多弧离子镀技术的现状调研引言物理气相沉积技术早在 20世纪初已有些应用，但在最近 30年迅速发 展，成为一门极具广阔应用前景的新技术，并向着环保型、清洁型趋势发 展。

20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表 面处理方面得到越来越为广泛的应用。

离子镀技术是在真空蒸镀和真空溅射的基础上于 20世纪60年代初发展起来 的新型薄膜制备技术，于 发表了电子束离子镀技术， 作了 TIN 及TIC 超硬膜。

多弧离子镀属于离子镀的一种改进方法， 是离子镀技术中的皎皎者。

最早由苏联 人开发，80年代初，美国的Multi-Arc 公司首先把这种技术实用化，至此离子 镀达到工业应用水平。

离子镀种类很多，蒸发远加热方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。

多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。

简单的说，多弧 离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放 电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积。

由于多弧 离子镀技术具有镀膜速度高，膜层的致密度大，膜的附着力好等特点，使多弧离 子镀镀层在工具、模具的超硬镀膜、装饰镀膜等领域的应用越来越广泛， 并将占 据越来越重要的地位。

离子镀技术是当前使用面最为广泛、最为先进的表面处理技术之一，而多弧离子镀更是其中的佼佼者。

据不完全统计，国内外有近一半以上表 面处理使用多弧离子镀技术， 尤其是那些需要耐磨、耐蚀及特殊要求的场 合。

随着社会的进步，科学的发展，离子镀技术必将加完善。

1963 年由 D. M Mattox 提出，1971 年 Chamber 等1972年又出现了反应蒸发镀（ARE 技术，并制 同年，MOLEY 和SMITH 将空心阴极技术应用于镀膜。

目录1物理气相沉积技术物理气相沉积技术种类物理气相沉积（Physical Vapor Deposition ， PVD）技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源一一固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

物理气相沉积的主要方法有（1）真空蒸镀；（2）溅射镀膜；（3）离子镀膜。

发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、、聚合物膜等。

真空蒸镀真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子束、激光束、离子束高能轰击镀料，使其蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。

溅射镀膜溅射镀膜基本原理是充氩气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩原子电离成氩离子，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。

如果采用直流辉光放电，称直流（Qc）溅射，射频（RF）辉光放电引起的称射频溅射。

磁控（M）辉光放电引起的称磁控溅射。

离子镀膜离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。

这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

物理气相沉积技术主要厂商PLATIT涂层设备公司PLATIT公司总部位于瑞士，属于BCI集团旗下企业。

该公司是目前唯一只做设备不做涂层服务的公司。

目前在国内的市场主要由代理商科汇负责，科汇最早在香港开了涂层中心，于2006年在深圳成立分厂，但现在基本都转移到深圳。

PLATIT的最大优点是开发纳米结构涂层，而且宣传的非常好，PLATIT的设备是目前在国内销售的最多的外国涂层设备。

赛利涂层技术有限公司？？赛利涂层技术有限公司原是天威赛利涂层技术有限公司，由天威集团与德国CemeCon AG共同投资成立。

公司成立于2003年09月。

2005年04月，天威赛利成功通过德国T u V （莱茵公司）的£09001:2000质量认证，2008年06月顺利完成了由德国CemeCon独资的股权变更，公司名称变更为：保定赛利涂层技术有限公司。

公司主营业务为：PVD （物理气相沉积）与金刚石涂层产品、涂层设备、配件与耗材的制造、销售与售后服务。

欧瑞康巴尔查斯有限公司？？欧瑞康巴尔查斯涂层（苏州）有限公司是瑞士独资公司，注册成立于2003年，目前全国有7个涂层中心，分别位于天津、江苏苏州、浙江温岭、陕西汉中和西安、四川成都、广州东莞。

目前我们正在建设两个新的涂层中心，分别位于在重庆市和山东济南市。

欧瑞康已涉足六大领域：涂层、真空、光学和航空元件、纺织品、推进系统、半导体等。

欧瑞康巴尔查斯产品在国市场的占有份额约为15%〜20%,这一份额已经是国内最大的PVD 涂层公司，比其它涂层公司要高出很多，目前巴尔查斯在全球市场所占份额约为三分之一。

德国PVT涂层有限公司德国PVT涂层有限公司，是由德国PVT公司在中国投资设立的涂层加工中心，公司总部在德国的本斯海姆，目前该公司自己在国内有四个涂层中心：黑龙江哈尔滨、江苏常州、浙江温岭、广东东莞。

德国PVT公司是当今世界上最先进的超硬涂层技术研发和设备制造公司之一，是专门开发设计具有世界领先水平的离子和等离子真空镀膜设备的高科技公司，主要集涂层设备制造，涂层新工艺研发及涂层加工于一体。

特别是其动态磁场设计，电弧运动速度快，而且遍布整个靶面，能够提高膜层均匀性、提高靶材利用率、减小液滴等特点。

瑞士Sulzer瑞士Sulzer公司成立于1984年, 1987年在德国Bevgisch Gladbach建立独立的涂层中心，主要以MAXIT耐磨涂层为主。

1992年开始生产制造设备，并扩大了涂层服务，1997年兼并了Klocknev lonon GmbH公司，业务范围扩展到等离子渗氮领域，即IONIT R耐磨保护，1999扩展到装饰涂层领域。

