当前位置:文档之家› 多孔氧化铝模板的制备及应用

多孔氧化铝模板的制备及应用

2010,Vol.27No.2化学与生物工程Chemistry&Bioengineering74 

收稿日期:2009-09-09

作者简介:李雪芳(1972-),女,四川仁寿人,讲师,研究方向:药物制备与分析。E2mail:lasalixuefang@163.com。

多孔氧化铝模板的制备及应用李雪芳(拉萨师范高等专科学校数学与自然科学系,西藏拉萨850007)

摘 要:以磷酸溶液为电解液、以高纯铝为阳极,采用两步阳极氧化法制备氧化铝模板。扫描电子显微镜(SEM)对其表面形貌分析表明,氧化铝膜为多孔结构,膜孔径随着阳极氧化电压的增大而不断增大。对阳极氧化电流密度变化分析证实,铝的阳极氧化经历了三个阶段:阻挡层的生成、多孔层的形成和多孔层的稳定生长。以制备的氧化铝膜为阴极、锌片为阳极,以硝酸锌和硼酸的混合液为电解液,采用交流电沉积方法制备了针状氧化锌纳米线。关键词:多孔氧化铝模板;阳极氧化;电沉积;氧化锌中图分类号:O6461542 TQ15311 文献标识码:A 文章编号:1672-5425(2010)02-0074-03

纳米材料在光学、电学、磁学[1]和力学等方面具有独特的性质,因此受到了人们的广泛关注,特别是纳米有序阵列材料显得更为重要。通过电化学沉积法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶等方法在氧化铝孔内可以沉积各类物质,还可以通过修饰氧化铝膜纳米孔来制备各种不同用途的纳米材料。模板法是合成纳米线和纳米管等一维纳米材料的主要方法[2]。其中,多孔氧化铝膜作为一种重要的模板近年来得到了广泛的应用,如Masuda等[3]以氧化铝膜为模板采用两步复制法制备了具有规则排列纳米孔的铂膜和金膜。纳米氧化锌由于具有优良的光学、电学和声学等性能而成为一种重要的金属氧化物半导体材料,越来越受到重视,其制备方法有电沉积法、水热法、磁控溅射法[4,5]等,但以多孔氧化铝为模板,交流电沉积制备针状氧化锌纳米线却未见报道。作者在此采用两步阳极氧化法,于不同的电压下电解制备氧化铝膜,讨论了电压对氧化铝膜形貌的影响;并进一步以氧化铝膜为阴极,采用交流电沉积法制备了氧化锌纳米线。1 实验111 试剂与仪器磷酸、丙酮、氢氧化钠、高氯酸、乙醇、硝酸锌、硼酸等均为分析纯;实验用水为二次去离子水。DH1722型直流稳压电源,北京大华无线电仪器厂;BK250型交流变压器,上海中发电气有限公司;JSM26490LV型扫描电子显微镜,日本电子;GENE2SIS2000XMS型X2射线能谱仪,美国EDS。112 氧化铝模板的制备将高纯度(99199%)的铝片,分别在丙酮、去离子水中超声清洗2h以除去表面杂质,然后在115mol・L-1的NaOH溶液中浸泡4min,接着在高氯酸和乙醇的混合溶液(体积比为1∶4)中,以15V恒压电化学抛光3min。以70g・L

-1

H3PO4为电解液,以铝片为

阳极,室温下进行两次阳极氧化。第一次阳极氧化(氧化时间为115h)后,在6%的H3PO4溶液中浸泡4h,

以去除第一次氧化所形成的氧化膜,用去离子水冲洗干净后,进行第二次阳极氧化(氧化时间为3h)。113 氧化锌的沉积以013mol・L

-1Zn(NO3)2和011mol・L-1

H3BO4的混合溶液为电解液,采用两极体系,以氧化铝膜为阴极、Zn片为阳极,在4V、50Hz交流电作用下于沸腾溶液中沉积1h;清洗,干燥,400℃热处理3

h,即得氧化锌纳米线。114 氧化铝膜和氧化锌的形貌和成分分析膜层表面形貌通过JSM26490LV型扫描电镜(SEM)观察,加速电压为013~30kV;膜层的微区化

