微电子工艺学中的离子注入技术是一种关键的掺杂方法，通过将杂质电离成离子并注入到硅中实现掺杂。离子束具有多种用途。掩模方式适用于大面积均匀注入，而聚焦方式则能实现灵活的图形形成。离子注入系统由离子源、质量分析器、加速器等关键部件组成，用于产生和加速所需的离子束。此外，液态金属离子源作为一种高亮度小束斑的离子源，在离子注入、离子束曝光、刻蚀等方面具有广泛应用。然而，本文档并未详细探讨激光蚀刻的原理和工作过程，因此无法提供该方面的具体信息。