实验一光电功能薄膜的制备与分析技术
实验目的
通过对电子束热蒸发技术、离子束溅射沉积技术等薄膜制备技术的现场介绍和操作实验，使学生较好地掌握薄膜制备的基本知识和技术，注重激发学生应用所学知识解决实际问题的能力，为他们将来从事现代光电子薄膜物理与器件相关的学术研究和企业产品研发打下扎实的基础。

教学要求
1、掌握光电功能薄膜的基本制备技术：真空制备和检测技术、电子束热蒸发技术、离子束溅射沉积技术；
2、掌握薄膜分析技术：偏光显微镜测量、表面接触角测量、表面轮廓仪测量粗糙度和厚度。

实验内容与学时分配
内容 学时
1、真空的获得和检测、检漏技术；
5
光电薄膜衬底处理技术
2、光电功能薄膜制备的离子束溅射技术 9
3、光电功能制备的电子束热蒸发技术 9
4、光电功能薄膜表面粗糙度与厚度测量 8
5、光电功能薄膜的光学、电学性质测量技术 5
教材与参考书
1．《纳米光电子功能薄膜》，吴锦雷，北京大学出版社，2006
2．《薄膜材料—制备原理、技术及应用》第二版，唐伟忠，冶金工业出版社，2007 3．《离子束沉积薄膜技术及应用》，刘金声，国防冶金工业出版社，2003
4．相关科技论文查阅
5．相关仪器说明书及本项综合实验物理指导书
考试方式
论文式系统综合实验报告。