浅谈平面光波导技术和应用
2008年5月9日 17:40 光纤在线
图2.二氧化硅光波导的制作工艺
玻璃光波导的制作工艺如图3所示，整个工艺分为五步：
1)在玻璃基片上溅射一层铝，作为离子交换时的掩模层，如图3（b）所示；
2)进行光刻，将需要的波导图形用光刻胶保护起来，如图3（c）所示；
3)采用化学腐蚀，将波导上部的铝膜去掉，如图3（d）所示；
4)将做好掩模的玻璃基片放入含Ag+－Na+离子的混合溶液中，在适当的温度下进行离子交换，如图3（e）所示，Ag+离子提升折射率，得到如图3（f）所示的沟道型光波导；
5)对沟道型光波导施以电场，将Ag+离子驱向玻璃基片深处，得到掩埋型玻璃光波导，如图3（g）所示。

图3.玻璃光波导的制作工艺
3.平面光波导的应用
铌酸锂晶体具有良好的电光特性，在电光调制器中应用广泛。

InP材料既可以制作光有源器件又可以制作光无源器件，被视为光有源/无源器件集成的最好平台。

SOI材料在MEMS器件中应用广泛，是光波导与MEMS混合集成的优良平台。

聚合物波导的热光系数是SiO2的32倍，应
用在需要热光调制的动态器件中，可以大大降低器件功耗。

玻璃波导具有最低的传输损耗和与光纤的耦合损耗，而且成本低廉，是目前商用光分路器的主要材料。

二氧化硅光波导具有良好的光学、电学、机械性能和热稳定性，被认为是无源光集成最有实用前景的技术途径。

图4.基于铌酸锂光波导的电光调制器
图5.基于玻璃光波导的光分路器
图6.基于聚合物光波导的热光开关阵列
图7.基于聚合物光波导的VOA
图8.基于二氧化硅光波导的AWG。