2-
序號 工程名稱 主要設備
名稱 ZnO NaOH
酒石酸鉀鈉
7
一次浸鋅
PP槽
FeCl3 溫度 時間 比重 濃硝酸 溫度 時間 比重 ZnO NaOH
酒石酸鉀鈉
條件 100g/l 520g/l 30g/l 1g/l 室溫 60sec 30~40
o
不鏽鋼槽 5 鹼咬
30-80g/l <30g/l 50~55 C 30sec 5~10
三.由於鋅層太薄,在鍍鋅層上采用化學鍍鎳 由於鋅層太薄, 由於鋅層太薄 進一步打底工藝
• 進一步提高結合力; • 提高耐蝕性能;
四.采用常規的銅/鎳/鉻電鍍工藝起裝飾/防 采用常規的銅/ 鉻電鍍工藝起裝飾/ 采用常規的銅 護作用; 護作用; 五.工件小,易產生挂位挂點,而且良好的導電 .工件小,易產生挂位挂點, 性能要求挂具設計成為電鍍關鍵之一
條件 240~300g/l 50~66g/l 40~55g/l BE861 1~７A/dm2 55~60 C 8~12min 20~23
o o
11
打底鎳
PP槽
250g/l 0.8~1.5g/l CR-101 10~20A/dm o 35~40 C 30~60sec 15~20
2
180~24Βιβλιοθήκη g/l 60~80g/l 60~150ppm
電鍍定義: 電鍍定義:
簡單來 說,電鍍指借 助外界直流 電的作用,在 溶液中進行 電解反應,使 導電體如金 屬的表面沉 積一層金屬 或合金層.
電解原理
電解，是讓電流通過電解質溶液或溶解電解質等離子 傳導體而產生化學變化之意，特徵是加上電能之後會出現 平常不會產生反應的自由能量增加反應。在離子傳導體中 插入一對電極，兩端連接適當的電源，如果電流是直流電。 稱為直流電解；如果是交流電則稱為交流電解。 電流在離子傳導體內部藉著離子的移動而傳送。在電 極與溶液的介面，由於電極反應進行而有電荷移動。陽極 面進行金屬的溶解、產生氧等氧化反應(陽極氧化)，陰極 面則進行金屬的析出、產生氫等還原反應(陰極還原)
o o
8
退鋅
PP槽
500ml/l 室溫 30sec 20~25
o
100ml/l 250ml/l 70~90ml/l 120~160ml/l <1/10[NO3 ] 7.0~10g/l 室溫 10sec 10~15
o -
NO3 6 剝黑 膜 PP槽
-
Al3+ F 溫度 時間 比重
9
二次浸鋅
PP槽
FeCl3 溫度 時間 比重
電鍍生產線
電鍍產品介紹
鋁合金電鍍工藝特點
鋁上電鍍比其它金屬上電鍍要困難得多,主要難點 是起泡和起皮.原因: 1. 鋁和氧有很強的親合力,表面總有一層氧化膜存 在; 2. 鋁是兩性金屬,沒有適合直接電鍍的電解液; 3. 鋁很活潑,與許多金屬易發生置換; 4. 鋁的膨脹系數大; 5. 鋁基與與鍍層這之間常有氫氣吸藏，容易起泡。 因此,提高鋁上鍍層結合力的關鍵在於仔細清除 鋁表面上的自然氧化膜,並防止它重新生成.通常要 在鋁基上鍍覆一層與結合強固的底層或中間層.
鋁合金電鍍工藝流程圖
脫脂 水洗*2 碱 咬 水洗*2 剝黑膜
水洗*2
退鋅
水洗*2
一次浸鋅
水洗*2
二次浸鋅
水洗*2
化學鎳
水洗*2
打底鎳
水洗*2
光鎳
水洗*2
酸銅
水洗*2
光 鉻
水洗*2
烘 幹
品檢包 裝
序號 工程名稱 主要設備 名稱 條件 1 來料檢查 無 外觀 限度板 2 拋光 打磨機 材料 條件 布輪 腊 轉數等 3 上掛 挂具 R-100 40-60g/l 不鏽鋼槽 o 溫度 55~60 C 4 脫脂除油 時間 5~10min o 電筆 比重 5~10 R-200 Al3+ 溫度 電筆 時間 比重 R-30 R-32 SO4
Cuplight867
14
光鉻
整流器
12
酸銅
電筆 15 16 17 烘干 下掛 品檢包裝 焗爐
整流器
20~25 C 2 1~７A/dm 10~15min 20~24
o
o
冷卻管
電 鍍 設 備及工具
•電鍍生產線（pp槽體，不銹鋼槽體,天車，水電 供排水系統） •整流器 •電筆 •冰水機 •焗爐 •挂具 •抽風裝置
溫度 時間 比重 NiCl2 HCl 電流密度 溫度 時間 電筆 比重 CuSO4 PP槽 H2 SO4 Cl 添加劑 溫度 電流密度 時間 比重
-
13
光鎳
整流器
PP槽 整流器
200~240g/l 100~150g/l 5~10A/dm 30~35 C 8~12min 15~20
o o 2
電筆
名稱 NiSO4 NiCl2 H3 BO3 添加劑 電流密度 溫度 時間 比重 鉻 酸 H2 SO4 添加劑 電流密度 溫度 時間 比重
一.碱浸蝕與酸蝕出光
•去除自然氧化膜和粗糙表面,提高結合力; 三酸酸蝕去除合金中硅/鎂等元素在表面的 殘留.
二次置換浸鋅處理(鋁上打底方法): 二.二次置換浸鋅處理
• 鋅鋁電勢比較接近,浸鋅進一步清除氧化膜 的同時,置換出一層致密而附著力良好的鋅 層. • 一次浸鋅獲得的鍍層粗糙多孔,附著力不良, 難 免 有氧化物殘留.退鋅后二次浸鋅以提高鋅層質量;
100g/l 520g/l 30g/l 1g/l 室溫 30sec 30~40
o
序號 工程名稱 主要設備
名稱 EAC-263MU Ni
2+
條件 250ml/l 3-6g/l 20-30g/l 30~35 C 5~8min 5~10
o o
序號 工程名稱 主要設備 PP槽
PP槽 10 化學沉鎳 電筆
NaHPO 2