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碳化钛基金属陶瓷主要制备方法

第24卷第1期 Vo1.24No.1 贺 州 学 院 学 报 JOURNAL OF HEZttOU UNIVERSITY 2008年3月 Mar.2o08 

碳化钛基金属陶瓷主要制备方法 

胡正西 

(贺州学院‘物理与电子信息工程系,广西 贺州 542800) 

[摘要]碳化钛金属陶瓷具有优良的物理化学性能,在复合材料中应用广泛而备受关注,文章介绍了 

碳化钛金属陶瓷的性能特点,并综述了碳化钛金属陶瓷常见制备方法及特点。。 

[关键词]碳化钛陶瓷;性能;制备方法 

[中图分类号]TB331[文献标识 ̄-q]A[文章编号]1673—8861(2008)01—0140—05 

1.前言 

碳化钛具有高熔点、高硬度和高弹性模量,良好 

的抗热震性和化学稳定性,高温抗氧化性能仅低于 

碳化硅。碳化钛是硬质合金的重要原料,因此在结构 

材料中作为硬质相而被广泛用于制作耐磨材料、切 

削刀具材料、机械零件等,还可制作熔炼锡、铅、锡、 

锌等金属的坩锅,透明碳化钛陶瓷是优良的光学材 

料。碳化钛优良的耐热冲击性能,使它适合于在中性 

或还原性气氛中用作特殊的耐火材料。 

TiC是过渡族金属元素Ti和非金属元素C共价 

化合物,为面心立方品格(NaCI型),八面体结构。其 

品格常数为0.4319nm,密度为4.93—4.90g/cm3。 

TiC陶瓷属于超硬材料,不仅硬度高,耐磨性好,摩 

擦系数低,还具有较高的红硬性,化学稳定性和良好 

的导热性与热稳定性。具有极其广泛实际应用价值。 

如用于制造切削刀具材料、装甲材料、堆焊耐磨焊条 

等。 

但TiC陶瓷本身质脆,无法直接作为工程构件 

使用,在复合材料也往往作为增强相…I,因此较多 

地作为涂层在材料领域中应用并受到广泛重视。 

TiC基金属陶瓷就是很好的实例。 

TiC基金属陶瓷,是一种由金属或合金同TiC 

陶瓷相所组成的非均质的复合材料,它既保持有 

TiC陶瓷的高强度、高硬度、耐磨损、耐高温、抗氧化 

和化学稳定性等特性,又有较好的金属韧性,正是由 

于这些优良的物理化学性能使得碳化钛基金属陶瓷 

备受关注。 2.常见TiC陶瓷的制备技术 

TiC基金属陶瓷材料具有特殊的优异性能,被 

认为是具有很大实用价值的先进材料,人们对它的 

研究也在不断深入,经过30多年的发展,已经开发 

许多制备工艺,每种方法各有不同的优缺点,可以依 

据不同的应用要求、价格因素等选择不同的加工方 

法。 

2.1原位合成法 

原位合成法是材料中的第二相或复合材料中的 

增强相生成于材料的形成过程中,即不是在材料制 

备之前就有的,而是在材料制备过程中原位就地产 

生;由于第二相增强颗粒原位合成,界面没有污染, 

第二相分布均匀可以避免传统粉末冶金工艺和熔炼 

工艺所遇到的难题。随着原位复合技术的发展,其应 

用己拓宽到了金属基和陶瓷基材料中。邹正光等[2] 

