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第三章 核磁共振氢谱2-化学位移
一、 饱和碳上质子的化学位移 甲基 甲基的化学位移在0.7~4ppm之间。
亚甲基(CH2)和次甲基(CH):1-2ppm Shoolery经验计算: δ :-CH< = 0.23 + ∑Ci
0.23是甲烷的化学位移值,Ci是与次甲基(亚甲
基)相连的取代基的影响参数(P95,表3.1)。 例:BrCH2Cl Br: 2.33; Cl: 2.53
(1)屏蔽效应强,共振信号在高场区,绝大多数吸收峰 均出现在它的左边。
(2)结构对称,是一个单峰。 (3)容易回收(b.p低),与样品不反应、不缔合。 低场 9 高场
8 7 6 6 5 4 3 2 1 0 -1 -2 -3
TMS
化学位移用表示,以前也用表示, 与的关系为: = 10 -
•杂环芳氢的的化学位移值 杂环芳氢的化学位移受溶剂的影响较大。一般α 位 的杂芳氢的吸收峰在较低场
6.30 7.40 6.22 6.68 7.04 7.29 7.75 7.38 6.47 7.29 8.04 7.51
O
N H
S
N
8.29
N H 吲哚 (DMSO)
N 喹啉 (DMSO)
9.10
噻吩 吡咯 呋喃 (CDCl3) (CDCl3) (CDCl3)
八、 溶剂效应
• 溶剂不同使化学位移改变的效应。
• 原因:溶剂与化合物发生相互作用。
如形成氢键、瞬时配合物等。
• 一般化合物在CCl4和CD3Cl中NMR谱重现性好。
在苯中溶剂效应则较大。
苯的溶剂效应:
1、苯对环己酮衍生物1H-NMR谱的影响 在氯仿与苯中测定的化学位移差值Δ(δCDCl3-δC6H6)对环
• 氢键效应和溶剂效应
一、 诱导效应: Y-CH中Y的电负性越大,H周围电子云密度越低, 屏蔽效应越小,越靠近低场出峰,δ值越大。
化合物 电负性 δ CH3F 4.0 4.26 CH3OH 3.5 3.14 CH3Cl 3.0 3.05 CH3Br 2.8 2.68 CH3I 2.5 2.16 CH4 2.1 0.23 TMS 1.8 0
吡啶 (DMSO)
四、 活泼氢 • 常见的活泼氢:-OH,-NH2,-SH。 • 在溶剂中活泼氢交换速度较快,浓度、温度、溶 剂对δ 值影响较大。 • 高温使OH、NH等氢键程度降低, δ 值减小。 • 识别活泼氢可采用重水交换。
完
H质子处于屏蔽区,屏蔽效应强, 共振信号移向高场, δ减小。 δ= 1.8~3 H-C≡C-H: 1.8
+:屏蔽区;-:去屏蔽区
sp2杂化碳原子上的质子:双键、苯环
sp
去屏蔽效应:核外电子产生的感应磁场与外加磁场
方向相同,核所感受到的实际磁场 B有效 大于外磁场。
苯:7.27; 乙烯:5.25;醛氢:9-10
例:在60MHz的仪器上,测得CHCl3与TMS间吸收 频率之差为437Hz,则CHCl3中1H的化学位移为:
样品- 标样 437 6 6 10 = 10 =7.28 6 0 60 10
四、 核磁共振波谱的测定
• 样品:纯度高,固体样品和粘度大的 液体样品必须溶解。
• 溶剂:氘代试剂。
核受到屏蔽,而另一些位置上的核则为去屏蔽。
化学键的各向异性,导致与其相连的氢核的化学位移
不同。
例如: δ(ppm):
CH3CH3 0.86
CH2=CH2 5.25
HC≡CH 1.80
sp杂化碳原子上的质子:叁键
碳碳叁键:直线构型,π 电子云呈 圆筒型分布,形成环电流,产生 的感应磁场与外加磁场方向相反。
规定:以四甲基硅(TMS)为标准物质,其化学位移为零,
根据其它吸收峰与零点的相对距离来确定化学位移值。
试样的共振频率
TMS的共振频率
试样 TMS 6 10 0
化学位移
仪器的射频频率
感生磁场 H'非常小,只有 外加磁场的百万分之几, 为方便起见,故 × 106
单位:ppm
选用TMS(四甲基硅烷)作为标准物质的原因?
