第4期 金属有机配合物的合成及晶体培养 9 金属有机配合物的合成及晶体培养
田龙吴晓青施雪军丁浩 (中北大学研究生院化学系,山西太原,030051)
摘 要 金属有机配合物因具有独特的催化活性、光学特性、磁学性质和生物学性质等而受到人们的广 泛关注。它们在磁性材料、发光材料、非线性光学材料、微孔材料的研制方面扮演着重要的角色。 本文详细介绍了金属有机配合物的6种合成方法及它们各自的优缺点,总结出了晶体生长的几种 关键因素并对各种因素进行了详细的分析。 关键词:金属配合物合成方法晶体
当前多种无机物如金属氧化物等被广泛应用于 光电子材料、分离和催化等过程。由于这些材料是 由无机元素组成的,其结构的改造和修饰难度很大, 难以根据实际需要来控制其大小、形状以及物理化 学特性。而有机化合物则具有优良的分子剪裁与修 饰的功能,但它们却在坚固性与稳定性等方面具有 明显的缺点。如何将元机和有机化合物两者互补的 性能结合起来,构筑结构可塑、稳定、坚固的新型杂 化材料已成为无机化学与材料科学领域中的重要研 究课题。无机材料和有机材料在众多领域中都有应 用,无杌广有机杂化材料同样具有诱人的应用前景, 目前的研究趋势主要集中在与光电磁性质有关的材 料、催化材料、分子识别、生物传导材料、仿生材料、 分子筛等领域。 近年来,随着晶体工程理论研究的不断深化及 其在分子识别、分子材料和分子器件的研究和开发 中日益广泛的应用,晶体工程已成为设计组装各种 光、电、磁、离子交换、催化等新型功能材料的主要合 成策略。 1金属有机配合物的合成方法 对于金属有机配合物的合成,常用方法有常规 溶液反应法、水热法、溶剂热法、流变相反应法、电化 学合成方法、微波和紫外光照方法等。 ‘ 1.1常规溶液反应法 此方法是合成配合物的最常用、最简便的方法。 即将金属盐和配体溶解在适当的溶剂中,通过溶液 中的自组装得目标产物,它包括降温法、蒸发法、气 相扩散法、液层扩散法等。此方法适用于溶解度和 温度系数均较大的物质。(1)蒸发法:通过缓慢蒸发 将溶剂不断移去,使溶液达到过饱和状态而析出晶 体:(2)气相扩散法:将金属盐与有机配体(如芳香羧 酸)溶于适当溶剂中,将气态碱性物质(如三乙胺)扩 散进该溶剂中使有机配体脱去质子而与金属离子配 位得到产物;(3)液层扩散法:即将金属盐和配体溶 于不同的溶剂中,然后将一种溶液小心地置于另一 种溶液上方,两种溶液问通过相互扩散发生反应得 到产物L1]。 1.2水热合成法 水热合成法是近几年所发展起来的制备配位聚 合物的一种优秀的合成手段,水热合成新技术最初 是地质和矿物学家用于在实验室里对地质和矿物形 成过程进行模拟。随着研究的深入和石英单晶的水 热合成成功,水热方法在沸石的合成中已经取得了 丰硕的成果。水热合成的重点已经转移到利用水热 反应条件合成某些具有特殊物理性质和功能的晶体 材料。水热反应,典型条件为在自身压力下,温度介 于100—260 ̄C之间。在这种条件下,水的粘度减 万方数据10 四川化工 第15卷2012年第4期 小,扩散过程加强,从而有利于固体的溶剂萃取和晶 体生长。由于在这种条件下,各物质的溶解度的差 异变小,使得各种简单的前驱体以及大量的有机和/ 或无机的结构指导剂可被引入到水热体系中_2j,张 丽[3]等采用水热法合成了具有二维和三维结构的配 位超分子配合物。 1.3溶剂热法 溶剂热法指在水热法的基础上,用有机溶剂代 替水作为反应介质,用类似水热合成的原理来制备 目标化合物的一种新方法。有机溶剂在反应过程中 与水热法不同的是溶剂热法所用到的溶剂多数为有 机溶剂。溶剂热合成常用到的溶剂有:氨、醇类(甲 醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇、甘油)、胺类(如乙二 胺、N,N_二甲基甲酰胺、乙醇胺)、二甲亚砜、环丁 砜、吡啶等[4]。有机溶剂在反应过程中既是反应的 介质,又起到了矿化剂的作用。有机溶剂带有不同 的官能团,种类繁多,具有不同的极性,不同的介电 常数和不同的沸点、粘度等,性质差异很大,可大大 地增加合成路线和合成产物结构的多样性 。以有 机溶剂替代水,不仅扩展了水热技术的应用范围,而 且还可以实现一些在通常条件下无法实现的反 应[ 。
