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SEM及XRD分析简介 ppt课件

2d100sinθ= 2×(2d200)sinθ=2λ 2d200sinθ=λ
(hkl )的n级衍射可看作(nh nk nl)的一级衍射
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布拉格方程的讨论
sin=λ/(2d)
λ一定时,d减小,将增大; 面间距小的晶面,其掠射角必须较大
掠射角的极限范围为0°-90°,但过大或过小都会造成 衍射的探测困难
为选择反射。 晶面间距d,掠射角,反射级数n,和X射线的波长λ四个量,已知三个量
,就可以求出其余一个量。
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布拉格方程的讨论
(100)晶面发生二级衍射
2d100sinθ=2λ
假设在每两个(100) 中间均插一个原子分 布与之完全相同的面, 晶面指数(200)
(200)的面间距是d/2
衍射峰 的位置2 θ
晶面的 面间距dhkl

多种物质以混根合据物存布在拉时,它衍的射衍峰射的数据d 避免漏确定一些格含方量程较少的物相相对的强衍度射峰
对照标准衍射图 不会改变(与谱红可外以不同判)断该物质
衍射峰的 数目
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XRD的应用
1.物相分析
2.精密测定点阵参数
3.取向分析
4.晶粒大小和微观单应击添力加 的测定
材料分析方法 SEM分析方法
XRD分析方法
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SEM分析方法
SEM的结构和工作原理 SEM的主要性能 SEM的应用
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扫描电子显微镜的结构
保证电子光学系统正常工 作,防止样品污染提供高 的真空度
产生扫描电子束
稳压、稳流及相应的安全 保护电路所组成
检测样品在入射电子作用 下产生的物理信号
L层跃迁至K层, L 激发态;
ΔE=EL-EK, 能量 差以X射线光量子 的形式辐射出来
一束X射线通过物 体后,其强度将被 衰减,它是被散射 和吸收的结果,并 且吸收是造成强度 衰减的主要原因。
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晶面组
2dhklsinθ=λ
光程差 BD+BF=2dhklsin θ =nλ; 只有当d、 θ和 λ满足布拉格方程式时才能发生衍射。
像。
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SEM的主要性能
放大倍数
MM==AACC/ASS
AS: 电子束在样 品表面扫描的幅度 AC: 荧光屏上阴极 射线同步扫描幅度 M: 则扫描电子显
微镜的放大倍数
主要性能
分辨率
对微区成分分析而 言,是指能分析的 最小区域;对成像 而言,指能分辨两 点之间的最小距离
主要取决于入射 电子束直径,电子 束直径愈小,分辨
描。
出于高能电子束与样品 物质的交互作用,结果 产生了各种信息:二次 电子、背散射电子、吸 收电子、X射线、俄歇 电子、阴极发光和透射
电于等。
信号被相应的接收器接 收,经放大后送到显像 管的栅极上,调制显像 管的亮度。由于经过扫 描线圈上的电流是与显 像管相应的亮度一一对 应,也就是说,电子束 打到样品上一点时,在 显像管荧光屏上就出现 一个亮点。扫描电镜就 是这样采用逐点成像的 方法,把样品表面不同 的特征,按顺序、成比 例地转换为视频传号, 完成一帧图像,从而使 我们在荧光屏上观察到 样品表面的各种特征图
5.宏观应力的测定
6.对晶体结构不完整性的研究
7.合金相变
8.结构分析
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X射线衍射 实际的衍射谱上并非只在符合Bragg方程的2处出现强
度,在2 的附近也有一定的衍射强度分布,成峰状,也 叫衍射峰。 符合Bragg方程的2处为峰顶。 可以根据峰的位置、数目和强度得到试样的结构信息。
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X射线衍射可以得到的信息
1、物相鉴定
1.1定性
当X射线通过晶体时,每一种结晶物质都有自己的独特的衍射花样,
率愈高
景深
指透镜对高低不平 的试样各部位能同 时聚焦成像的一个
能力范围
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SEM应用
1.形貌分析:显微组织,断口形貌,三维 立体形态。
2.成分分析。 3.断裂过程动态研究。 4.结构分析。
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X射线的物理学基础
电磁波,波长较短, 具有波动性和粒子

K层出现空位, K 激发态;
d:面间距; θ:入射线(反射线)与 晶面的夹角; λ:入射光的波长,Cu靶: λkα1=1.54060, λkα2=1.54443; n:整数,反射的级数
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布拉格方程的讨论
反射≠衍射 镜面可以任意角度反射可见光 X射线只有满足布拉格方程的角上才能发生反射,因此,这种反射亦成
在荧光屏上得到反 映样品表面特征的 扫描图像。
பைடு நூலகம்
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SEM的工作原理
由最上边电子枪发 射出来的电子束, 经栅极聚焦后,在 加速电压作用下, 经过二至三个电磁 透镜所组成的电子 光学系统,电子束 会聚成一个细的电 子束聚焦在样品表 面。在末级透镜上 边装有扫描线圈, 在它的作用下使电 子束在样品表面扫
石英的衍射仪计数器记录图(部分)*右上角为
石英的德拜图,衍射峰上方为(hklPa)ge 值11 ,
X射线衍射 (单晶或多晶)晶体与x射线所产生的衍射作用 衍射斑点或谱图 分析晶体结构
确定晶体所属的晶系(物相鉴定)、晶体的晶胞参数、 晶粒尺寸的大小、结晶度、薄膜的厚度和应力分布等
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