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光敏高分子材料

6、光能转换聚合物:吸收太阳能,并把太阳能转变为 热能,电能或化学能等的一类高分子。
第六章 第一节 光敏高分子材料概述
二、 光敏高分子的分类
7、光导电聚合物:光照的前提下,外加电压时,导 电性能显著变化的高分子化合物。 8、光致变色高分子材料: 9、高分子非线性光学材料: 10、高分子光力学材料:
◆ 如果发生物理变化,可形成荧光性能材料等 其它功能材料。
第六章 第一节 光敏高分子材料概述
一、 高分子光化学反应类型
与高分子光敏材料有关的光化学反应有光交联 (聚合)反应、光降解反应和光异构化反应。这些 反应都可以使分子吸收光能后发生能量转移,产生 化学反应。 光交联反应— 生成的聚合物分子量更大,溶解性降低。 光降解反应—分子量减小,溶解度上升。 光异构化反应—分子量不变,结构改变,吸光性能发 生改变。
第六章
第一节 光敏高分子材料概述
◆ 如果吸光后发生化学变化,导致光聚合、光交联、光降解反 应,高分子材料的溶解性发生变化,可制备什么?
光敏涂料? 光致刻蚀剂?
◆ 如果发生互变异构反应,引起材料吸收波长的变化。 可制备?
光致变色材料
第六章
第一节 光敏高分子材料概述
◆ 如果发生材料外观尺寸的变化,则形成光 力学变化材料。
第六章 第二节 光敏涂料和光敏胶
一、 光敏涂料的结构类型
目前光敏涂料除多用于建筑材料(包括木 材),金属材料等的涂料外,还用于液晶显 示器以及电子元件的封装等等。
1。环氧树脂性低聚物
O H2
H2C CH C O
CH3
CH3
CH3
O
C CH3
O
C H2
C CH3
CH2
O
n
C CH3
OCH2CH CH2
3、高分子光稳定剂:通过吸收大量的光能,使保护高 分子或其它材料在光的作用下发生质变的一类高分子。
第六章 第一节 光敏高分子材料概述
二、 光敏高分子的分类
4、高分子荧光或夜光材料:光照下,吸收光能以荧光 或磷光的形式发出的高分子材料。
5、高分子光催化剂:吸收光能后能,把光能转变为化 学能的装置,称为光能转换装置,其中本身不直接进 行光能转换,但能够促进其它物质转换作用的高分子 称为高分子光催化剂。
2。不饱和聚酯
H2C OH HC OH +
CH3
1,2-丙二醇
O
O
O+
O
O 邻苯二甲酸酐
O 马来酸酐
O O
O
O
O O
O
O O
不饱和聚酯型光敏涂料预聚体的合成
O O
聚酯型光敏高分子涂料具有坚韧,硬度高和耐溶剂性好等特点。
第六章 第二节 一. 光敏涂料的结构类型
3。聚氨酯:
具有粘接力强,耐磨等特点。但是,紫外光的作 用下颜色发生变化(变黄)。一般用含羟基的丙 烯酸(或甲基丙烯酸)与多元异氰酸酯反应得到 预聚合体。
您知道涂料的成分吗?
你知道半导体如何刻制吗?
你知道光致变色材料吗?
你相信这两个衬衫 是同一个衬衫吗?
第六章
第一节 光敏高分子材料概述
光敏高分子材料也称为光功能高分子材料
定义∶ 在光的参与作用下能够表现出某些 特殊物理或化学性能的高分子材料
化学变化:
光聚合、光交联、光降解
物理变化:
互变异构(颜色改变)、激发(导电等性能改变)、发光、 外观尺寸的变化等。
第六章
第二节 光敏涂料和光敏胶
特点:与普通涂料比较,因为不用大量溶剂挥发, 避免环境污染。固化时间短,涂层在粉刷后进行交 联等光化学反应,则可以得到交联度高,机械强度 大的涂层。
光敏涂料添加剂:交联剂,稀释剂,光敏剂或光 引发剂,阻聚集和调色剂等。
分子量要求一般为1000—5000。是低聚合物。
水性聚氨酯防水涂料(WPU)
CC
+
CC
n
n
OCOCH=CHC6H5 H
产品无毒无味,具有良好的 粘结和不透水性,对砂浆水 泥基石面和石材,金属制品 都有很强的粘附力,产品的 化学性质稳定,能长期经受 日光的照射,强度高,延伸 率大,弹性好,防水效果好。
外墙乳胶漆
产品名称:法斯特外墙乳胶漆 产品基料:丙稀酸酯共聚乳液 和进口颜填料及助剂等优质材 料。 适用范围:适用于水泥、砖石、 混凝土建筑外墙表面的饰。
O
H
C
H3C
C
OH
H
O H3C C
+N
CH3
N C O
第六章 第二节 一. 光敏涂料的结构类型
4。聚醚:
是一种低粘度涂料。价格低。合成一般环氧化合物 和多元醇缩聚而成。如:
CH2OH
O CHOH
+ H2C CH CH3 CH2 3
CH2OH
CH3 CH2(O-CHCH2)nOH
CH(O-CHCH2)nOH
CH2
CH3 3
CH2(O-CHCH2)nOH
CH3
第六章 第二节 光敏涂料和光敏胶
二、光致抗蚀剂或光刻胶
按性能分类,可分为正胶和负胶。 正胶:经过光照后溶解性增大。 负胶:经过光照后溶解性降低。
第六章 第二节 光敏涂料和光敏胶
二、光致抗蚀剂或光刻胶
主要用途:在集成电路制造中,半导体氧化层中许 多地方要除去,部分地方要留下。一般采用化学 腐蚀法。这样根据事先设计好的图按,利用适当 的光敏高分子胶可以保护或破坏被涂半导体层进 行化学腐蚀,可以达到保留或除去的目的。这种 技术目前在电子工业中起着重要的作用。
第六章 第一节 光敏高分子材料概述
二、1、光高敏分高子分光子敏的涂分料类:
当聚合物在光照下,通过光化学反应聚合或交联, 迅速固化,从而达到保护或美化材料表面的一种涂 料。
2、高分子光刻胶:通过光化学反应(光交联或光降解) 改变聚合物,增加光加工性来制成某一些特殊元件的 一类高分子。多用于集成电路工业。
第六章 第二节 光敏涂料和光敏胶
光刻胶的作用原理如下:
涂胶
正胶
负胶
氧化层 基层
暴光
显影 刻蚀 剥胶
坚膜
第六章
第二节 光敏涂料和光敏胶
1. 常用的负性抗蚀剂(光刻胶)
H2 H
C
C n
+
OH
O CH CHCCl
H2 H CC
n OCOCH=CHC6H5
H2 H CC
n
H2 H
H2 OCOCH=CHC6H5
第一节 光敏高分子材料概述小结
• 光敏高分子的定义?
• 高分子光化学反应类型?光交联、光降解、 光异构化反应
• 光敏高分子的分类?
1、高分子光敏涂料: 2、高分子光刻胶: 3、高分子光稳定剂: 4、高分子荧光或夜光材料: 5、高分子光催化剂: 6、光能转换聚合物: 7、光导电聚合物: 8、光致变色高分子材料: 9、高分子非线性光学材料:10、高分子光力学材料:
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