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简第四章 基因工程制药(二)
第四章 基因工程制药
第31页,共97页
二 基因工程菌常用的培养方式
分批培养(batch
culture);
补料分批培养(fed
batch culture); 连续培养(continuous culture); 透析培养(dialysis culture); 固定化培养(immobilized culture)。
第四章 基因工程制药(二)
基因工程菌的稳定性; 基因工程菌生长代谢的特点;
基因工程菌中试(看课本自学);
基因工程菌发酵;
基因工程药物的分离纯化;
基因工程药物的质量控制。
第六节 基因工程菌的稳定性
遗传不稳定性的表现;
遗传不稳定性的的产生机制
; 影响基因工程菌稳定性的因素; 提高质粒稳定性的方法; 质粒稳定性的分析方法 ;
第四章 基因工程制药
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质粒稳定性的分析方法
分裂稳定性:
平板稀释计数; 平板点种法。
结构稳定性:
单菌落中提取质粒,酶切后凝胶电泳或测序;
单菌落进行目标产物的表达分析,检测表达单元
的DNA。
第四章 基因工程制药
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平板稀释计数法
基因工程菌 选择性培养液
第四章 基因工程制药
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菌体生长的调控
主要有两种观点:
能量决定最大比生长速率; 小分子前体和催化组分等决定最大比生长速率。
第四章 基因工程制药
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菌体生长与能量的关系
能量(生长)>能量(有氧代谢),产生
代谢副产物乙酸;
有报道,乙酸浓度达到15g/L时菌体生长 停止; 乙酸的抑制与pH有关,适当提高pH能减 少乙酸的抑制。
菌体生长与能量的关系;
菌体生长与前体供应的关系。
第四章 基因工程制药
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菌体生长的表示方法
通常用比生长速率来表示; 比生长速率μ
:每小时单位质量的菌体所增加 的菌体量称为菌体比生长速率。它是表征微 生物生长速率的一个参数,也是发酵动力学 中的一个重要参数。其大小为0.693除以倍增 时间td(菌体量倍增)。
营养缺陷互补和抗生素抗性;
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连续培养
以一定稀释率进行不间断培养;
基因工程菌的不稳定性—连续培养困难; 解决办法:生长阶段和基因表达阶段分开,
两阶段连续培养,第一阶段质粒稳定,第二 阶段获得最高表达水平或最大产率。
关键的控制参数:诱导水平、稀释率和细胞
比生长速率。
第四章 基因工程制药
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补料分批培养
培养一段时间后,间歇或连续补加新
鲜培养基;
根据生长规律,通常控制溶氧和流加
补料结合。
第四章 基因工程制药
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透析培养
原理:利用膜的半透性 使培养物和培养基分离;
目的:去除代谢产物如 乙酸等对工程菌生长和 外源基因表达的影响;
膜、透析液、时间等;
E.coli—青霉素酰化酶 (11倍)。
第四章 基因工程基因工程菌的稳定性至少应在25代以上。
不稳定性两种表现形式:
质粒结构不稳定:重组 DNA 分子某一区域缺
失、重排、修饰,表观生物学功能丧失; 质粒分裂不稳定:分裂时出现一定比例不含 质粒的子代菌;
遗传不稳定性的的产生机制
第四章 基因工程制药
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固定化培养
基因工程菌培养的一大难题:维持质粒的稳
定性。
固定化技术应用:固定化后,质粒的稳定性
大大提高,便于连续培养,特别是对分泌型 菌更为有利。
第四章 基因工程制药
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三 基因工程菌的发酵工艺
与传统的微生物发酵工艺的区别:
生物材料方面:基因工程菌带外源重组载体;
第四章 基因工程制药
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分批培养
DO-Stat方法:
DO控制在20%(搅拌转速、通气速率);
Balanced
DO-Stat方法:
乙酸维持在低浓度(DO、搅拌转速、糖的流
加速率); 糖的流加速率和DO的平衡。
控制菌体比生长速率:
葡萄糖流速; 搅拌转速。
第四章 基因工程制药
生产目的方面: 基因工程菌生产的目的是使外源基因高效表达,
尽可能减少宿主细胞本身蛋白的污染。
基因工程菌发酵对营养要素和环境条件的需
求与宿主菌有共性之处,但也有特殊的需求。 特殊需求往往比共性需求更重要,更难满足, 经常是制约产业化的重要因素。
