光伏硅晶片清洗工艺包括以下步骤：
1.超声波清洗：晶片浸在高功率声波的化学活性溶液中，声波引
起的振动能有效地去除硅片表面的有机颗粒污染物，同时缩短表面光电压衰减。

2.蒸馏水清洗：用蒸馏水清洗硅片表面，去除表面残留的化学杂
质。

3.热处理：通过热处理去除硅片表面的氧化层，同时使硅片表面
的金属杂质蒸发。

4.等离子清洗：用等离子清洗机处理硅片表面，去除有机污染物
和氧化物。

5.真空清洗：将硅片放入真空室中，去除表面残留的气体和污染
物。

6.高压水清洗：用高压水流清洗硅片表面，去除微小的污染物。

7.乙醇清洗：用乙醇清洗硅片表面，去除残留的水分和有机污染
物。

8.热风吹干：用热风吹干硅片表面，确保表面干燥。