用原位碳热还原法制备了TiC/Fe复合材料。这一方 

法是以天然矿物钛铁矿(FeTiO3)、石墨(c)为原料, 

其工艺特点是实现合成与烧结一体化,对于低成本 

合成高性能TiC/Fe复合材料做了非常有益的探索。 

另有文献 【 】还研究了在大气条件下原位合成 

Tic/Fe复合材料。文献[5]的研究发现在400"C、 

IOOMPa、真空度为0.O0013Pa、压缩5h条件下, 

TiC/A1复合材料表现出良好的高温持久强度,并且 

在90℃以下TiC无相变发生,进一步证明原位 

TiC/A1复合材料具有良好的热稳定性。研究表明, 

Ti/MgE TIC/(]u[6][ Fe—Cr—Ni/TiCp[8]等TiC 

基金属陶瓷都可以采用原位合成技术制备。 

[收稿日期]2008—01—10 

[作者简介]胡正西(1976一),湖南永州人,广东_r-..1k大学在读博士,助教,主要研究方向:材料加工工程 

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2.2 熔铸法 

熔铸法在制备复合材料方面具有工艺简单、灵 

活、成本低廉和容易制造复杂构件等特点。虽然钛和 

增强体在液相有高反应活性和润湿性不是很好,但 

是国内研究人员还是在这方面进行了一些有益的探 

索。金云学等[9]和李俊刚等[10]采用熔铸法分别制 

备了TiC p/Ti复合材料和TiC/I'i—xY复合材料。 

马建国等[11J贝0用电渣熔铸的方法制备了3%的TiC 

颗粒增强轴承钢复合材料,对其组织性能进行了初 

步的探索,发现该复合材料的孔隙小、致密度高; 

