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常见的羟基的保护与脱保护方法

目录1.简介 (2)2.硅醚 (2)2.1 三甲基硅醚(TMS-OR) (3)2.2 叔丁基二甲基硅醚(TBDMS-OR) (4)3 (6)4 (7)5……8 6.91…7.1.前言羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中,如核苷,碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。

另外,羟基也是有机合成中一个很重要的官能基,其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。

在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中,我们常常需要将羟基保护起来。

在含有多官能团复杂分子的合成中,如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所2.二(1)<TES(64)<TBDMS (20,000)<TIPS (700,000)<TBDPS (5,000,000);在碱中稳定性为TMS(1)<TES (10-100)<TBDMS~TBDPS (20,000)< TIPS (100,000)。

一般而言,对于没有什么位阻的伯醇和仲醇,尽量不要选用TMS作为保护基团,因为得到的产物一般在硅胶这样弱的酸性条件下也会被裂解掉。

任何羟基硅醚的都可以通过四烷基氟化胺如TBAF脱除,其主要硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之间的亲和性。

在用TBAF裂解硅醚后,分解产生的四丁铵离子+: 242)N(BuHPLC有时通过柱层析或很难除干净,而季铵盐的质谱丰度又特别的强有4时会干扰质谱,因此这时需要使用四甲基氟化铵或四乙基氟化铵来脱除。

.使用硅醚保护的另一个好处是可以在分子中游离伯胺或仲胺基的存在下,对羟基进行保护,其主要由于硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱,硅原子优先与羟基上的氧原子结合,这正是与其他保护基不同之处。

顺便提一句,一般而言,决大部分的硅-氮键的结合是不稳定的,其很容易被水解掉。

2.1 三甲基硅醚的保护(TMS-OR)许多硅基化试剂均可用于在各种醇中引入三甲基硅基。

一般来说,空间位阻较小的醇最容易硅基化,但同时在酸或碱中也非常不稳定易水解,三甲基硅基化广泛用于多官能团化合物,生成的衍生物具有较高的挥发度而利于其相色谱和质谱分o C anddried andsilica gel 2 was在化学合成中,采用硅基化进行羟基保护生成叔丁基甲基硅基醚是应用较多的方法之一。

一般来说,在分子中羟基位阻不大时主要通过TBSCl对羟基进行保护。

但当羟基位阻较大时则采用较强的硅醚化试剂TBSOTf来实现。

生成的叔丁基二甲基醚在多种有机反应中是相当稳定的,在一定条件下去保护时一般不会影响其他官能团。

它在碱性4倍。

它对碱稳定。

相对来说对酸敏感些。

TBS水解时的稳定性约为三甲基硅醚的10醚的生成和断裂的难易取决于空间因素,因此常常用于对多官能团,位阻不同的分子进行醚的断裂除了常TBS基相对来说较易于与伯醇反应。

TBS选择性保护。

在伯、仲醇中,用的四烷基氟化胺外,许多情况下也可用酸来断。

当分子内没有对强酸敏感的官能基存在时,可用HCl-MeOH, HCl-Dioxane 体系去除TBS,若有对强酸敏感的官能基存在时,则可选用AcOH-THF体系去除。

2.2.1 通过TBSCl进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(J. Am. Chem. Soc. 1972, 94,6190)The hydroxyl lactone 1, upon treatment with TBDMSCl (1.2 equiv) and imidazole (2.5 equiv.)o C for 10 h, produced the silyl ether-lactone 2 in 96% yield. in DMF (2 mL/g of 1)42.2.4 通过AcOH-THF脱TBS示例(Tetrahedron Lett. 1988, 29, 6331)Selective removal of one of the TBDMS groups of 1 was accomplished by treatment withacetic acid-water-THF (13:7:3) (30°C, 15h) to give the monohydroxy compound 2 in 79%yield.2.3 t-Butyldiphenylsilyl ether (TBDPS-OR)在酸性水解条件下TBDPS保护基比TBDMS更加稳定(约100倍),而TBDPS 保另外,由于该保护基的分子量较大,容易使底物要差。

