2020年光刻胶行业分析
一、光刻胶是利用化学反应转移图像的媒体 (2)
二、全球光刻胶市场空间广阔 (5)
三、全球半导体光刻胶市场基本被国外巨头垄断 (6)
四、高端面板光刻胶被国外巨头垄断，低端领域有所突破 (6)
五、PCB光刻胶的国产化渗透率较高 (7)
一、光刻胶是利用化学反应转移图像的媒体
光刻胶又称光致抗蚀剂，由主要成分和溶剂构成。

根据富士经济数据，光刻胶主要使用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），占光刻胶含量约为80%-90%。

主要成分包括树脂、单体、光引发剂及添加助剂四类，其中，树脂含量约占主要成分的50%~60%，单体含量约占35%~45%（庞玉莲，《光刻材料的发展及应用》）。

根据前瞻产业研究院数据，2018年全球光刻胶市场规模约87亿美元，2010年至今，年均复合增长率（CAGR）约5.4%，预计未来3年仍以年均5%的速度增长，2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。

国内半导体光刻胶技术较为领先的企业包括北京科华（量产KrF、在研ArF）、南大光电（验证ArF）、晶瑞股份（验证KrF）以及上海新阳（在研ArF、KrF）。

光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移媒介。

作用原理是利用紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,使其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。

光刻胶主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工，同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。

光刻胶又称光致抗蚀剂，由主要成分和溶剂构成，当前光刻胶主要使用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），占光刻胶含量约为80%-90%。

主要成分包括树脂、单体、光引发剂及添加助剂四类，其
7。