厂区布置：厂区包括生产用房、办公楼、辅助生活设施、甲类化学品仓库、仓库、成品仓库、气体供应站、综合动力站及发展预留用地等
(d)
职工人数：公司职工总人数220人，其术人员160人。
工作制度：预计年工作日355天，每天工作24小时，年工作时数为8520小时。
3.2
(a)
一、单晶硅抛光片制作
生产工艺流程具体介绍如下：
为改善劳动环境，满足生产需要，设置一套中央空调系统，由冷却塔、加压泵和冷冻机组成。
绿化
为美化环境、净化空气、降低噪声，厂在空闲地带、道路两侧进行种草植树，绿化面积51979m2，绿化达到38.8%
环保工程
废气处理
对工程中产生的各种废气采用技术可行、经济合理的治理措施，即酸性废气进入采用碱液进行淋洗；碱性废气采用酸液进行淋洗；甲苯采用活性炭吸附；特性废气采用专门的湿式外延气体清洗器处理，各种废气均达标排放
按照《中华人民国环境保护法》、《中华人民国环境影响评价法》和《建设项目环境保护管理条例》的有关规定，应当在工程项目可行性研究阶段对该项目进行环境影响评价。为此，银笛（）微电子于2006年8月委托工业园区新环境保护科学研究所承担该项目环境影响报告书的编制工作。
我单位接受委托后，即认真研究该项目的有关资料，并踏勘现场的社会、自然环境状况，调查、收集有关工程现有状况及拟建项目资料，通过对项目所在区域的环境特征和本项目的工程特征进行深入分析，编写了环境影响报告书。通过环境影响评价，了解建设项目周围的环境状况，预测建成后对周围水气声环境的影响程度和围，并提出防治污染措施，减缓建设项目对周围环境的影响，为建成后的环境管理提供科学依据。
项目主体工程与设计能力情况见表3-1，公用及辅助工程的组成见表3-2。
表3-1项目主体工程与设计能力
序号
工程名称
（车间或生产线）
产品名称
及规格
设计能力/年
运行ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ数
1
单晶硅抛光片
4英寸
40万片
8520h
6英寸
150万片
8英寸
80万片
12英寸
30万片
合计
300万片
2
硅外延片
6英寸
30万片
8英寸
30万片
合计
分档检测：为保证硅片的规格和质量，对其进行检测。此处会产生废品。
研磨：用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层，有效改善单晶硅片的曲度、平坦度与平行度，达到一个抛光过程可以处理的规格。此过程产生废磨片剂。
废水处理
公司建设一套废水处理设施，针对不同水质，采用不同方式，对生产废水进行有效处理，达到接管标准后和生活污水进入真州污水处理厂处理，经处理达标后，统一排入长江仪征段
噪声处理
采用低噪声设备、隔声减震、绿化吸声等措施
固废处理
按照规定对产生的固体废物进行处置
(c)
占地面积：本项目总占地面积133334m2，所占土地为仪征经济开发区新区高新技术产业用地。
建设地点：省仪征经济开发区新区
建设性质：外商投资新建
投资总额：新建项目投资总额8000万美元，其中环保投资576万元
(b)
银笛（）微电子向仪征市高新技术开发区提出生产、办公用房及生产设施的建设要求，仪征市经济开发区按要求建造厂房及相应的设施，然后租赁给银笛()微电子使用。租用厂房面积约48680㎡，包括外延片生产厂房、抛光片生产厂房、综合动力站、化学品库、办公楼、门卫等。设施主要包括供水系统、循环冷却水系统、纯水系统、变配电系统、应急电源、通信信息及生命安全系统、空调净化系统、压缩空气系统、制冷及供热系统、环保设施（废水处理站、废气处理设施）、消防设施、劳动保护安全设施以及室外工程等。
2
表2-1环境保护目标
环境要素
环境保护对象
方位
距离（m）
规模
环境功能
大气环境
蒲新村（待拆迁）
南
100
100户
二类区
水环境
长江
南
2000
—
Ⅲ类水体
仪征与仪化
水源取水口
东
12000
50万吨/天
水厂取水口
西
8000
声环境
厂界
周围
厂界
3类区
3
(a)
项目名称：银笛（）微电子年产300万单晶硅抛光片、60万硅外延片项目
固定：将单晶硅棒固定在加工台上。
切片：将单晶硅棒切成具有精确几何尺寸的薄硅片。此过程中产生的硅粉采用水淋，产生废水和硅渣。
退火：双工位热氧化炉经氮气吹扫后，用红外加热至300~500℃，硅片表面和氧气发生反应，使硅片表面形成二氧化硅保护层。
倒角：将退火的硅片进行修整成圆弧形，防止硅片边缘破裂及晶格缺陷产生，增加磊晶层及光阻层的平坦度。此过程中产生的硅粉采用水淋，产生废水和硅渣。
银笛（）微电子
年产300万单晶硅抛光片、60万硅外延片项目
环境影响报告书
（简本）
银笛（）微电子
2006年9月
1
1.1
新加坡银笛科技（控股）私人股份，经过多年的攻关，攻克了功率场控器件用高阻厚外延和亚微米、深亚微米CMOS器件薄层外延制造技术，该成果得到了国家相关部委及高科技产品认定中心的认定。新加坡银笛科技（控股）私人股份已在金桥出口加工区投资建设了外延片的生产基地，由于现目前国半导体材料市场严重供不应求，为了满足国外半导体市场的需求，决定在省仪征经济开发区投资设立银笛（）微电子，年产300万硅抛光片、60万硅外延片，主要生产4~12英寸的硅抛光片以及6~8英寸的硅外延片。本项目的建设有利于加速集成电路芯片主要材料的国产化进程。
面积4000 m2
由专业公司建站制造，提供氢气、氮气等
特气存储
特种气体存放于进口的特气钢瓶柜，HCl、SiHCl3钢瓶柜各2个，PH3、B2H6各一个
公用工程
给水
102.1万t/a
仪征经济开发区给水管网提供
排水
65.93万t/a
生产废水经厂自建废水处理站处理达到接管标准后和生活污水进入真州污水处理厂处理
60万片
表3-2公用及辅助工程
类别
建设名称
设计能力
备注
贮运工程
甲类化学品仓库
面积200m2
采用防腐蚀环氧树脂地面，主要存放硫酸、硝酸、双氧水、盐酸、氢氟酸、氨酸和氢氧化钠溶液等
仓库
面积4000 m2
主要存放原料单晶硅棒、硅衬底材料和成品
废弃物仓库
面积100 m2
存放各类酸碱废液和固体废弃物
气体供应站
供电
5452.8万度
由开发区的110KV变电所提供
纯水制备
110t/h
纯水制备系统供纯水，用于满足生产中的使用纯水
循环冷却系统
400t/h
公司设有一套由水泵、冷却水塔、循环水箱等组成的冷却循环系统。
供汽
为了满足生产中对热源的需要和冬天采暖，本项目年消耗蒸汽量为的10万吨，有开发区的供气管网提供。
空调系统