.9
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SiC材料常用n型掺杂剂为N(N2,NH3),p型掺杂 剂为Al,也有用B的,几乎都用生长过程中引入掺 杂剂的原位掺杂方式,个别用离子注入。
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SiC材料的特性及应用
Ⅳ.Oxidation of SiC SiC体材料具有很高的抗氧化性,因为在体材
料的氧化过程中会在氧化界面形成SiO2层,从而 阻止了氧化的进行。
2SiC+3O2=2SiO2+2CO
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SiC材料的特性及应用
Ⅴ. Ohmic Contacts to SiC 在SiC大功率器件中,SiC和金属间的欧姆接触电
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SiC材料的特性及应用
Ⅱ.Polytypism in SiC
3C-SiC
6H-SiC
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4H-SiC
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3C-SiC
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6H-SiC
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SiC材料的特性及应用
Ⅲ.Dopant Considerations 杂质掺入量过大导致了非晶或多晶的形式,深
的杂质能级是不利的,不仅激活温度高,而且也不 利于器件的设计。
SiC材料的特性及应用
颜小琴 2004.11.15
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SiC材料的发展史话 SiC材料的特性及应用 SiC材料的制备方法 小结
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Silicon Carbide Technology(SiC)
Why a new Technology? ➢ Si has served wonderfully well as a
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