-CH 2 -NO
13
12
11
10
9
8
7
6
5
4
3
2
1
0
各类质子的化学位移值范围
• 有机化合物中质子化学位移规律:
饱和碳原子上的质子的 值:叔碳 > 仲碳 > 伯碳 与H相连的碳上有电负性大的原子或吸电子基团 (N, O, X, NO2, CO等), 值变大。电负性越 大,吸电子能力越强, 值越大。 值:芳氢 > 烯氢 > 烷氢
第三章 核磁共振氢谱
3.1 核磁共振的基本原理 3.2 核磁共振仪 3.3 化学位移 3.4 影响化学位移的因素 3.5 各类质子的化学位移 3.6 自旋偶合和自旋裂分 3.7 偶合常数与分子结构的关系 3.8 常见的自旋系统 3.9 简化1H NMR谱的实验方法 3.10 核磁共振氢谱解析及应用
3.3 化学位移
一、 化学位移的定义: 氢核由于在分子中的化学环境不同而在不同共振 磁场强度下显示吸收峰,称为化学位移。 二、 化学位移的由来 :
核外电子的屏蔽效应
在外加磁场作用下,由
于核外电子在垂直于外加磁
场的平面绕核旋转,从而产 生与外加磁场方向相反的感 生磁场B’。
H核的实际感受到的磁场强度为:
Beff = B0 -σ· B0 = Bo(1-σ)
Hc Hb Ha OH a 4.68 b 2.40 c 1.10 Hc Hb HO Ha a 3.92 b 3.55 c 0.88
△δHa = 0.76ppm,
△δHb = 1.15ppm
Van der Waals效应 • 两核靠得很近时,带负电荷的核外电子云就会相互 排斥,使核裸露,屏蔽减小,δ增大。 • 靠近的基团越大,该效应越明显。
δ = 0.23 + 2.33 + 2.53 = 5.09ppm(实测:5.16ppm)
二、 不饱和碳上质子的化学位移
炔氢 叁键的各向异性屏蔽作用,使炔氢的化学位移出现 在1.6 –3.4ppm范围内.
烯氢(4.5-7ppm)
烯氢的化学位移可用以下经验公式计算:
δ = 5.25 + Z同 + Z顺 + Z反
CH3—CH2—CH2—X
γ β α
0.93 1.53 3.49 —OH
1.06 1.81 3.47
—Cl
试比较下面化合物分子中 Ha Hb Hc 值的大小。
CH3 CH3-O-CH2-C-CH3
a b
Cl
c
b>a>c
二、 共轭效应
7.11 6.86 6.81 OR NH2 <7.27 7.45 7.66 7.27 >7.27 8.21 NO2 COR
σ 为屏蔽常数
· B0(1-σ) 核的共振频率为: = 2
• 核外电子云密度高,屏蔽作用大(σ 值大),核的 共振吸收向高场(或低频)移动,化学位移减小。 • 核外电子云密度低,屏蔽作用小(σ 值小) ,核的
共振吸收向低场(或高频)移动,化学位移增大。
三、 化学位移的表示方法: 化学位移的差别很小,精确测量十分困难,并因仪器 不同(Bo)而不同,现采用相对数值。
5.25是乙烯的化学位移值,Z是取代基对烯氢化学位 移的影响参数(P103,表3.4)。
一般情况下影响规律:同碳取代基使化学位移增大 顺>反
三、 芳氢的化学位移 苯的化学位移为δ7.30ppm。
• 当苯环上的氢被取代后,苯环的邻、间、对位的 电子云密度发生变化,化学位移向高场或低场移动。 • 芳环氢的化学位移可按下式进行计算: δ = 7.30 -∑Si 7.30是苯的化学位移, Si为取代基对芳环氢的影响参数(P104,表3.5)。 一般情况:吸电子基团,化学位移增大 供电子基团,化学位移减小
六、 氢键的影响 • 氢键的形成 降低了核外电子云密度,有去屏蔽效应, 使质子的δ值显著增大。δ值会在很宽的范围内变化。
• 随样品浓度的增加,缔合程度增大,分子间氢键 增强,羟基氢δ值增大。
PhOH中酚羟基H的化学位移与浓度的关系:
浓度 δ/ppm 100% 7.45 20% 6.8 10% 6.4 5% 5.9 2% 4.9 1% 4.35
己酮羰基邻位的直立氢或直立甲基为正值(屏蔽),而对
邻位平伏氢或甲基氢则为很小的正值或负值(去屏蔽)。
2、苯对二甲基甲酰胺1H-NMR谱的影响 由于共轭效应,赋予N-CO 键以部分双键性质,氮上
两个甲基是不等价的。
在苯中,苯与二甲基甲酰胺形成复合 物,苯环较多地靠近带正电荷的氮而 远离带负电荷的氧,使α-甲基受到苯 环的屏蔽,所以向高场位移。
在CDCl3-C6D6混合溶剂中,随着苯溶剂 的增加,α -甲基的化学位移逐渐移向 高场,最后越过β -甲基。
α
β
3.5 各类质子的化学位移及经验计算
O=C-CH C=C-CH C C=C-H C
22-
CH 2 -
CH 2 RCHO
-CH 2 -X -CH 2 -ORCH 2 2
RCOOH
Ar-H
积分曲线 (integration line)
甲基与苯环质子的积分曲线高度比为 3:2
乙醚的核磁共振氢谱
CH3CH2OCH2CH3
3.4 影响化学位移的因素
氢核受到核外电子的屏蔽作用越大,峰越往高场移动, 化学位移δ值越小。
• 诱导效应 • 共轭效应
• 各向异性效应
• Van der Waals效应
• 标准:四甲基硅烷(内标法,外标法) • 记录纸:
五、 NMR谱的结构信息
化学位移 积分高度 偶合常数 积分高度