兰2: :
高纯碲的制备“:
扬卫东
(峨嵋半导体制料厂、所 峨眉}…I 6142(}0)
耳·’
协自要】高地碲根据其纯度可用于制作红外探测器材料、温差发电、潮汐发
桃 制 ?纯 蟪lc ,峭、【关键词】 高纯碲制备应用—砌. L 强 靶. ,I、( jc;平 、
■‘__’。‘~ 。。' 。、、,’ ’ 、 。
引言 ,
GeTe/ Pb'l
碲是 色金属稀散元素之一,地壳 CdT …,静IU复印机硒鼓感光利料 .
资源稀少,为硫的墩代物,存在于铜、 }及Te—CI什金九稍I致冷材料SI ]、
镍矿 lh J:碲 j 外材料、感光利料、娥 (1j sl Jl_ )T Bi 2(se rel_ ) 等
冷材料 及^…能【U池枣j料等方J自j的应用 我吲五1年代求阡始研制商纯碲 经
越来越广泛,地壳叫_碲资源不足 1990年 过近旧I 帕努力,高纯碲们质量已达到
肚界碲总产量200~250t,而¨乖产58t, 国际领先水平,下而列出ll本 务与我J
黄国- :6f】~7O r 酬时美国和L-本也是用 等剐利料质鲢比较:( 协ppm)
碲夫 ,1991年L【率用碲50t 美 JTj碲 “水矿务7"7 :AE(1叭;A1/;(、、.(}
60t。爵纯碲自五I fF代 } 蛳发展起米.H上 f】2;(、(【/;c.1/;reIJ 05;M且0
1】1;Ni(I f]2;
界l岛纯碲(指5N 上)总量35。。37 ̄/'a.近Pbfl f12;z】 Se0 02:Naf)05;I;i(]05:
fl"F.-'。 度成为朽发迅旧家抢占l=I勺制高点 峨蚓.乍导体材料研究所7N rc:AgI)
lf-要原 足制作 M波段的红外探删器的 l】I JI;AI<(】.005;( fJ O01:Cd0 I)05;( f】
需要,为此荚围、J_J水开始研究红外壤 mf (】(】5;F ()(】5;Mgf J_(11)5:Ni0 005:PbO
删J 3~51rot迓利128 l28元列脐,7 5 ㈨5;Zn0 0(15; 1).…;N t(1(15II lJIJs:
I1,j1I】达到64 b4元歹屿阵,燕半 列阡 ( J 0115
’J0红外 料 用 葡吨碲纯度越高川 峨蝴半导体劓料 J:究所魁全 确纯材
象越清晰,作m距离越远。 前6~7 5N 料. 种默全、质 最好的研制,{ 产, 地
碲i 受用I: 制箭 l:外怀删器材料 岛纯碲的研删是讯 埘用途录用小刚的
I【g ( (il T。、(’(1 znl Te、P l r 工艺方 ,峨岬i半导f 材料研究所脱已形
维普资讯 http://www.cqvip.com
1998年第4期
成多种物理与化学栩结合的提纯工艺,各
种规格碲的研制在国内一直为首创,现大
于7N碲的研制又达国际领先水半。
碲的提纯方法分物理法和化学法。化 学法包括水溶液还原法,电解和萃取法 由于工艺试剂用量大、纯度难以保证,因此 般用于碲的工业提纯。高纯碲提纯主要 采用物理法,包括蒸馏法、匠熔法、直拉法 等 其实质是利用金属桐变时杂质与主金 属在两相中分配的差异达到纯化金属的目 的。高纯碲制备所用的原料为工业纯4N 碲,主要杂质含量(ppm):AgO 2~10:Cu3 20;A10.2~10;PB4~40;Sel 0~9.0。 采用如下工艺获得不同纯度的高纯碲: 原料(4N)一{真空蒸馏l一5N碲一 l区域熔炼I一6N或7N碲一l拉品提纯;一 7N碲 在工艺控制方面采取一系列强化措 施,严格工艺条件,防止各种因素对材料的 污染,训E特殊的产品包装,获得开封即可 用的产品 1 过程实践及分析讨论 1 1真空蒸馏 蒸馏过程在竖式两段电阻炉内进行, 温度控制采用DWT 703控制仪。蒸馏 炉分为获得高真空体系的密闭系统和物料 固一液一气一固的物料运行系统 蒸馏熔 炼料斗与冷却套管问采用特种的材料制成 特殊结构的密到塔盘,既起到传质传热交 换提纯作用,叉起上下两段密封作用 蒸 馏提纯效果取决于杂质金属与主金属蒸气 压之问的差别大小,在真空条件下 蒸馏温 度和冷凝条件的选择以及采用的塔盘结构 决定着蒸馏产品的纯度。蒸馏完毕后套管 下端为敛密银白色结品 [J段为针状结品, 上端为薄层碲及粉状碲 , 实践丧『_J];绎过蒸馏后,叮获得杂质含 量为(ppm)AgO 2;Cut).2;AI<0 2;Ni< 0 5;Pb<0 4’Sn<0 2;Fe0 2;Cd<0 2; Sil 0;Sel 0的5N碲。合格率达到 100%。采用塔板装置,延缓了碲蒸汽的冷
