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扫描电镜的主要结构主要包括有电子光学系统
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4.电子计算机 5.扫描显示系统
扫描显示系统是将电子束在试样表 面和观察图像的荧光屏(CRT)进行 同步光栅扫描,把电子束与试样相互作 用产生的二次电子、背散射电子及X 射 线等信号,经过探测器及信号处理系统 后,送到CRT 显示图像或照相纪录图 像。
6. 真空系统
真空系统是保证电子枪和试样室有较高的真 空度,高真空度能减少电子的能量损失和提高灯 丝寿命,并减少了电子光路的污染。真空度一般 为0.01Pa-0.001Pa,通常用机械泵-油扩散泵 抽真空。油扩散泵的残余油蒸汽在电子束的轰击 下,会分解成碳的沉积物,影响超轻元素的定量 分析结果,特别是对碳的分析影响严重。
形貌衬度原理
背散射电子
背散射电子是指入射电子与样品相 互作用(弹性和非弹性散射 )之后,再次 逸出样品表面的高能电子,其能量接近 于入射电子能量 ( E。)。背射电子的产 额随样品的原子序数增大而增加,所以 背散射电子信号的强度与样品的化学组 成有关,即与组成样品的各元素平均原 子序数有关。
背散射电子像
2. 线分析
电子束沿一条分析线进行扫描(或试 样扫描)时,能获得元素含量变化的线 分布曲线。如果和试样形貌像(二次电 子像或背散射电子像)对照分析,能直观 地获得元素在不同相或区域内的分布。
图为 耐火材料-玻璃界面元素的变化规律,图中直线 为分析线(电子束扫描线)。研究发现,玻璃中K, Na 等 元素在界面附近的变化规律不同,K, Na离子非常容易扩散 到耐火材料内部,并进入耐火材料的玻璃相中,使耐火材 料粘度大大下降,这是引起耐火材料解体的原因之一
扫描电镜图象及衬度
二次电子像
背散射电子像
入射电子 Auger电子
背散射电子
二次电子
阴极发光 X射线
样 品
透射电子
二次电子
入射电子与样品相互作用后,使样 品原子较外层电子(价带或导带电子) 电离产生的电子,称二次电子。二次电 子能量比较低,习惯上把能量小于50eV 电子统称为二次电子,仅在样品表面 5nm-10nm的深度内才能逸出表面, 这是二次电子分辨率高的重要原因之一。
比
较
透射电镜一般是电子光学系统(照明 系统)、成像放大系统、电源和真空系统 三大部分组成。
1. 电子光学系统
• 电子光学系统包括 电子枪、电磁透镜、 消像散器和扫描线圈 等。其功能是产生一 定能量的电子束、足 够大的电子束流、尽 可能小的电子束直径, 产生一个稳定大倍率高(M=Ac/As)
分辨率高(d0=dmin/M总)
景深大(F≈ d0/β)
保真度好
样品制备简单
分析方法
1. 点分析
将电子探针固定在试样感兴趣的点上,进 行定性或定量分析。该方法用于显微结构的成 份分析,例如,对材料晶界、夹杂、析出相、 沉淀物、奇异相及非化学计量材料的组成等研 究。
作用:使电子束产生横向 偏转。 主要包括:用于形成光栅 状扫描的扫描系统,以及 使样品上的电子束间断性 消隐或截断的偏转系统。 可以采用横向静电场,也 可采用横向磁场。
(a)光栅扫描
(b)角光栅扫描
电子束在样品表面进行的扫描方式
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3.信号检测放大系统
作用:收集(探测)样品在入射电子束作用下产生的各 种物理信号,并进行放大。 不同的物理信号,要用不同类型的收集系统(探测 器)。 二次电子、背散射电子和透射电子的信号都可采用 闪烁计数器来进行检测。 闪烁计数器是由闪烁体、光导管、光电倍增管组成。 具有低噪声、宽频带(10Hz~1MHz)、高增益(106)等 特点
3. 面分析
将电子束在试样表面扫描时,元素在 试样表面的分布能在CRT 上以亮度分 布显示出来(定性分析)。
a 背散射电子成分像 1000×图 b Mg X射线像 1000×图
扫描电镜原理及结构
1. 扫描电镜的工作原理及特点 扫描电镜的工作原理与闭路电视系统相似。 成像原理:利用细聚焦电子束在样品表面扫 描时激发出来的各种物理信号调制成像。类 似电视摄影显像的方式。
扫 描 电 镜 成 像 示 意 图
2. 扫描电镜的主要结构
主要包括有电子光学系统、扫描系 统、信号检测放大系统、图象显示和记 录系统、电源和真空系统等。
背散射电子像的形成,就是因为样品 表面上平均原子序数Z大的部位而形成较 亮的区域,产生较强的背散射电子信号; 而平均原子序数较低的部位则产生较少的 背散射电子,在荧光屏上或照片上就是较 暗的区域,这样就形成原子序数衬度。
ZrO2-Al2O3-SiO2系耐火材料的背 散射电子成分像,1000×
ZrO2-Al2O3-SiO2系 耐火材料的背散射 电子像。由于ZrO2 相平均原子序数远 高于Al2O3相和SiO2 相,所以图中白色 相为斜锆石,小的 白色粒状斜锆石与 灰色莫来石混合区 为莫来石-斜锆石 共析体,基体灰色 相为莫来石。
扫描电子显微镜
引言
扫描电镜结构及原理 扫描电镜图象及衬度 扫描电镜的主要特点及分析方法 扫描电镜结果分析示例
引
言
扫描电子显微镜的简称为扫描电镜,英文缩写 为SEM (Scanning Electron Microscope)。SEM与 电子探针( EPMA)的功能和结构基本相同,但 SEM一般不带波谱仪( WDS)。它是用细聚焦的 电子束轰击样品表面,通过电子与样品相互作用 产生的二次电子、背散射电子等对样品表面或断 口 形 貌 进 行 观 察 和 分 析 。 现 在 SEM 都 与 能 谱 ( EDS)组合,可以进行成分分析。所以, SEM 也是显微结构分析的主要仪器,已广泛用于材料、 冶金、矿物、生物学等领域。
二次电子象
二次电子象是表面形貌衬度,它是利用 对样品表面形貌变化敏感的物理信号作为调 节信号得到的一种象衬度。因为二次电子信 号主要来处样品表层 5 - 10nm 的深度范围, 它的强度与原子序数没有明确的关系,便对 微区表面相对于入射电子束的方向却十分敏 感,二次电子像分辨率比较高,所以适用于 显示形貌衬度。 在扫描电镜中,二次电子 检测器一般是装在入射电子束 注 意 轴线垂直的方向上。