TiC颗粒较为均匀地分布在基体中,并保留了原始 

的形态,在品界处形成了Fe3C化合物;复合材料的 

耐磨性比基体材料有明显提高。 

2.3粉末冶金法 

粉末冶金技术是首先将增强体和基体粉末混合 

均匀,然后对混合粉末进行真空除气,再经过压型、 

烧结、冷、热等静压等工序而制成。袁宏辉等ll J研究 

了在低压烧结工艺下所制备的碳化钛基金属陶瓷性 

能,发现低压烧结TiC基金属陶瓷的抗弯强度、硬度 

可得到提高,其切削性能也比普通真空烧结有明显 

提高。王翔等[n]制备了Fe—TiC P复合材料并发现 

通过淬火处理后能显著提高Fe基TiC P复合材料的 

硬度及耐磨性。粉末冶金法在实际应用中常常和原 

位合成法相结合来制备性能优良的复合材料。王一 

三等 角新的铸造烧结技术,在铸钢件表面实现快 

速液相烧结,原位生成了厚度为3mm的TiC颗粒增 

强铁基表面复合材料层;研究发现复合材料在重载 

干滑动摩擦条件下,具有很好的耐磨性。 

2.4机械合金化法 

机械合金化法实际上是一种高能球磨技术。高 

能球磨的机械力既可以是粉碎和研磨固体过程中的 

冲击和研磨作用力,也可以是液体和气体的冲击波 

产生的压力,还可以是一般的压力和摩擦力等,品体 

在粉磨过程产生的机械力作用下,不但使品粒尺寸 

由大变小,比表面积增大,而且由于剧烈的碰撞,研 

磨等作用,使品体的结构发生了变化,主要包括品格 

的畸变,品粒的非品化和品型转变等H 5l,正是在这 

些机械力的诱发和作用下使被球磨的粉末发生物理 

化学变化生成新的复合材料。机械合金化和原位合 

成技术结合可以制备纳米级粒度的粉体。夏冬生 

等【16J用机械合金化原位合成法得到了50nm以下 

的Ni (Co)一TiC粉末。 

2.5化学气相沉积 

化学气相沉积(CVD)是借助空间气相化学反 

应在基材表面上沉积固态薄膜涂层的工艺技术。由 于化学气相沉积整个反应建立在热力学基础上, 

CVD膜具有附着性和绕镀性良好、膜层致密、膜基 

结合强度高等优点,可实现TiN、TiC、TiCN、TiBN 

等单层及多元多层复合涂层["】[18]。但CVD工艺处 

理温度高,通常CVD温度在900~1200'12,高温使 

钢基体发生软化,处理后需重新真空淬火,不仅使工 

艺复杂,也使工件容易变形,易造成基体材料抗弯强 

度的下降,主要用于硬质合金刀具和模具。同时, 

CVD制备过程中会产生有害的废气、废液,会造成 

工业污染,对环境影响较大,与目前所提倡的绿色工 

业相抵触,因而限制了其推广使用。 

2.6物理气相沉积 

物理气相沉积(PⅧ)是利用热蒸发、溅射或辉 

光放电、弧光放电等物理过程,在基材表面沉积所需 

涂层的技术。它主要包括蒸发镀膜、溅射镀膜技术和 

离子镀膜技术等。其中溅射镀膜和离子镀是目前较 

普遍采用的制备陶瓷涂层的PVD技术。溅射镀膜是 

基于离子轰击靶材时的溅射效应,其基本原理是:通 

过辉光放电加热工件,源极的合金元素在离子轰击 

下被溅射出来,高速飞向工件表面,被工件表面吸 

附,借助于扩散过程进入工件表面,从而形成渗入元 

素的合金层。离子镀是在真空条件下利用气体放电 

使气体或被蒸发物部分离化,产生离子轰击效应,最 

终将蒸发物或反应物沉积在基片上。与CVD相比, 

PVD可谓是绿色薄膜制备技术,不存在污染问题, 

而且处理温度可降至600'12以下,减少对工件的热 

影响。如用PVD涂覆的活塞环表面TiN涂层、CrN 

涂层是氮化处理耐磨性的6~7倍 沉积温度的 

降低也使沉积的膜层结合强度低于CVD膜层。制备 

的膜层往往存在残余压应力,而且异常高,膜层易于 

脆性开裂和剥落;加之PVD属视线性处理,附着性 

和绕镀性差,处理过程中工件须转动或摆动,增加了 

真空室的设计难度和无效镀膜等问题。为进一步提 

高离化率,增加膜与基体的结合力,近年来开展了 

磁控溅射,非平衡磁控,脉冲偏压磁控等技术的研究 

应用。目前PVD技术也多用于刀具表面处理上。 

2.7 热喷涂 

热喷涂技术是通过火焰、电弧或等离子体等热 

源,将某种线状或粉末状的材料加热至熔化或半熔 

化状态,并加速形成高速熔滴,喷向基体在其上形成 

涂层,可以对材料表面性能(如耐磨损性、耐腐蚀性、 

耐高温隔热性等)进行强化或再生,起到保护作用, 

并能对因磨损腐蚀或加工超差引起的零件尺寸减小 

进行恢复。热喷涂技术主要包括等离子喷涂、电弧喷 

涂、火焰喷涂技术[20J。 

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等离子弧喷涂是以等离子弧为热源喷涂,等离 

子弧的高温可使气体流中所携带的高熔点陶瓷粉末 

迅速地软化,并以高速动能喷射到金属基体上,使被 

喷涂的表层陶瓷与金属基材间获得初步的结合力。 

