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仿真工具(ATLAS)


ATLAS 器件仿真
定义materials(材料)及models(模型)
MATERIAL <localization> <material_definition> 这里的<localization>是用来确定将对那种材料 进行定义。表达方式是: material=silicon / polysilicon/ SiGe/ GaAs … <material_definition>是要材料定义的属性,可 以指定:载流子寿命,载流子迁移率,禁带宽度, 能带及热载流子注入等参数的设置。
进一步详细的关于 这些模型的信息, 可以参看文档:
ATLAS User’s Manual Volume I
ATLAS 电学特性 数值计算方法命令集:
对于半导体器件问题,有几种不同的方法可以 使用。对于 MOS 结构来说,可以使用非耦合的 GUMMEL 法和耦合的 NEWTON法。简单地说, gummel 法将对每个未知量轮流求解,同时保持 其他变量不变,不断重复这个过程,直到得到稳 定的解。而 Newton 法将会对整个系统的所有未 知量一起求解。 输入: method newton
ATLAS 电学特性
ATLCT NUMBER=<n>|NAME=<ename>|ALL [<wfp>] [<bc>] [<lcr>] [<link>] Workfunction Parameters Boundary Conditions Contact Parasitics Electrode Linking Parameters
工艺及器件仿真工具 SILIVACO-TCAD
哈尔滨工程大学微电子实验室 2009.10
ATLAS 电学特性
在这一部分,将对一个NMOSFET器件结 构进行器件仿真。 以下将会演示到: 1. 产生简单的 Vds=0.1V 偏压下的曲线: Ids vs. Vgs 2.提取器件参数,例如Vt,Beta和Theta 3.产生不同的Vgs偏置情况下的Id vs. Vds 曲 线簇
ATLAS 器件构造 3. 定义电极
ELECTRODE NAME=<en> [NUMBER=<n>] [SUBSTRATE] <pos> <reg>
ATLAS 器件构造 4. 掺杂分布
DOPING <distribution_type> <dopant_type> <position_parameters> distribution parameter: 是指在指定的区域内杂质的分布形 式。Uniform是指均匀分布,gauss 是指高斯分布。 Dopant parameter: 是指定掺入杂质的类型及浓度大小, 浓度的单位是/cm3. Position parameter: Junction,Peak,char,x.right,x.left, teral
ATLAS 电学特性 tonyplot
ATLAS 电学特性 tonyplot 对应的编辑菜单
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ATLAS 电学特性 提取器件参数
Beta is the transconductance coefficient THETA is the Vgs dependence on mobility
ATLAS 电学特性 Ids vs.Vds
ATLAS 电学特性 Ids vs.Vds
ATLAS 器件构造
构造器件的步骤:
1. 构建网格 2. 定义区域 3. 定义电极 4. 掺杂分布 5. 保存结构文件
ATLAS 器件构造
1. 构建网格
ATLAS 器件构造 2. 定义区域
REGION NUMBER=<n> <material> [<position>]
Material parameter: SILICON, GAAS, POLYSILI, GERMAINU, SIC, SEMICOND, SIGE, ALGAAS, A-SILICO DIAMOND, HGCDTE, INAS, INGAAS, INP, S.OXIDE, ZNSE, ZNTE, ALINAS, GAASP, INGAP and MINASP. Position parameter: X.MIN, X.MAX, Y.MIN, and Y.MAX (Z.MAX, Z.MIN for 3D)
ATLAS 电学特性
输入:Go altas
ATLAS 电学特性
MESH <prev>|<new> [<output>]
语法: mesh inf=mos1ex02_0.str
ATLAS 电学特性
设置模型: 对于简单的 MOS 仿真,推荐使用 CVT 和SRH。 SRH是Shockley Read Hall复合模型, 而 CVT 模型是来自于 Lombardia 的反型层 模型。 CVT模型设置了通用的迁移率模型,包 括了浓度、温度、平行电场和横向电场的 影响。
进一步详细的关于 这些模型的信息, 可以参看文档: ATLAS User’s Manual Volume I
ATLAS 电学特性 设置模型: interface
INTERFACE [<params>]
Boundary Condition Parameters Position Parameters
在此程序中,对silicon 及SiGe 材料的电子及空 穴的寿命进行了定义,单位是秒(s)。
ATLAS 器件仿真
定义materials(材料)及models(模型)
在前面的“ATLAS 电学特性”中已经 对model 进行了分类。在此程序中,由于 引入了 silicon/SiGe 异质结,因此引入了 bgn模型。并且添加了fldmob 这一依赖于 平行电场的载流子迁移率模型。 conmob 依赖杂质浓度的载流子迁移率模型。
ATLAS 电学特性 求解命令集: Ids vs. Vgs
在这个命令接中,将包括: 1.“Log” 命 令 , 用 来 存 储 log文件,这个文件包括了 ATLAS 所计算的所用的终 端特性。 2.“Solve” 命令,不同偏置 条件下的求解。 3.“Load” 命 令, 载 入 求解 的文件。
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