黄光制程
黄光制程（also known as黄色光刻技术）是一种微电子制程中常用的制造技术，它广泛应用于芯片制造和半导体工业。

黄光制程利用光刻和影像传输来定义微电子设备中的图案和结构。

黄光制程包括以下几个步骤：
1. 制备底片：将待制造的芯片涂覆在一个平坦的基片（通常是硅片）上。

2. 涂覆光刻胶：将光刻胶均匀涂覆在芯片上。

光刻胶可以在曝光后形成所需的图案。

3. 曝光：使用光刻机将芯片暴露在特定的光源下，光刻胶将在所暴露的区域发生化学反应。

4. 显影：用显影剂将未暴露的部分光刻胶去除，形成所需的图案。

5. 蚀刻：使用化学或物理的腐蚀方法去除裸露的芯片表面材料，形成所需的结构。

6. 清洗和检验：将芯片清洗干净并进行质量检验，以确保芯片制造的质量与要求相符。

黄光制程是制造集成电路和其他微电子器件的核心技术之一，它可以实现高精度和高分辨率的图案定义。

随着微电子技术的不断发展，黄光制程也在不断改进和演进，以满足日益复杂和精细的设备制造需求。