(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910356353.8
(22)申请日 2019.04.29
(71)申请人 福建良格厨卫有限公司
地址 362699 福建省泉州市永春县介福乡
紫美村487号
(72)发明人 林孝发　林孝山　杨晋泳　张向卫　
(74)专利代理机构 厦门仕诚联合知识产权代理
事务所(普通合伙) 35227
代理人 邱冬新
(51)Int.Cl.
C03C 8/20(2006.01)
C04B 41/89(2006.01)
(54)发明名称一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉、制备及其使用(57)摘要本发明提供了一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉、制备及其使用，所述自洁釉修补釉原料组成包括如下质量份的物质：石英30-40、钾长石粉25-35、方解石14-20、白云石2-6、氧化铝2-6、氧化锌5-10、舒洁熔块0-8、高岭土0-5、硅酸锆2-6，其中，所述硅酸锆在陶瓷中主要起乳浊的效果，所以硅酸锆的加入量会影响到釉的透明度，用来调整色差，同时本申请提出的自洁釉修补釉的熔融温度和熔长与底釉的熔融温度和熔长很接近，有利于减少毛孔，对瑕疵陶瓷进行修补后，与传统的修补釉和修补方法相比，与陶瓷本体釉面色差相接近，且毛孔少，
修补效果好。

权利要求书1页 说明书3页CN 110171927 A 2019.08.27
C N 110171927
A
权　利　要　求　书1/1页CN 110171927 A
1.一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉，其特征在于，所述自洁釉修补釉原料组成包括如下质量份的物质：石英30-40、钾长石粉25-35、方解石14-20、白云石2-6、氧化铝2-6、氧化锌5-10、舒洁熔块0-8、高岭土0-5、硅酸锆2-6。

2.根据权利要求1所述的一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉，其特征在于，所述自洁釉修补釉原料组成包括如下质量份的物质：石英3
3.61、钾长石粉29.71、方解石15.55、白云石3.97、氧化铝2.12、氧化锌6.47、舒洁熔块1.48、高岭土：2.16、硅酸锆
4.93。

3.根据权利要求1所述的一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉，其特征在于，所述自洁釉修补釉熔长60-80mm/4g，所述底釉熔长55-70mm/4g。

4.一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉的制备方法，其特征在于，将权利要求1或2或3中所述的用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉的原料进行球磨成釉浆，出磨后釉浆过200目筛网，烘干、冷却、加入水和CMC溶液进行研磨，研磨到没有颗粒状且含水量为17％。

5.一种用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉的使用方法，其特征在于，在待修补位置先补底釉，再补上权利要求1或2中所述的用于卫生陶瓷的自洁釉修补釉，所述自洁釉修补釉与所述底釉的质量比为1：4。

2。