2001年该公司被瑞士Sulzer公司收购，2002年扩大了Bergisch Gladbach 的IONIT 和IONIT OX 的生产规模，成为最大的工业等离子表面处理制造商。

2003年兼并了美国前DB 薄膜公司，开始从事MAXIT、IONIT、IONITOX生产服务。

亚特梯尔镀层科技有限公司亚特梯尔镀层科技有限公司是由香港Art Technology Development LTD与英国Teer Coating LTD共同投资组建的外资企业。

Teer coating主要强项是非平衡磁控溅射，公司位于东莞市凤岗镇塘沥村福民工业区，主要从事机械加工用的刀、模具的镀层处理，目前主要生产CrAlTiN、Graphit-iC和MoST三种高性能的镀层。

爱恩邦德技术有限公司爱恩邦德技术有限公司于2005年由lonbondAG集团投资140万美金成立了爱恩邦德涂层（苏州）有限公司，公司下设苏州、昆山两个工厂分别位于苏州工业园区和昆山经济技术开发区。

Ion bo ndAG集团中国总部一--爱恩邦德（无锡）技术有限公司设于无锡市高新科技技术区，IonbondAG集团致力于CVD（化学气相沉积）、PVD（物理气相沉积）、PACVD离子加强化学气相沉积）以及CVA（铝化学气相沉积）等多种表面膜层技术及其设备的研发与生产。

豪泽（Hauzer）技术镀层公司豪泽（Hauzer ）技术镀层公司是PVD技术的全球供应商，该技术广泛应用于切削刀具、汽车零部件及卫浴五金件。

母公司易普森国际是市场上领先的真空热处理技术供应商，易普森工业炉（上海）有限公司是其在中国的生产基地。

豪泽公司以易普森上海为其在中国的基地，为豪泽公司先进的镀层和PVD系统的用户提供本地化的服务支持。

除了为切削刀具提供一流的硬镀层外，豪泽公司也为硬质钢的干式高速加工以及铝、不锈钢和钛合金的切削刀具提供最优化的工具镀层技术和减磨镀层技术。

Hauzer在汽车发动机零部件涂层上的市场份额是全球第一的，另外他最突出的涂层技术是在DLC膜上,这几年刀具涂层方面的业务发展迅速。

北京丹普表面技术有限公司北京丹普表面技术有限公司是由北京丹鹏表面技术研究中心和意大利普罗泰克表面技术有限公司于2000年4月共同投资兴建的中意股份合作企业。

主要从事物理气相沉积（PVD技术的研究和开发。

主营产品为阴极电弧离子蒸发系统和非平衡磁控溅射系统，AS系列和Propower（简称PP）系列计算机全自动控制离子镀膜设备是其主打产品。

物理气相沉积技术总结磁控溅射技术和电弧技术在工具涂层领域各有优势，到目前为止还很难说哪种技术更好。

磁控溅射技术这几年发展很快，世界涂层领域在工具涂层上溅射技术做的最好的还是德国的Cemeco n公司，而且涂层的产品几乎全是刀具。

在刀具涂层领域，涂层设备的设计制造也有一些新的趋势。

一些知名的国外涂层设备制造商纷纷推出电弧加溅射的涂层设备，例如Sulzer的Domi no系列涂层设备，Balzers的Inn ova，以及豪泽公司的涂层设备。

因此溅射技术还是存在电弧技术代替不了的优势的。

最近两年来，高能脉冲磁控溅射技术炒的很热。

以Cemecon和Hauzer公司为代表，已经推出了采用这种技术的涂层设备。

从原理上讲，这确实是一种能够结合电弧和溅射技术所有优点的涂层技术。

如果发展的顺利，高能脉冲磁控溅射技术将代表工具涂层技术未来的发展方向。

在国内物理气相沉积镀膜设备主要是以进口为主，目前国内在物理气相沉积技术方面还属于引进的阶段，缺少自主知名品牌，在市场上没有竞争力，这也同时预示着国内物理气相沉积技术的发展空间。

总体技术的差距导致国外公司的垄断，在这方面应该加大投资，研发具有自主知识产权的高性能设备与产品提高竞争力。

2多弧离子镀多弧离子镀原理及工艺多弧离子镀的蒸发源结构由水冷阴极、磁场线圈、引弧电极等组成。

阴极材料即是镀膜材料，在10-1 - 10 Pa真空条件下，接通电源并使引弧电极与阴极瞬间接触，在引弧电极离开的瞬间，由于导电面积的迅速缩小，电阻增大，局部区域温度迅速升高，致使阴极材料熔化，形成液桥导电，最终形成爆发性的金属蒸 发，在阴极表面形成局部的高温区，产生等离子体，将电弧引燃，低压大电流的 电源维持弧光放电的持续进行。

在阴极表面形成许多明亮的移动变化的小点，即 阴极弧斑。

阴极孤斑是存在于极小空间的高电流密度、 高速变化的现象。

阴极弧 斑的尺寸极小，有关资料测定为1 ~ 100 pm ;电流密度可高达105 ~10 7A / cm 2。

每个弧斑存在的时间很短，在其爆发性地离化发射离子和电子，将阴极材料蒸发 后，在阴极表面附近，金属离子形成空间电荷，又建立起弧斑产生的条件，产生 新的弧斑，众多的弧斑持续产生，保持了电弧总电流的稳定。