学成分用GENESIS2000XMS型X2射线能谱(EDS)进行分析。

2 结果与讨论211 氧化铝模板的制备21111 阳极氧化电压对多孔氧化铝形貌的影响图1是氧化电压为30V、75V、120V时,两步阳李雪芳:多孔氧化铝模板的制备及应用/2010年第2期75

极氧化法制备的多孔氧化铝膜的SEM图。

图1 不同氧化电压下制备的氧化铝膜的SEM图Fig.1 TheSEMmorphologiesofaluminumoxidefilmpreparedatdifferentanodizingvoltages

由图1可以看出,膜孔分布均匀,而且随着氧化电压的增大,多孔氧化铝的孔径和孔间距不断增大。在氧化电压为30V时,氧化铝膜孔径约为50nm、孔间距约为80nm;当氧化电压升高至75V时,氧化铝膜孔径约为100nm、孔间距约为150nm;当氧化电压升至120V时,氧化铝膜孔径约为125nm、孔间距约为200nm。根据多孔氧化铝形成机理[6],电压越高,电场强度越大,阻挡层形成的速率越大,在阻挡层内部产生的应力就越大,在应力的作用下产生的微裂纹很大,故形成的纳米孔径较大。因此,采用不同的阳极氧化电压,可以制备出不同孔径的多孔氧化铝膜。21112 阳极氧化电流与时间的关系图2是铝电极在磷酸电解液中,30V工作电压下,阳极氧化电流与时间的关系曲线。图2 阳极氧化电流与时间的关系Fig.2 Relationbetweenthecurrentandthetime由图2可以看出,阳极氧化过程大致经历了三个阶段:ab段为阻挡层形成阶段,在这个区间内铝表面形成了连续的、无孔的薄膜层,该膜层具有很高的电阻,随着时间的延长,膜层加厚,电阻增大,导致电流密度急剧下降;bc段为多孔形成阶段,随着氧化铝膜的生成,电解液同时开始对表面形成的膜层进行溶解,无孔层被电流击穿的部分首先开始溶解,使电解液温度升高,加速了无孔层的溶解而变成多孔层,因此,电流密度开始慢慢回升;cd段为多孔层增厚阶段,此时,阻挡层的溶解速率和生长速率相当,阻挡层厚度不再增加,进入了多孔层稳定增厚阶段,故电流密度趋于平稳。212 氧化锌的沉积以Zn和氧化铝模板为电极、以013mol・L

-1

Zn(NO3)2和011mol・L-1H3BO3混合溶液为电解

液,在氧化铝膜电极表面交流电沉积氧化锌的机理[7]可表示为:

第一步:NO

-3+H2O+2e-NO-2+2OH-(1)

第二步:Zn

2++2OH-

Zn(OH)2ZnO+H2O(2)

总反应:Zn

2++NO-3+2e-ZnO+NO-

2(3)

由于氧化铝膜的阻挡层具有单向导电的半导体特性[8],因此,氧化锌的沉积主要发生在交流电的负半

周。当氧化铝电极为阴极时,NO

-

3首先得电子被还

原,同时产生OH-,OH-随后和Zn2+结合生成Zn(OH)2,然后迅速失水生成氧化锌。影响氧化锌电沉积的因素很多,如溶液浓度、沉积电压、溶液的pH值和温度等[9],其中沉积电压是一个

重要的因素。特别是沉积中电压过大,则会因氢气的产生而将氧化铝膜冲破,并出现局部脱落,最终导致电沉积无法继续进行。图3为4V电压下,以氧化铝膜板为阴极,交流电沉积氧化锌的SEM图。由图3可以看出,电沉积氧化锌后,氧化铝膜的孔洞结构基本消失,微孔大部分被氧化锌所覆盖和填塞,

