主要基团的红外特征吸收峰
基团振动类型波数（cm-1）波长（μm）强度备注
一、烷烃类CH伸
CH伸（反称）
CH伸（对称）
CH弯（面内）
C-C伸3000～2843
2972～2880
2882～2843
1490～1350
1250～1140
3.33～3.52
3.37～3.47
3.49～3.52
6.71～
7.41
8.00～8.77
中、强
中、强
中、强
分为反称与对称
二、烯烃类CH伸
C＝C伸
CH弯（面内）
CH弯（面外）
单取代
双取代
顺式
反式3100～3000
1695～1630
1430～1290
1010～650
995～985
910～905
730～650
980～965
3.23～3.33
5.90～
6.13
7.00～7.75
9.90～15.4
10.05～10.15
10.99～11.05
13.70～15.38
10.20～10.36
中、弱
中
强
强
强
强
强
C＝C＝C为
2000～1925 cm-1
三、炔烃类CH伸
C≡C 伸
CH弯（面内）
CH弯（面外）
～3300
2270～2100
1260～1245
645～615
～3.03
4.41～4.76
7.94～8.03
15.50～16.25
中
中
强
四、取代苯类CH伸
泛频峰
骨架振动（
C
C=
ν）
CH弯（面内）
CH弯（面外）3100～3000
2000～1667
1600±20
1500±25
1580±10
1450±20
1250～1000
910～665
3.23～3.33
5.00～
6.00
6.25±0.08
6.67±0.10
6.33±0.04
6.90±0.10
8.00～10.00
10.99～15.03
变
弱
强
三、四个峰，特征
确定取代位置
单取代
邻双取代
间双取代
对双取代
1,2,3,三取代
1,3,5,三取代1,2,4,三取代
﹡1,2,3,4四取代﹡1,2,4,5四取代﹡1,2,3,5四取代﹡五取代CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
CH弯（面外）
770～730
770～730
810～750
900～860
860～800
810～750
874～835
885～860
860～800
860～800
860～800
865～810
～860
12.99～13.70
12.99～13.70
12.35～13.33
11.12～11.63
11.63～12.50
12.35～13.33
11.44～11.98
11.30～11.63
11.63～12.50
11.63～12.50
11.63～12.50
11.56～12.35
～11.63
极强
极强
极强
中
极强
强
强
中
强
强
强
强
强
五个相邻氢
四个相邻氢
三个相邻氢
一个氢（次要）
二个相邻氢
三个相邻氢与间
双易混
一个氢
一个氢
二个相邻氢
二个相邻氢
一个氢
一个氢
一个氢。