第四章 基因工程制药
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四 培养基组成与控制
一般,复合培养基营养较丰富,质粒稳定性
一般高于合成培养基; 但对于酵母,极限培养基比丰富培养基更有 利于维持质粒的稳定性;
比生长速率和限制性基质:
含有pBR325的E.coliGM31和GY2345: 用葡萄糖培养时,低比生长速率更容易丢失
质粒; 用氯化铵培养时,高比生长速率更容易丢失 质粒。
第四章 基因工程制药
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第八节 基因工程菌中试
看课本自学。
第四章 基因工程制药
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第九节 基因工程菌发酵
基因工程菌的培养过程;
基因工程菌常用的培养方式;
基因工程菌的发酵工艺;
培养基组成与控制;
培养工艺与控制; 其他因素对基因工程菌发酵的影响; 基因工程菌的培养设备; 高密度发酵。
基因工程菌质粒的表达需与宿主细胞竞争共同
的前体和催化结构,致工程菌生长速率降低 (工程菌的比生长速率往往低于其宿主细胞,特
别是工程菌诱导后)。
第四章 基因工程制药
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证据:在基础培养基中加入氨基酸(小分子
前体)能使菌体比生长率提高,蛋白合成增 加; 质粒存在对菌体代谢的影响(自学,P32)。
第四章 基因工程制药
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影响基因工程菌稳定性的因素
遗传特性:
宿主;
载体;
外源基因是否整合到宿主染色体上。
发酵工艺:比生长速率
培养基(生长速率、限制性基质); 温度、pH 值和溶氧;
培养操作方式;
第四章 基因工程制药
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培养基(2-1)
培养基的营养:
第四章 基因工程制药
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糖原
1-磷酸葡萄糖
a
6-磷酸葡萄糖 b
葡萄糖
6-磷酸果糖
1
果糖
1,6-二磷酸果糖
3-磷酸甘油醛
2 3
磷酸二羟丙酮
丙酮酸
3-磷酸甘油酸磷酸
3-磷酸甘油酸
磷酸烯醇式丙酮酸
第四章 基因工程制药
4
2-磷酸甘油酸
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第四章 基因工程制药
第22页,共97页
第四章 基因工程制药
第10页,共97页
培养方式
分批:相对稳定; 连续:特别是在非选择性培养基中,
质粒很不稳定;
第四章 基因工程制药
第11页,共97页
提高质粒稳定性的方法
施加选择压力(分裂不稳定有效,生产不可取): 抗药性标记:抗生素; 营养缺陷型标记:营养组份。 分阶段控制培养: 菌体生长阶段(阻遏); 菌体达到一定浓度(诱导和去阻遏)。 控制培养条件:培养基,T,pH,DO,有害代 谢物;(基因工程菌反应慢) 固定化。
对数生长期
选择性培养基
繁殖一定代数
非选择性培养液
涂布
非选择性培养 基
第四章 基因工程制药
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平板点种法
长出菌落 基因工程菌 非选择性培养基 统计菌落数 选择性培养基 (含抗性标记) 计算稳定率
第四章 基因工程制药
第15页,共97页
第七节 基因工程菌生长代谢的特点
菌体生长的表示方法; 菌体生长的调控;
培养基中添加酵母提取物和谷氨酸等有利于
提高质粒稳定性。
第四章 基因工程制药
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温度
大多数基因工程菌,在一定温度范围内,随
着温度升高,质粒稳定性下降; E.coli:
生长最适温度:37℃; 质粒稳定性最好的温度:30℃; 温敏启动子控制的质粒:42℃诱导外源基因的
低浓度—细菌生长; 高浓度目的蛋白不表达; 一般起始浓度0.015mol/L左右。
其他:维生素、生物素、营养物质(营养缺
陷型菌株)等。
第四章 基因工程制药
第42页,共97页
选择剂(selective agent)
维持工程菌的纯正性和质粒的稳定性的化合物; 目的:质粒的稳定性,根据质粒上的营养缺陷或 选择性标记基因,添加或缺陷选择剂; 选择剂种类:
第四章 基因工程制药
第19页,共97页
葡萄糖通过糖酵解产生的丙酮酸,在有氧条
件下,将进入三羧酸循环进行完全氧化,生 成H2O 和CO2,并释放出大量能量; 第一 阶段:(丙酮酸由胞液进入线粒体后) 丙酮酸的氧化脱羧(丙酮酸 乙酰CoA);
第二阶段:三羧酸循环(乙酰CoA H2O 和CO2,释放出能量)。
表达(经常伴随质粒丢失)。
第四章 基因工程制药
第8页,共97页
pH值
例如:基因工程酵母表达乙肝表面抗原的
质粒:
pH为6.0时,质粒最稳定; pH为5.0时,质粒最不稳定;
第四章 基因工程制药