5、供电电源：380V 三相 50Hz 或 220V 单相
50Hz(由所用电器需要而定)；电压波动范围： 342-399V 或 198-231V；
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频率波动范围：49-51Hz. 6、设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热
水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品使用
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的位置。 6、合理布置加热装置，一般加热器结构布
局应使被镀工件温升均匀一致。 7、工件架应与真空室体绝缘，工件架的设
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计应使工件膜层均匀 8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和
离子轰击电源，离子轰击电源应具有抑制非正常
说明书中写明。
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7、设备周围环境整洁，空气清洁，不应有
引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间 导电的尘埃或气体存在。
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着填答的方框，久久不能下笔，一番迷பைடு நூலகம்过后，趴在桌子
放电装置，维持稳定
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9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电
阻值的大小，均按 GB/T11164-1999 中的 4.4.6
1、环境温度：10-30oC 2、相对湿度：不大于 75%
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3、冷却水进水温度：不高于 25oC 4、冷却水质：城市自来水或相当质量的水
1、真空镀膜机中的真空管道、静态密封零
部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合 GB/T6070 的规定。
2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室
上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空 度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口
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处安装电场屏蔽装置。 3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在
泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱 4、设备的镀膜室应设有观察窗，应设有挡
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板装置。观察窗应能观察到沉积源的情况以及其
他关键部位。
5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜
过程中的离化率，提高镀膜材料的利用率，合理 匹配沉积源的功率，合理布置沉积源在真空室体