1.4电化学合成方法 电化学合成也叫电解合成,是利用电解手段在 电极表面进行电极反应从而生成新物质的一种合成 方法。与其他配合物合成方法相比,电化学合成目 前应用还比较少。在电化学合成过程中,通过改变 电极电位可以合成不同的产品,同时也可以通过控 制电极电位使反应按预定的目标进行,从而获得高 纯度的目标产物,具有较高的产率及选择性[ 。在 合成过程中,电子转移和化学反应这两个过程可以 同时进行。采用电化学方法合成过渡金属配合物一 般是在常温、常压下进行,不需加催化剂,电化学方 法可取代某些氧化剂和还原剂,并且氧化、还原媒质 可在电解槽中再生,节约了原料、降低了成本、减少 了污染,是绿色合成的重要途径之一[8]。 1.5固相合成法 固相合成油低温与高温之分,在配合物合成中 高温固相合成很少使用,应用比较广泛的是低温固 相合成 ]。固相合成方法具有产率高、节省溶剂、污 染小、便于操作和控制的优点。张瑞平通过用低温 固相合成方法合成了四种芳香羧酸配合物__g]。 1.6微波和紫外光照方法 水热/溶剂热方法培养配合物晶体过程中,辅以 微波和紫外技术,不仅可以增大配体溶解性还可能 改变配位反历程,生成具有新颖结构的配位产物[10j Chang等人利用微波合成法制备多孑L配位聚合物, 发现该方法不仅效率高,制得产物性能更加优异,且 所得结构难以利用常规方法合成出来口 ;MacGilli— vray等利用紫外技术,使含有烯键的桥联配体在配 位聚合过程中同时发生原位的二聚反应,生成含有 四元环配体的配位聚合物[1 。 2影响晶体培养的因素 2.1杂质的影响 杂质在结晶过程中一般是难以避免的,广义上 的杂质还应该包括溶剂本身。杂质是不能消除的, 其对晶体的影响是多方面的。它既可以影响溶解度 和溶液的性质也会显著地改变晶体的结晶习性,同 时杂质在晶体的不同晶面上经常发生选择性吸咐使 晶面生长受阻,而改变各晶面的相对生长速度 ]。 2.2 pH值的影响 在溶液中存在着大量的H+或OH一,溶液中的 氢离子浓度对晶体生长的影响是很显著的。溶液中 的pH值可以改变晶面的吸附能力;改变杂质的活 性,即改变杂质络合和水合状态。使杂质敏化或印 化。而对晶体生长有直接影响的是通过改变晶面的 相对生长速度,引起晶体生长习性的变化[H]。 2.3温度影响 晶体培养的温度对晶体的生长习性和晶体质量 都有影响。从溶液中生长晶体最重要的是溶解度, 而溶解度又与温度息息相关。要使晶体从溶液中析 出,就必须使溶液处于过饱和状态,有两种方法:一 种是降温法,另一种就是恒温蒸发法 坫]。 2.4溶液过饱和度的影响 从低温溶液中生长晶体的关键因素是控制溶液 的过饱和度。它是众多的生长参数中最基本的数
万方数据第4期 金属有机配合物的合成及晶体培养 11 据,晶体只有在稳定的过饱和溶液中生长才能确保 晶体质量_1引。控制溶液的过饱和度主要在于控制 溶剂的挥发量,如果挥发量过大溶液的过饱和度大 次形成的晶核多就不利于晶体的生长,挥发量过 小溶液的过饱和度小晶体的生长速度过慢不利于培 养晶体[M]。
2.5搅拌的影晌 当物质混合时通常用磁力搅拌器搅拌,这样可 以使物质更好的混合,但是搅拌速度不宜太快搅拌 时间也不宜太长这些都不利于晶体的生长,会使析 出的晶体太小,不利于对晶体的检测和表征。总之, 晶体培养过程中上述每一种条件的微小的变化都有 可能导致晶体质量和产率的变化,甚至生成全新的 骨架结构。
3结束语 材料是社会生产力的重要因素,是人类进行物 质生产和精神文明活动的物质基础。随着科学技术 的不断进步人们对各种材料特别是功能材料不论是 从数量上还是从品种质量上都提出了越来越高的要 求,晶体材料由于具有一系列宝贵的物理性能,如它 能实现电磁声力光和热的交互作用和相互转换,使 得晶体材料成为各种技术特别是高新技术不可缺少 的重要材料之一[坫]。
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