凝,有助于高沸点杂质与主体金属的分离。
过程对Ag、Cu、Fe、Pb、AI等杂质都能得到
较彻底的净化 值得注意的是 采用分级
冷凝刘除se有一定效果,如果玲凝段能保
证一定的纵向温度梯度,以获得较长段而
均匀的结品物,到碲的进一步纯化是响益
的。另外,应该说明的是在处理高铅(±
50ppm)原料时.一次蒸馏产物中含Pb2~
5ppm,须进一步蒸馏。
l 2区熔精练
经蒸馏获得的5N产品作为区熔原
料。区熔车为峨半所新制全自动区熔车,
每台可四管半行作业,双排加热圈,采用
Jk 50可控硅温度调节器控温 区熔设
备分为两大部分,即还原性气氛体系部分
和洁净度极高的装料部分 在通纯H 气
氛下熔蟓,连续区域熔练20次卸车去掉头
尾后.再进行二次区域熔炼L2次。产品取
中段,作为7.5N制品,并采样分析
杂质浓度沿锭长分布可由下式给出:
C/q =l(1 k)e √
式中K=C /c 为分配系数,I 为熔区宽
度, 为杂质平均浓度,x为凝固界面与
始端问的距离
理-^上区熔提纯效果取决于熔区宽
度,移动速度,及熔体搅拌状况 此外熔区
的波动直接影响到分离效果.尤其是在慢
速区熔条件下,因此稳定H2流量、 及精
确恒温保持熔区稳定也是至关重要的。
工艺实践表明,经一次区熔后中段产
品达到6NTe质量要球,料锭曹端杂质富
集甚微、而在尾端杂质明 富集:
Agl【)ppm;Cu2ppm;Pb>301)pm;而Fe仍
为0.2ppm,没响州 富集现象 埘二次匮
维普资讯 http://www.cqvip.com
《四川有色金属》
熔尾端采样分析,所有杂质浓度都<0.
2ppm。Se杂质得到了深度净化,降到0. 01ppm。原因在于230℃ 上时se与H2 生成Hzse并呈气态被气流带走。影响产 品合格率的主要杂质是 和Fe。浓度波 动范围0.01~0 03ppm。划Ca(I()3ppm 进一步采用低速返拉l2次后,ca浓度由 I_03降至0 01ppm,而刘Fe0.03ppm返拉 8次后,Fe含量没有明显的变化,可见两杂 质无素在碲中的K值与l相当接近。产 品合格率大于62%。 工艺实践中区熔熔区返流现象值得引 起重视,熔区在舟尾t/3长度范围内有不 同程度底部回流,降低了区熔提纯效率,原 因是区焙锭上下面冷却速度桐差较大,料 锭上下收缩不均匀料锭弯曲上翘所致。采 取措施防止回流就能进一步提高提纯效 果。 1 3直拉提纯 理论上阱直拉法因有条件实现熔体搅 动,自利于杂质的分离扩散,可望得到更高 U度的碲。但划碲元素而肓.其晶体结构 复杂.键民d=2 82 ,键角 (Te'I、e re) 102:.原子呈螺旋链状结构排列, 品拉制 难度大。另一方面为l『有效抑制碲的挥 发, 苗在q-压单品炉中进行,划设备牲能要 求较高 我们为了满足用户要求.在低压 单品炉中进行拉制7 5N小棒工作,也获 得可喜的战绩 2 小 结 1.根据现有原料特点(主杂质为Cu、 Ag、Pb、Fe;Se<10ppm)采用真空蒸馏与区 熔法栩结合的办法,最终可 制备纯度为 7 5 超纯碲.产品食格率62%。影响产 品合格率的有害杂质为ca和Fe。进一步 试验 明( 和 的K值较接近于],区 熔过程中难以达到理想的净化效果,必须 在前级蒸馏过程中予以严格控制, 提高
产品合格率。
2.杂质se在真空蒸馏过程中通过分
级冷凝自一定的分离净化效果,而在通H!
区熔时,可以达到深度净化。Pb在蒸馏巾
要引起一定的重视,尤其是在处理含高错
碲原料时。
3提高区熔净化效率的有效措施除
l『车速及熔区宽度选择外,提高加热控温
精度,减少熔区宽度波动是t 分必要的,尤
其划低速区熔更为重要。同时解决熔区回
流是一个现实的问题,以充分发挥工序潜
能。
4.对直拉法提纯作了初步探讨 由
于存在成品圉难单品拉制难度大, 及碲
易挥发的特性等诸多问题,因此在制备趟
纯碲实际应用方面仍应作进一步探训。到
目前为止采用真空蒸馏法与区熔法桐结俞
的物理方法是制备超纯碲最理想的首选方
法。
参考文献
【1】 凡著区域熔炼
【2】超纯金属与半导体材料译文集
【3l孟祥盛译.现代无机化学
【4】有色金属抬金,北京:冶金工业出版社
作者简介:杨卫东.男.
32岁.工程师.1 987年毕
业于成都科技尢学化学冶
金专业, 年舟fie,t ̄3峨嵋半
导体材料厂、所第二研究室
工作 先后从事高地金属
忖料生产试制厦技术管理
工作.
维普资讯 http://www.cqvip.com