电弧喷涂是以电弧为热源,将熔化的金属丝高速喷 

射到工件表面形成涂层的一种工艺。氧乙炔火焰喷 

涂法是以氧和乙炔气体火焰作为热源,将喷涂材料 

加热到热塑性状态,并以高速喷射到经过预处理的 

基体表面上,从而形成具有一定性能涂层的工艺。 

近年来随着传统电弧喷涂技术的不断完善,又 

涌现出了高速电弧喷涂(HVAS)、超音速火焰喷涂 

等工艺,改善了膜层的性能,但是由于热喷涂自身的 

工艺特点,决定了它的膜层与基体问为物理结合,结 

合力较低,同时空隙率高,均匀性差表面粗糙等问题 

的存在,使其应用受限。 

2.8 自蔓延高温合成 

自蔓延高温合成法(SHS)是利用金属热还原氧 

化物的原理,点燃预先配好的粉料并利用原料自身 

燃烧反应放出的热量使化学反应过程自发地持续进 

行,进而获得具有指定成分和结构产物的一种新型 

材料合成手段。自蔓延高温合成涂层包括Al2()3、 

MoB2、A1,03一TiC等多种涂层,具有工艺简单、节 

省能源和生产成本低等特点,已应用于石油、矿山、 

冶金等工业领域用[2l儿 引。 

2.9 高密度能量束涂覆 

高密度能量束包括激光束、离子束、电子束,用 

高密度能量束对材料表面进行改性和涂覆。由于这 

些束流具有光特征,可采用聚光镜聚焦成高密度能 

量束流,它可使被照射的区域在瞬间达到很高的温 

度,亦可使陶瓷微粒熔化,从而可用来制取金属基陶 

瓷复合材料。其中以等离子束熔覆和激光熔覆技术 

应用较多 引。 

等离子束熔覆技术是采用等离子束为热源,在 

金属表面获得优异的耐磨耐蚀耐冲击等性能的表面 

复合技术。其原理为:在等离子束流的高温下,金属 

零件表面快速依次形成与弧斑直径尺寸相近的熔 

池,将合金或陶瓷粉末同步送入弧柱或熔池中,粉末 

被快速加热,呈熔化或半熔化状态与熔池金属混合 

扩散反应,随着等离子弧柱的移动,合金熔池迅速凝 

固,形成与基体呈冶金结合的涂层。l2 J向自熔合金 

中添加TiC等陶瓷相及其陶瓷相形成元素,可形成 

陶瓷复合涂层或梯度涂层l25 J。热喷涂粉末结品温度 

区间大,应用于等离子束熔覆时,涂层气孑L和裂纹倾 

向较大。激光熔覆是利用高能密度的激光束在基体 

表面形成与基体相互熔合的且具有成分与性能完全 不同的合金覆层。激光熔敷过程中,熔敷层被快速加 

热、熔化。然后又急剧冷却,属非平衡凝固,而且涂层 

材料和基体材料性能差异较大,再加上激光处理过 

程中影响因素较多,致使熔敷层质量不易控制。结果 

常在涂层中出现某些缺陷元素氧化烧损,涂层成分 

污染,涂层表面裂纹等。 

2.1O 液相沉积 

液相沉积法是近年发展起来的一种湿化学制膜 

法,1988年由Nagayama首次报导【2 ,它只需在适当 

反应液中浸入基片,在基片上就会沉积出氧化物或 

氢氧化物的均匀致密的薄膜。其基本原理是通过溶 

液中离子之间的配位体置换,驱动金属化合物的水 

解平衡移动,使金属氧化物或氢氧化物沉积在基体 

上形成薄膜涂层。如F.Kern等[27J采用液相沉积法 

在碳纤维上沉积了SiCN陶瓷薄膜,大大地提高了碳 

纤维在高温下的抗氧化性能。液相沉积法由于可在 

低温甚至室温的条件下进行膜层沉积制备过程中不 

需热处理,无需昂贵设备,且操作简单等,因而在制 

备氧化物功能薄膜中得到了广泛的应用。但是制备 

过程还存在许多缺陷。液相沉积实质仍为水溶液中 

的反应,在沉积过程中存在溶液浓度反应前后不一 

致,液相反应影响因素多,工艺稳定性不高等。 

2.11 溶胶——凝胶法 

溶胶~凝胶法也是一种陶瓷涂层的低温制备 

方法,目前是材料研究领域的热点。溶胶一凝胶法 

基本原理是将金属化合物前驱体溶于溶剂中形成均 

匀的溶液,在催化剂(如盐酸)的存在下,溶质与溶 

剂产生水解或醇解反应,反应生成物聚集组成纳米 

粒子的溶胶,以溶胶为原料对基体表面进行涂膜处 

理,溶胶经凝胶化后得到干凝胶,后在一定的温度下 

热处理即得到陶瓷膜[281[29]。同液相沉积一样,溶胶 

凝胶法也具有可在低温甚至室温的条件下进行膜 

层沉积,制备过程中不需热处理,无需昂贵设备,操 

作简单等优点,但溶胶一凝胶法所用的金属醇盐等 

有机化合物价格昂贵,使得陶瓷膜的生产应用成本 

高,难以普遍代替有机膜用于工业生产中,同时陶瓷 

膜的制备过程时间较长,常达1—2个月,目前缺乏 

有效的方法来缩短处理时间。 

2.12 液中放电的电火花表面强化 

电火花表面强化处理是近年来国内外研究较多 

的表面改性技术,电火花表面强化处理以其优异的 

性能表现出巨大的工程应用前景 。 

电火花表面强化概念由前苏联学者于1943年 

提出,在俄罗斯称为电火花表面合金化,在日本则称 

为电火花表面沉积/堆焊。其基本原理是储能电源

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