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第三章干涉装置和光场的时空相干性教程



M
B
M
P
2

C
D ( B C ) ,是垂直X轴的直线条纹 x d 2B
2 ,d B ,D B C
2) 洛埃镜的条纹特征
S S
d
a
xP P0d注意:D D 2a ,x d 2a 干涉条纹是垂直X轴的直线条纹
D
P0点处是暗条纹。 由于掠入射时的半波损,
( SIIP ) ( SIP ) 2 ( P) 0 2 2 ( P) 1 ( P) [( SIIP ) ( SIP )]
L ( SIIP ) ( SIP) n2 [( S 2 P) ( S1 P)] n2 (r2 r1 )
则:I I A I B 4 I 0
IM Im 两套条纹峰谷相对时 0 IM Im
1 2 2 2
______
(n1 SM 2 n M 2 N 2 ) (n1 SM 1 n M 1 N1 )
_____
_______
n1 SM 1 n M 1 N1 n2 S1 N1
_____ _______
2 2 _____
2
_______
_______
n 2 S 2 N 2 n 2 S1 N 1
随两个点源错开距离的增加,两套干涉 图样非相干迭加的反衬度逐渐下降。 两套干涉图样错开半个条纹间距时, 反衬度下降为零。
(2)证明:
R D s x 0 已知:x0 x / 2 且: D 2d R 两个点源错开的距离就为:s 2d I A 2I 0 (1 cos A ) 其中: I 0 I1 I 2 I B 2I 0 (1 cos B ) 2 d 由于: A x D
_______
(n1 SM 1 n M 1 N1 )-n2 N1 P
_______
( n 2 S 2 N 2 n 2 N 2 P ) ( n 2 S1 N 1 n 2 N 1 P ) ______ ______ xd n2 ( S 2 P S1 P ) n2 (r2 r1 ) n2 m D xd 若 n2 1 L r2 r1 m
_____ _______ _______ _____ _____
_______
S1和 S 2之间的物像等光程性:
_____ _____ ______
n1 SM 1 n M 1 N1 n2 S1 N1 n1 SM n MN n2 S1 N ______ ______ 由于: S1 N S 2 N _____ _______ _______ 有: n SM n M N n S N
_____ _____
2
2
注意: n2 是像方介质的折射率
4)干涉条纹的形状和间距
x L n2 (r2 r1 ) n2 d m D
干涉条纹为垂直X轴的直线条纹 若
n2 1
D x d
3.几种具体干涉装置的条纹特征
1)菲涅耳双面镜的条纹特征
S
x
S1 d S2
M1
3)双棱镜的条纹特征
S1 S S2
n1 M 1 N 1 n2
M n N
M 2 N2
B


r2
r1
x
P


C
(1)光程差: (a)如图,D B C
2 2(n 1) d B 2 B(n 1)
(b)点光源 S 与虚像
_____ _______
n1 SM 2 n M 2 N 2 n2 S 2 N 2 n1 SM n MN n2 S 2 N
D
(2)条纹形状和间距
4)白光光源的干涉条纹特征
零级条纹为白光条纹,
干涉条纹是垂直X轴的直线条纹 D ( B C ) x d 2(n 1)B
xd 由于:L r2 r1 m D
其余级次条纹彼此错开,呈现彩色条纹带。
4.干涉条纹的移动
1)条纹移动的原因
光源移动、装置结构变动或 光路中的媒质变化。
_______
_______
(c)S点源在P点产生的光程差:
L (SM 2 N 2 P) (SM 1 N1 P)
_____ _______
_____ _______
(n1 SM 2 n M 2 N 2 ) n2 N 2 P
_______ _______
_______
_______
2)观察条纹移动的方法
两种方法: 定点观察,跟踪观察
3)杨氏实验中光源在 x方向移动了s , 求零级条纹移动的距离? r1 P0 S1 x0 R1 r 2 S d s x P 0 S R2 S 2
R D
设点光源移动s后,零级条纹由p 0点移至
p L ( R2 r2 ) ( R1 r1 ) 0 ,r2 r1 R1 R2
当A和B两个点源的干涉图样错开半个 条纹间距时,总光强反衬度下降为零。
2 d d B [( r2 r1 ) ( R1 R2 )] ( x s) D R 即: B A 有: I A 2I 0 (1 cos A )
2
I B 2I 0 (1 cos B )=2I 0 (1 cos A )
第三章 干涉装置和光场的时空相干性
§1 分波前干涉装置和 光场的空间相干性
1.实现干涉的基本方法
1)分波前法 2)分振幅法 2.分波前装置的干涉特点
分波前干涉装置示意图
1)光强度:
I I1 I 2 2 I1 I 2 cos ( P)
2)相位差
1 ( P) 0
3)光程差
d d D 得: x0 s ,即: x 0 s D R R
' 0点。
4)注意: (1)光源沿Y方向平移时,条纹
级次的X方向位置不变动。 (2)双面境等干涉装置的关 系式与上式不同。
5、光源宽度对干涉条纹的影响
1)光源在Y方向展宽时反衬度不变
2)光源在X方向展宽时反衬度下降
(1)仅有两个点源时的反衬度
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