清 洗 P3 kaltfin 20 + P3 Etarap ES 漂 洗 漂 洗 漂 洗 （Байду номын сангаас水） 烘 干
85-100℃
1
2
烘箱
过滤器
油水分离器
废水处 理系统 离子交换塔 自来水
贮油槽
活性炭
LCD清洗剂的要求
• 不损害玻璃。 • 对封口胶无害。 – 环氧树脂, 丙烯酸树脂 • 不损害金属。 – 铝, 银, 铜
PI 前 清 洗
漂 洗
P3 siliron HS(2 槽) 1- 5%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 浸渍＋超声波 P3 siliron LS(2 槽) 1- 3%, 45 -60 ℃, 5-10 min. 喷淋＋刷洗
去离子水 (4-5 槽)
RT - 60 ℃ , 5-10 min. 浸渍＋超声波
刻蚀 Color Filter 曝光 显影
去除边缘，显影
清洗
去除研磨和切割残留物
光阻 BM制程
Array board 光刻制程
Array board 基板玻璃
清洗
曝光
去除光阻
检测
去除边缘
去除光阻
检测
印框胶
面板组合
注射液晶
清洗 去除残留液晶
贴偏振片
检测
下一道工序
LCD基板玻璃表面的污染物
污染物分类 有机污染物 污染物来源 包装纸中的有机物、指 印、油脂等 清洗方法 玻璃清洗剂清洗 碱液清洗
切割后 清洗
P3 siliron AP P3 siliron HS P3 siliron L P3 siliron E
P3 siliron TK P3 siliron TKA
P3 siliron S P3 siliron SA
最新产品：P3 siliron AP 去除研磨剂 P3 siliron SA 去除颗粒，纸屑，玻璃屑，油污
LCD 清洗技术简介
汉高股份有限公司
电子产品的发展方向 TFT-LCD
LCD的结构
透明电极
Color Filter
集成电路
反射片
Black Matrix
玻璃基板
液 晶
导向膜 反射片 光源
Array Board
ITO玻璃制造流程和玻璃清洗剂
母板
CeO 研磨
研磨后 清洗
涂膜前 清洗
ITO 涂膜
切割
UV光照射(O3)清洗 无机污染物 灰尘、玻璃屑或研磨剂 等微粒子(particle) 超音波清洗
喷淋加毛刷清洗 配合溢流与过滤
基板预清洗
一.目的： 对PI 投入前之基板做清洗工作，确保基板之清洁状态。 二.原理： 利用洗剂、毛刷、超音波、IR、UV等装置，将基板上的微粒及油 污清除。
LCD基板清洗
1. 表面活性剂和助洗剂的协同作用，显示出卓越的清洗性能 2. 采用了漂洗助剂，残留物极易漂洗干净。
助洗剂 / 表面活性剂的协同作用
清洗能力 (%)
100 80 60 40 20
助洗剂 + 表面活性剂
助洗剂浓度: 2.0 % 表面活性剂浓度: 0.1 % 清洗温度: 60 °C
助洗剂 表面活性剂 水
0 0 1 3 5 10
Lit. from: Oberfläche-Surface 1984, Rossmann: Reinigung starrer Oberflächen
处理时间 (min)
水洗水
脱脂 水洗
水洗水计算方程式 (简化式)
n Co Cx
L =m 1 2 3
L m n Co Cx
= = = = =
彩色滤光片的制造过程
P3 poleve HP P3 disperse H
BM 基板清洗
光阻 涂布 前段 预烤 紫外线 曝光 去除边缘 显影 后段 烘烤 ITO 制程
重复三次(R,G,B)
玻璃基板
彩色层
黑色矩阵
ITO导电膜
保护层
TFT-LCD 制造流程
金属铬 BM制程
Color Filter 基板玻璃
去离子水 (4-5 槽)
RT - 60 ℃ , 5-10 min. 喷淋＋刷洗
强碱清洗的特点
强碱与玻璃有一定的亲合力，容易在玻璃表面形成碱性覆盖 膜，不易被漂洗除去。为解决碱液吸附残留表面问题，需采 取增加冲洗次数的方法改善，一般清洗设备会设计更多的清 洗和漂洗槽，但这也增加了设备费用成本。
P3 siliron系列玻璃清洗剂的特点
水洗水的消耗 (l/m2表面) 带出量 (l/m2表面) 水洗区的水洗槽数量 最后脱脂槽的浓度 (g/l) 最后水洗槽的浓度 (g/l)
举例: m = 10 ml/m2 表面 Co = 25 g/l Cx = 0.01 g/l 稀释比例=1:2500
消耗量: 1 个水洗槽 2 个水洗槽 3 个水洗槽
LCD 清洗条件
泄漏液晶清洗
清 洗
P3 kaltfin 20 (2 槽)
45 - 60 ℃, 5-10 min. 超声波＋搅拌
漂 洗
IPA (3 槽)
RT - 45 ℃ , 15-20 min. 超声波＋搅拌
P3 kaltfin 20 + P3 Etarap ES (2 槽)
45 - 60 ℃, 5-10 min. 超声波＋搅拌
以X光能量分散光谱仪
(Energy Dispersive Spectrometer)
分析微粒子污染物，确认该微粒 子为玻璃屑
泄漏液晶清洗
一.目的：
对封口、裂片、磨边后之液晶片作清洗工作，主要目的是去除狭 隘中的残留液晶。
二.原理： 利用液晶清洗剂、超音波等装置，配合溢流(overflow)与过滤 (filtration)将狭隘中的残留液晶以及表面的微粒清除干净。 由于STN-LCD工艺是先将液晶盒裁切(裂片)之后才进行清洗，可 以预知液晶盒的玻璃面板边缘与表面，除了沾附液晶分子，亦将 附着许多玻璃屑(微粒子)，所以清洗槽的溢流与过滤功能就显得 非常重要。
25.00 l/m2 表面 0.50 l/m2 表面 0.14 l/m2 表面
LCD基板玻璃清洗条件
控制项目 清洗剂浓度测定: 每天进行一次 电导率法 酸碱滴定 － 总碱 定期添加
约5g/m2
LCD基板玻璃清洗条件
测试方法 水膜浸润度 扫描式电子显微镜(SEM) X光能量分散光谱仪(EDS)
颗粒残留
Pure Water (4 槽或以上)
40 - 60 ℃ , 15-20 min. 超声波＋搅拌
P3 allpass 7000/7750 (2 槽)
45 - 60 ℃, 5-10 min.
超声波＋搅拌
Pure Water (4 槽或以上)
40 - 60 ℃ , 15-20 min. 超声波＋搅拌
LCD 清洗工艺