TBDMS护基对碱的稳定性比.固化而易于分离。

TBDPS保护基对许多与TBDMS保护基不相容的试剂显出比TBDMS基团更好的稳定性。

TBDMS基团在酸性条件下不易迁移。

TBDPS醚对KCO 32/CHOH,对9M氨水、60℃、2h;对MeONa(cat.)/CHOH、25℃、24h均稳定。

该33醚对80%乙酸稳定,后者可用于脱除醚中TBDMS,三苯甲基,四氢吡喃保护基也对HBr/AcOH,12℃,2min;对25%~75%甲酸,25℃,2h~6h;以及50%三氟乙酸,25℃,15min稳定。

2.3.1 通过TBDPSCl进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(. Chem, 1992, 57,243filtered, and concentrated. Purification by 42flash chromatography (10% ethyl acetate in hexane) afforded silyl ether (2) (6.90 g, 89%).3.羟基苄醚保护及脱除一般羟基的苄醚保护主要有苄基,对甲氧苄基及三苯甲基醚。

3.1苄基醚保护羟基(Bn-OR)一般烷基上的羟基在用苄基醚保护时需要用强碱,但酚羟基的苄基醚保护一般只要用碳酸钾在乙腈或丙酮中回流即可,回流情况下,这类烷基化在乙腈中速度比丙酮中要快四倍左右,因此一般用乙腈做溶剂居多。

若反应速度慢可用DMF做3.1.1烷基羟基的苄基醚保护示例(Bull. Chem. Soc. Jpn. 1987, 60, 1529) Compound 1 (12.1 g) in DMF (200 mL) was treated with 60% NaH (1.32 g), benzyl bromide(6.44 g) and tetrabutylammonium iodide (0.11 g). The reaction mixture was stirred at roomtemperature for 1.5 h. The product was purified by chromatography on silica gel with toluene-ethanol (20:1) to give 2 (14.0 g, 99%).3.1.2 酚羟基的苄基醚保护示例To a solution of 1 (37.65 g, 277 mmol) in EtOH (135 mL) was added benzyl chloride (36.5 g,289 mmol), KI (1.75 g, 10 mmol) and KCOThestirring. with mmol) 178 g, (24.6 32.resulting mixture was refluxed for 5 h. The mixture was allowed to cool to room temperature and the solvent was removed in vacuo. The residue was added water (100 mL)and extracted with EtO (80 mL 3). The extract was washed with saturated NaHCO, 32water and brine successively. The organic layer was dried over NaSO andconcentrated in 42vacuo to give the crude product, which was distilled to afford 2(49.1 g, 79%).3.1.3苄基醚氢解脱保护示例(J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 1746) Compound 3 (105 mg) was hydrogenated in ethanol (10 mL) containing 1M hydrochloricacid (0.5 mL) in the presence of 10% palladium on charcoal (50 mg) in an initial3.2对甲氧基苄基醚保护羟基(PMB-OR)各种甲氧基苄醚已经合成得到并被用作保护基。

实际上甲氧基取代的苄基醚较未取代的苄基醚更容易通过氧化去保护。

下表给出了用二氯二氰苯醌去保护时的相对速率。

o C3.2.2 在苄氧基存在下选择性脱去对甲氧基苄基示例(Tetrahedron Lett. 1988, 29, 2459)To a stirred solution of 2 (92 mg, 0.286 mmol) in CHCl (2.9 mL) and water (0.17 mL) was 22added DDQ (97 mg, 0.427 mmol) at room temp. After 2.5 h precipitated DDQH was removedby decantation and washed with a small amount of CHCl. The combined CHCl solution 2222was washed with sat. NaHCO aq. And sat. NaCl aq. And dried over NaSO.Evaporated of 432the solvent in vacuo gave an oil, which was chromatographed on a silica gel column withEtOAc-n-hexane (1:1) as eluant gave a colorless solid of 1 43.8 mg, 84%.烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚4.烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚在羟基保护中也是较为多用的一类,常用的有THP (2-四氢吡喃),MOM(甲氧基甲机基),EE(2-乙氧基乙基),这类保护基都对酸不稳定,因此一般都是脱保护。

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