局部未被氧化锌覆盖的微孔尺寸有所增加,且孔壁变薄,这也说明氧化铝在氧化锌的交流电沉积过程中发生了部分溶解。李雪芳:多孔氧化铝模板的制备及应用/2010年第2期76

图3 沉积在氧化铝膜上的氧化锌Fig.3 TheSEMmorphologyofzincoxidedepositedonaluminumoxidefilm

图4为Al2O3/ZnO复合膜表面的X2射线能谱图。

图4 氧化锌的EDS能谱图Fig.4 EDSspectrumofzincoxide

由图4可以看出,膜层表面主要由Al、O和Zn三种元素组成,其中Zn、O两种元素的谱峰较强,而Al

峰较弱,这表明膜层表面主要由ZnO构成,而Al2O

3

含量较低。

3 结论在磷酸溶液中,通过调节阳极氧化电压,制备出厚度一定、孔洞分布均匀和孔径可控的氧化铝模板。随着阳极氧化电压的升高,氧化铝膜孔径逐渐增大,孔的排列也更加整齐。以氧化铝膜为阴极,交流电沉积制备出针状氧化锌纳米线。参考文献:

[1] 王成伟,彭勇,潘善林,等.α2Fe纳米线阵列膜磁各向异性的穆斯堡尔谱研究[J].物理学报,1999,48(11):214622150.

[2] 张先锋,曹安源,孙群慧,等.定向碳纳米管阵列在石英玻璃基底上的模板化生长研究[J].无机材料学报,2003,18(3):6132618.

[3] MasudaH,FukudaK.Orderedmetalnanoholearraysmadebyatwo2stepreplicationofhoneycombstructuresofanodicalumina[J].Science,1995,268(5216):146621468.[4] 吕伟,吴莉莉,朱红梅,等.水热法制备氧化锌纳米棒[J].山东大学学报(工学版),2005,35(6):124.

[5] 孙成伟,刘志文,张庆瑜.退火温度对ZnO薄膜结构和发光特性的影响[J].物理学报,2006,55(1):4302436.

[6] VrublevskyI,ParkounV,SchreckenbachJ.Analysisofporousoxidefilmgrowthonaluminuminphosphoricacidusingre2anodi2zingtechnique[J].AppliedSurfaceScience,2005,242(324):3332338.[7] YoshidaT,TochimotoM,SchlettweinD,etal.Self2assemblyofzincoxidethinfilmsmodifiedwithtetrasulfonatedmetallophthalo2cyaninesbyone2stepelectrodeposition[J].ChemistryofMateri2als,1999,11(10):265722667.[8] 朱立群1功能膜层的电沉积理论与技术[M].北京:北京航空航天大学出版社,2005:237.

[9] 叶皓,熊金平,赵旭辉,等.电沉积纳米ZnO薄膜[J].材料保护,2003,36(4):41243.

PreparationandApplicationofPorousAluminumOxideTemplateLIXue2fang(DepartmentofMathematicalandNaturalScience,LasaNormalCollege,Lasa850007,China)

Abstract:Aluminumoxidetemplatesarepreparedbytwo2stepelectrochemicalanodizingprocesswithphos2phorousacidaselectrolyteandhigh2purealuminumasanode.TheresultsofSEManalysisshowaluminumox2idehasporousstructureandtheapertureofaluminumoxidefilmincreaseswithanodizingvoltage.Theanalysesofanodizingcurrentchangingwithtimeconfirmthattheformationprocessofporousanodicaluminumoxidefilminvolvesthreestages:formationofbarrierlayer,germinationandstablegrowthofporouslayer.Moreo2ver,needlezincoxidenanowiresarepreparedbyelectrodepositionwithaluminumoxideascathode,zincplateasanode,themixtureofzincnitrateandboricacidaselectrolyte.Keywords:porousaluminumoxidetemplate;anodization;electrodeposition;zincoxide

相关主题